專利名稱：具有光學(xué)紋路的高耐磨3d轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種可以用于制造出各種不同表面效果的曲面彩繪轉(zhuǎn)寫的轉(zhuǎn)印 紙的結(jié)構(gòu)，特別涉及一種可轉(zhuǎn)寫于塑膠件鎂鋁合金、鋁合金或金屬件之筆等產(chǎn)品上的高耐 磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前一般鎂鋁合金或鋁合金的筆記型電腦產(chǎn)品都是以涂裝為主，產(chǎn)品的外觀和生 產(chǎn)效率有待改進。
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明目的本實用新型是為了產(chǎn)品能顯現(xiàn)外觀的突破與有更高的生產(chǎn)效率、降低 成本與環(huán)保維護，提供一種具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)。技術(shù)方案一種具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，包括戴膜體、光學(xué)紋路 層、預(yù)硬化層、色墨層和熱熔膠層，所述戴膜體上設(shè)有光學(xué)紋路層，光學(xué)紋路層上設(shè)有預(yù)硬 化層，預(yù)硬化層上設(shè)有色墨層，色墨層上設(shè)有熱熔膠層。作為優(yōu)選，所述戴膜體為壓克力樹酯(polyacrylic resin)、聚酯樹酯 (polyesterresin)、聚醋酸乙烯樹酯(polyacetate resin)、聚氯乙烯與醋酸乙烯共聚合體 (polyvinly chloride and acrylic polymerization resin)者。作為優(yōu)選，所述戴膜體可抽成薄膜(film)，且厚度在50至250micrOn者。作為優(yōu)選，所述光學(xué)紋路層為壓克力系、ΕΡ0ΧΥ、聚酯系等高溫硬化型等，其涂布厚 度在12至50micron者。作為優(yōu)選，所述光學(xué)紋路層可以直接于基材上施以光學(xué)紋路壓紋。作為優(yōu)選，所述光學(xué)紋路層經(jīng)加工轉(zhuǎn)印完后具有可離形性。作為優(yōu)選，所述預(yù)硬化層為壓克力系、ΕΡ0ΧΥ、聚酯系等常溫可干燥，其涂布厚度在 8至40micron者，其常溫時不硬化，但可經(jīng)由紫外線照射進行硬化，以便增加轉(zhuǎn)印完后的高 抗損性與高磨性。作為優(yōu)選，所述色墨層為壓克力系、ΕΡ0ΧΥ、聚酯系等高溫硬化型等，但為帶顏色 者，其印刷厚度在3至30micron者。作為優(yōu)選，所述熱熔膠層為壓克力樹酯(polyacrylic resin)、聚酯樹酯 (polyesterresin)、環(huán)氧樹酉旨(epoxy. resin)等者。有益效果本實用新型可呈現(xiàn)高亮光、消光、亮消同存、或光學(xué)視覺立體紋路等效 果并轉(zhuǎn)印完后具有高耐磨抗損之特性，可以無需再烤漆之保護，降低環(huán)境污染；可以說是一 外殼裝飾彩繪的突破又兼具環(huán)保功能之發(fā)明。

附圖為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
作進一步說明如附圖所示一種具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，包括戴膜體1、光學(xué)紋 路層2、預(yù)硬化層3、色墨層4和熱熔膠層5，所述戴膜體1上設(shè)有光學(xué)紋路層2，光學(xué)紋路層 2上設(shè)有預(yù)硬化層3，預(yù)硬化層3上設(shè)有色墨層4，色墨層4上設(shè)有熱熔膠層5。所述戴膜體1為壓克力樹酯(polyacrylic resin)、聚酯樹酯(polyester resin)、聚醋酸乙烯樹酯(polyacetate resin)、聚氯乙烯與醋酸乙烯共聚合體 (polyvinlychloride and acrylic polymerization resin)者。所述戴膜體 1 可才由成薄膜 (film)，且厚度在 50 至 250micron 者。所述光學(xué)紋路層2為壓克力系、ΕΡO(jiān)ΧΥ、聚酯系等高溫硬化型等，其涂布厚度在12 至50micron者。所述光學(xué)紋路層2可以直接于基材上施以光學(xué)紋路壓紋。所述光學(xué)紋路 層2經(jīng)加工轉(zhuǎn)印完后具有可離形性。所述預(yù)硬化層3為壓克力系、ΕΡO(jiān)ΧΥ、聚酯系等常溫可干燥，其涂布厚度在8至 40micron者，其常溫時不硬化，但可經(jīng)由紫外線照射進行硬化，以便增加轉(zhuǎn)印完后的高抗損 性與高磨性。所述色墨層4為壓克力系、ΕΡO(jiān)ΧΥ、聚酯系等高溫硬化型等，但為帶顏色者，其印刷 厚度在3至30micron者。所述熱熔膠層5為壓克力樹酯(polyacrylic resin)、聚酯樹酯(polyester resin)、環(huán)氧樹酯(epoxy. resin)等者。
權(quán)利要求一種具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，其特征在于包括戴膜體(1)、光學(xué)紋路層(2)、預(yù)硬化層(3)、色墨層(4)和熱熔膠層(5)，所述戴膜體(1)上設(shè)有光學(xué)紋路層(2)，光學(xué)紋路層(2)上設(shè)有預(yù)硬化層(3)，預(yù)硬化層(3)上設(shè)有色墨層(4)，色墨層(4)上設(shè)有熱熔膠層(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，其特征在于所 述戴膜體(1)為壓克力樹酯(polyacrylic resin)、聚酯樹酯(polyester resin)、聚醋酸 乙烯樹酯(polyacetate resin)、聚氯乙烯與醋酸乙烯共聚合體(polyvinlychloride and acrylic polymerization resin)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，其特征在于所述 光學(xué)紋路層(2)為壓克力系、ΕΡ0ΧΥ、聚酯系高溫硬化型，其涂布厚度在12至50micron。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，其特征在于所述 光學(xué)紋路層(2)可以直接于基材上施以光學(xué)紋路壓紋。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，其特征在于所述 光學(xué)紋路層(2)經(jīng)加工轉(zhuǎn)印完后具有可離形性。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，其特征在于所述 預(yù)硬化層(3)為壓克力系、ΕΡ0ΧΥ、聚酯系常溫可干燥，其涂布厚度在8至40micron。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，其特征在于所 述色墨層(4)為壓克力系、ΕΡ0ΧΥ、聚酯系高溫硬化型，但為帶顏色者，其印刷厚度在3至 30micron。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，其特征在于所述 熱熔膠層(5)為壓克力樹酯(polyacrylic resin)、聚酯樹酯(polyester resin)、環(huán)氧樹 酉旨(epoxy. resin)。
專利摘要本實用新型提供了一種具有光學(xué)紋路的高耐磨3D轉(zhuǎn)印紙的結(jié)構(gòu)，包括戴膜體、光學(xué)紋路層、預(yù)硬化層、色墨層和熱熔膠層，所述戴膜體上設(shè)有光學(xué)紋路層，光學(xué)紋路層上設(shè)有預(yù)硬化層，預(yù)硬化層上設(shè)有色墨層，色墨層上設(shè)有熱熔膠層。本實用新型可呈現(xiàn)高亮光、消光、亮消同存、或光學(xué)視覺立體紋路等效果并轉(zhuǎn)印完后具有高耐磨抗損之特性，可以無需再烤漆之保護，降低環(huán)境污染；可以說是一外殼裝飾彩繪的突破又兼具環(huán)保功能之發(fā)明。
文檔編號C08L63/00GK201769590SQ20102010221
公開日2011年3月23日 申請日期2010年1月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月26日
發(fā)明者李浪 申請人:江蘇傳藝科技有限公司