疊的鄰近架子20。底部12鄰接著與底部12相鄰的架子20，如果采用了多個架子20，其會是最低堆疊的架子20，底部12的壁26與相鄰的架子20鄰接?？梢匀魏谓M合利用任何已知的技術(shù)，如熔接(例如，超聲焊接)、粘接和/或機(jī)械連接(例如，互鎖的舌和榫)，以提供在它們的界面處的不透液體的密封。密封構(gòu)件，如墊圈，可插入相鄰元件之間，如在頂部14和相鄰的架子20之間。墊圈材料可選擇為透氣性的，但不透液性的。此外，一個或多個通風(fēng)開口 37可在底部12、頂部14和/或一個或多個架子20中形成。透氣性的/不透液性的膜39可被設(shè)置為延伸跨過一個或多個通風(fēng)開口 37。
[0039]底部12、頂部14和架子20可制成不同的形狀以提供不同的用于細(xì)胞培養(yǎng)的表面積。相應(yīng)地，容器10可以以不同的尺寸和不同的形狀形成，例如如附圖中所示的那樣的扁瓶狀?？蛇x地，容器10可具有矩形形狀，或者形成其它多邊形或其它形狀。優(yōu)選地，容器10包括第一末端38，該第一末端38形成為用以支持容器10使之處于直立位置，從而各架子20是向上排列的。這對于裝載細(xì)胞培養(yǎng)液來達(dá)到平衡是優(yōu)選的狀態(tài)。更優(yōu)選地，第一末端38位于容器10上與管狀頸16的開口 18相對的位置。第一末端38可為平面的或多個點(diǎn)的軌跡(locus)，所述多個點(diǎn)共同界定一支撐平面。
[0040]底部12、頂部14和架子20形成了容器10。底部12、頂部14和架子20相應(yīng)的壁26、30、36，以及底部12和頂部14相應(yīng)的基底24、28界定了容器10外表面的各部分。
[0041]為了達(dá)到平衡，優(yōu)選的是，流動孔32b處于鄰近第一末端38的位置。在這種方式下，如圖16所示，細(xì)胞培養(yǎng)基C置于容器10中，容器10由第一末端38支撐，細(xì)胞培養(yǎng)基C可通過流動孔32b，并在底部12、架子20和頂部14之間分開的空間(V1、V2、V3……)實(shí)現(xiàn)平衡狀態(tài)。如圖18所示，從這種平衡狀態(tài)后，容器10被水平設(shè)置，并由底部12支撐著。細(xì)胞培養(yǎng)基C的分開的各部分量因此而被分布在由底部12或架子20界定的支撐底層上。
[0042]優(yōu)選地，細(xì)胞培養(yǎng)基C在底部12、架子20和頂部14之間平衡成同等體積。均等的間距，如在底部12、頂部14和架子20相應(yīng)的基底24、28和34之間的間距z，可以在各層之間分出均等體積，特別是在鄰近容器10的第一末端38處。
[0043]如圖13-14所示，頂部14的基底34整體上可形成為大致平面形。如圖14所示，為了允許良好的吸液管進(jìn)入，頂部14的基底34與鄰近架子20的基底28分隔出了一些部分，這些部分比在架子20的基底28之間、或底部12的基底24和鄰近架子20的基底28之間的z間距大。如圖17所示，這個增大的間距(間距q)使得吸液管能穿過容器10的整個長度并與第一末端38接觸。因此，在細(xì)胞培養(yǎng)后，容器10由第一末端38支撐時，可利用吸液管通道來進(jìn)行有效的細(xì)胞培養(yǎng)基及細(xì)胞回收。然而，相較于各架子20之間形成的空間、以及底部12和其相鄰的架子20之間形成的空間，在頂部14的基底34和相鄰的架子20的基底28之間的增大間距可導(dǎo)致在頂部14和相鄰的架子20之間形成擴(kuò)大的空間。
[0044]優(yōu)選地，頂部14的基底34由第一、第二和第三部分42、44、46分別形成，縮小了在接近第一末端38處的頂部14的基底34和相鄰的架子20的基底28之間形成的空間。具體地說，參考圖18，第一部分42位于與相鄰的架子20的基底28的距離為x的位置，第二部分44位于與相鄰的架子20的基底28的距離為y的位置，距離x大于距離y。從第一末端38延伸出第二部分44，從而部分地封閉鄰近第一末端38的空間。優(yōu)選地，距離y與間距z相等，間距z設(shè)在每對相鄰的架子20之間，以及底部12和相鄰的架子20之間。進(jìn)一步優(yōu)選地，第二部分44具有從第一末端38延伸的預(yù)定長度L，該長度與容納目標(biāo)平衡空間所需長度相等或更長。如圖16所示，在這種方式下，隨著細(xì)胞培養(yǎng)基C達(dá)到平衡，第二部分44共同延伸或超過細(xì)胞培養(yǎng)基c的高度(被平衡為空間m……)。優(yōu)選地，在平衡狀態(tài)時，細(xì)胞培養(yǎng)基C的高度低于第三部分46。細(xì)胞培養(yǎng)基C的高度在第二部分44之上、接觸第三部分46，可能導(dǎo)致由平衡產(chǎn)生的不均等體積。采用第一、第二和第三部分42、44、46的布置，可提供給第一末端38良好的吸液管通路，其包括進(jìn)入接近第一末端38的在第二部分44附近的空間的通路，吸液管通過在第一部分42附近的更高區(qū)域。這種排列也允許在各層之間平衡出均等的體積。第一部分和第二部分42、44可各自形成平面，可平行排列，盡管其它形狀(如，弓形)也是可用的。
[0045]基底34的第三部分46在第一部分和第二部分42、44之間延伸并對第一部分和第二部分42、44加以結(jié)合。優(yōu)選地，第三部分46形成平面，然而可形成其它形狀，例如弓形輪廓。有利地，第三部分46可界定出合適的表面來打印或承載其它標(biāo)記，如條形碼。對于第二部分44界定出的平面，第三部分46置于范圍為約10-90度的夾角α，更優(yōu)選地，范圍是約10-30度，更優(yōu)選地，夾角α是約20度。與第二部分44成角度設(shè)置的第三部分46提供了帶錐度的表面，在容器10由第一末端38支撐時，該表面導(dǎo)引細(xì)胞培養(yǎng)基C流向第一末端38。盡管夾角α為90度是可能的，然而優(yōu)選的夾角α是小于90度，以防止任何細(xì)胞培養(yǎng)基或細(xì)胞殘留在第一和第三部分42、26的交接處。
[0046]如圖1所示，隨著第二部分44的應(yīng)用，可在容器10中界定凹處48。頂部14的壁36可部分地形成凹處48的邊界。凹處48提供了在壁36的暴露區(qū)域的把柄功能，允許使用者通過該處而抓住容器。
[0047]如圖2所示，優(yōu)選地，各氣體傳送孔32a沿直線對準(zhǔn)，以在封閉空間22中界定出氣體流動通道40。優(yōu)選地，氣體流動通道40延伸到管狀頸16中限定的開口 18附近。貫穿架子20的氣體流動通道40允許氣體流動到達(dá)封閉的空間22的各個部分。
[0048]如上所討論的，以及圖18所示，在細(xì)胞培養(yǎng)的使用狀態(tài)時，容器10被置于由底部12支撐。在這個位置上，細(xì)胞培養(yǎng)基C由于其液體的本性而跨過相應(yīng)的底部12或架子20的基底24、28的表面而布置。就底部12而言，壁26提供了對液體的約束以蔣細(xì)胞培養(yǎng)基C保持在基底24的上方。就架子20而言，為了提供約束以阻止組織細(xì)胞培養(yǎng)基C通過任何孔32(32a、32b)，約束壁50可沿著每一個孔32的邊緣設(shè)置，作為堤壩。優(yōu)選地，架子20的壁30的高度高于約束壁50的高度。在這種方式下，可以在架子20之間的各層細(xì)胞培養(yǎng)基C的上方保持開口空間。
[0049]底部12和架子20可被構(gòu)造為用于處理不同容量的細(xì)胞培養(yǎng)基C，雖然優(yōu)選的是在相同的容器10內(nèi)，每一層容納相同的空間。底部12的基底24和壁26界定了在底部12上用于接納細(xì)胞培養(yǎng)基C的空間。每一個架子20的基底28、壁30和約束壁50界定了各架子上方用于接納細(xì)胞培養(yǎng)基C的空間。底部12和架子20可被構(gòu)造為各自容納范圍為4-50mL的細(xì)胞培養(yǎng)基C體積。由于底部12沒有其內(nèi)形成孔32，底部12的表面積可比每一個架子20的表面積更大；這樣，在底部12上的細(xì)胞培養(yǎng)基C層的高度可略低于在各架子20上的細(xì)胞培養(yǎng)基C層的高度。考慮到每一層細(xì)胞培養(yǎng)基C的體積量來設(shè)置間距z，以保證在細(xì)胞培養(yǎng)基C層的上方的足夠頂部空間，用于適當(dāng)?shù)胤峙錃怏w。
[0050]細(xì)胞培養(yǎng)基C通過約束壁50經(jīng)毛細(xì)作用吸到相應(yīng)孔32的現(xiàn)象受到關(guān)注。如圖11、15和19所示，優(yōu)選地，約束壁50沿著弓形縱向軸線彎曲。弓形的形狀抵抗了毛細(xì)管吸引力，并給約束壁50提供了抗毛細(xì)作用效果?？?2(32a、32b)可形成弓形，約束壁50沿著其邊緣設(shè)置。此外，如圖11、15和19所示，孔32可具有各種構(gòu)造。具體地說，氣體傳送孔32a可延伸跨過架子20的側(cè)邊緣52的一部分來形成(圖11和15)，或沿著架子20的側(cè)邊緣52的全長延伸而形成(圖19)。
[0051]約束壁50可設(shè)有其它抗毛細(xì)作用特征，如相較于各自架子20的基底28成角度地設(shè)置(圖21);設(shè)有弓形橫截面(圖23);和/或，包括背離相應(yīng)孔32的非平滑表面53。如圖20-24所示，非平滑表面53可包括各種表面中斷或突起，如隆起、凹坑、粗糙區(qū)域、條紋等等。這些抗毛細(xì)作用特征旨在破壞毛細(xì)管吸引。附加地，或者可選地，約束壁50可被制造成或被制備成具有疏水部分來排斥細(xì)胞培養(yǎng)基C。例如，約束壁50終止處的自由邊緣54可制備成疏水的。約束壁50的其它部分可做同樣處理。為進(jìn)一步增強(qiáng)這種效果，架子20的基底28的一些部分可制成親水的，以增強(qiáng)細(xì)胞培養(yǎng)基C在架子20的基底28上的保持力。這些各種抗毛細(xì)作用特征可以各種組合方式使用。
[0052]容器10可設(shè)有額外的特征或變化。例如，參考圖2和25，管狀頸16可設(shè)為相對容器10成不同的角取向。如圖2所示，管狀頸16沿著縱向軸線延伸，該縱向軸線與最上面的架子20的基底28界定出的平面成夾角β而設(shè)置。夾角β可在約0-90度的范圍。如圖2所示，夾角為O度時，管狀