專利名稱：涂布片制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種涂布片制造方法，尤其是涉及使用于噴墨記錄的涂布片制造方法。采用本發(fā)明的涂布片制造方法，可形成噴墨記錄層的墨吸收速度和涂膜裂紋控制都較佳的涂層，尤其是可實現(xiàn)光澤性噴墨記錄片所要求的高光澤、高墨吸收性、高打印濃度、高畫質(zhì)(點的正圓性)。
本申請以2004年2月25日申請的日本特許申請2004-048905號為基礎(chǔ)主張優(yōu)先權(quán)，其內(nèi)容引用到本說明書中。
背景技術(shù)：
對于使水性墨從微細的噴嘴向噴墨記錄片噴出以在噴墨記錄片表面上形成圖像的噴墨記錄方式，由于記錄時噪音小、容易形成全彩圖像、可高速記錄、以及記錄成本比其他打印裝置低廉等原因，在終端打印機、傳真機、繪圖儀或帳票打印等中被廣泛應(yīng)用。
近年來，由于打印機的迅速普及和高精細化、高速化而要求提高墨吸收速度，并且，由于數(shù)碼相機的出現(xiàn)，又強烈要求圖像的均勻性達到與銀鹽方式的照片相當?shù)某潭?。另外，為了使記錄圖像的品質(zhì)接近照片圖像的品質(zhì)，希望進一步提高圖像記錄濃度和光澤性。
另一方面，為了實現(xiàn)與銀鹽照片相當?shù)膱D像保存性，也提出了對墨本身進行改良的方案，與一直以來作為主流的使用了親水性高的著色劑的水性染料墨(以下稱為染料墨)同時，分散有耐水性和耐光性優(yōu)異的疏水性著色顏料的墨(以下稱為顏料墨)也開始被廣泛使用。
顏料墨中的著色顏料容易滯留在涂布片表面，而在以前提供的染料墨所對應(yīng)的高光澤的噴墨記錄片中，顏料墨的定影性和耐摩擦性較差，因而迫切需要一種染料、顏料墨均能以高畫質(zhì)進行打印的記錄介質(zhì)。
為了實現(xiàn)銀鹽照片的畫質(zhì)，如日本特開平7-276789號公報(參照專利文獻1)、日本特開平9-183267號公報(參照專利文獻2)、日本特開平9-286165號公報(參照專利文獻3)和日本特許第3325141號公報(參照專利文獻4)等的公開所述，作為記錄層的基本構(gòu)成使用超微細顏料和聚乙烯醇(以下稱為PVA)，對墨吸收速度和裂紋進行調(diào)整。為了進行裂紋控制，具有由抑制干燥引起的生產(chǎn)率顯著下降的問題、以及由使用高聚合度的PVA引起的涂料穩(wěn)定性顯著降低的問題。在日本特開2000-218927號公報(參照專利文獻5)中，嘗試使用凝膠通過低溫的增粘效果來控制涂膜的裂紋，但凝膠沒有PVA那樣的粘合力，且涂膜容易變成不透明的，因此，存在很難完全防止裂紋的問題、以及不能得到照片那樣的畫質(zhì)的問題。
為了更容易地控制涂膜的裂紋，如日本特許第3321700號公報(參照專利文獻6)、日本特開2003-231342號公報(參照專利文獻7)等的公開所述，采用在涂料中或在涂布的同時使用含硼化合物使涂料增粘或凝膠化的方法。雖然對涂膜的裂紋控制來說是非常有效的方法，但由于硼化合物和PVA交聯(lián)，涂膜容易折斷，尤其是在低溫狀況下，由于涂膜變得脆弱而存在嚴重的問題。并且，硼類化合物是排水限制物質(zhì)，考慮到環(huán)境負荷，急需采用代替方法。
不使用硼類化合物且可簡單地進行裂紋控制的研究在日本特開2002-160439號公報(參照專利文獻8)中被公開。但是，由于通過電子射線照射使涂料水合凝膠化，而電子射線照射設(shè)備昂貴且電子照射對基材的損傷較大，故不能說是簡便的制造方法。
最近，日本特開2003-40916號公報(參照專利文獻9)中提出了如下制造方法作為粘合劑使用在小于等于一定溫度(感溫點)的溫度范圍顯示親水性、在高于感溫點的溫度范圍顯示疏水性的高分子化合物，并進行裂紋的控制，從而提供與銀鹽照片相當?shù)漠嬞|(zhì)。但是，由于涂料在涂布后要進行冷卻并干燥，所以在干燥機之前需要設(shè)置冷卻區(qū)，設(shè)備的負擔非常大。并且，即使在冷卻區(qū)進行冷卻，效率也較差，不僅涂料很難馬上增粘，并且表面易于凝固，對裂紋控制來說不利。
專利文獻1日本特開平7-276789號公報專利文獻2日本特開平9-183267號公報專利文獻3日本特開平9-286165號公報專利文獻4日本特許第3325141號公報專利文獻5日本特開2000-218927號公報專利文獻6日本特許第3321700號公報專利文獻7日本特開2003-231342號公報專利文獻8日本特開2002-160439號公報專利文獻9日本特開2003-40916號公報發(fā)明內(nèi)容為解決上述問題，本發(fā)明提供一種可更加簡單地使噴墨記錄片的記錄層的墨吸收速度和涂膜裂紋控制都較佳的涂布片制造方法。尤其是提供一種用于制造可實現(xiàn)光澤性噴墨記錄片所要求的高光澤、高墨吸收性、高打印濃度、高畫質(zhì)(點的正圓性)的噴墨記錄片的涂布片制造方法。
本發(fā)明人經(jīng)過潛心研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過采取特定的制造方法可解決上述問題，從而達成本發(fā)明。
<1>一種涂布片制造方法，是在支持體上或在形成于支持體上的下涂層上涂布含有根據(jù)溫度變化而可逆地顯示親水性和疏水性的感溫性高分子化合物的涂液，其特征在于包括將溫度處在該感溫性高分子化合物顯示親水性的溫度范圍內(nèi)的處理液涂布在該支持體上或形成在支持體上的下涂層上的工序；以及在涂布該處理液的同時、或者在涂布后沒有干燥的情況下涂布含有該感溫性高分子化合物的涂液的工序。
<2>在<1>所述的涂布片制造方法中，在感溫性高分子化合物顯示親水性的溫度范圍內(nèi)，對含有感溫性高分子化合物的涂液進行增粘、凝膠化。
<3>在<1>或<2>所述的涂布片制造方法中，處理液的溶劑是水。
<4>在<1>至<3>中任一項所述的涂布片制造方法中，處理液含有選自陽離子性高分子、水溶性多價金屬鹽中的至少一種。
<5>在<1>至<4>中任一項所述的涂布片制造方法中，含有感溫性高分子化合物的涂液含有顏料。
<6>在<1>至<5>中任一項所述的涂布片制造方法中，含有感溫性高分子化合物的涂液含有陽離子性化合物。
<7>在<1>至<6>中任一項所述的涂布片制造方法中，感溫性高分子化合物在感溫點以上顯示疏水性，在感溫點以下顯示親水性。
<8>在<7>所述的涂布片制造方法中，涂液的溫度比感溫性高分子化合物的感溫點低10℃以上。
<9>在<1>至<8>中任一項所述的涂布片制造方法中，含有感溫性高分子化合物的涂液含有無機微粒。
<10>在<1>至<9>中任一項所述的涂布片制造方法中，在支持體上形成以無機微粒和粘合劑為主要成分的多孔層后，涂布處理液，涂布含有感溫性高分子化合物的涂液。
<11>在<1>至<10>中任一項所述的涂布片制造方法中，還包括在涂布含有感溫性高分子化合物的涂液后、壓接到鏡面滾筒上并進行干燥的工序。
<12>在<1>至<11>中任一項所述的涂布片制造方法中，還包括在含有感溫性高分子化合物的涂液干燥形成的涂層上進一步涂布以膠體微粒為主要成分的涂液的工序。
<13>在<1>至<12>中任一項所述的涂布片制造方法中，涂布片是記錄片。
<14>在<1>至<13>中任一項所述的涂布片制造方法中，涂布片是噴墨記錄片。
<15>一種噴墨記錄用涂布片制造方法，在支持體上形成以無機微粒和粘合劑為主要成分的多孔層后，涂布含有根據(jù)溫度變化而可逆地顯示親水性和疏水性的感溫性高分子化合物和無機微粒的涂液，其特征在于包括將溫度處在該感溫性高分子化合物顯示親水性的溫度范圍內(nèi)的處理液涂布在該多孔層上的工序；以及在涂布該處理液的同時、或者在涂布后而沒有干燥的情況下涂布含有該感溫性高分子化合物和無機微粒的涂液的工序。
<16>在<15>所述的涂布片制造方法中，在所述多孔層的細孔分布曲線上，在0.1～10μm和0.5μm以下分別具有峰值，且細孔容積在0.5ml/g以上。
另外，本發(fā)明也包含以下方案。
(1)一種噴墨記錄片制造方法，用于在支持體上形成具有感溫性高分子化合物和無機微粒的墨接受層，該感溫性高分子化合物在感溫點以上的溫度不會使涂液增粘，而在不到感溫點的溫度會使涂液增粘或凝膠化，其特征在于在涂布處于該感溫性高分子化合物增粘或凝膠化的溫度范圍的處理液的同時、或者在涂布后沒有干燥的情況下，涂布含有感溫性高分子化合物和無機微粒的涂液。
(2)在(1)所述的噴墨記錄片制造方法中，在感溫性高分子化合物顯示親水性的溫度范圍內(nèi)，使含有感溫性高分子化合物的涂液增粘、凝膠化。
(3)在(1)或(2)所述的噴墨記錄片制造方法中，處理液的溶劑是水。
(4)在(1)至(3)中任一項所述的噴墨記錄片制造方法中，處理液含有選自陽離子性高分子、水溶性多價金屬鹽中的至少一種。
(5)在(1)至(4)中任一項所述的噴墨記錄片制造方法中，含有感溫性高分子化合物的涂液含有陽離子性化合物。
(6)在(1)至(5)中任一項所述的噴墨記錄片制造方法中，感溫性高分子化合物在感溫點以上顯示疏水性，在感溫點以下顯示親水性。
(7)在(6)所述的涂布片制造方法中，感溫點在15～30℃的范圍內(nèi)。
(8)在(6)或(7)所述的噴墨記錄片制造方法中，在涂布含有感溫性高分子化合物的涂液之前、或在涂布的同時涂布的涂液的溫度，比感溫性高分子化合物的感溫點低10℃以上。
(9)在(1)至(8)中任一項所述的噴墨記錄片制造方法中，墨接受層中含有的無機微粒的平均粒徑為0.01～1μm。
(10)在(9)所述的噴墨記錄片制造方法中，平均粒徑為0.01～1μm的微細顏料是選自氣相法二氧化硅、多孔二氧化硅、使活性硅酸縮合制成的濕式法二氧化硅的膠狀物、膠體二氧化硅、礬土氧化物及礬土水合物中的至少一種。
(11)在(9)或(10)所述的噴墨記錄片制造方法中，平均粒徑為0.01～1μm的微細顏料是用陽離子性化合物處理后得到的二氧化硅-陽離子性化合物凝聚體粒子。
(12)在(10)所述的噴墨記錄片制造方法中，平均粒徑為0.01～1μm的微細礬土氧化物是氣相法礬土微粒。
(13)在(1)至(12)中任一項所述的噴墨記錄片制造方法中，在支持體和墨接受層之間具有以無機微粒和粘合劑為主要成分的多孔層，涂布處理液，涂布含有感溫性高分子化合物和無機微粒的涂液。
(14)在(13)所述的噴墨記錄片制造方法中，在多孔層的細孔分布曲線上，在0.1～10μm和0.5μm以下分別具有峰值，且細孔容積在0.5ml/g以上。
(15)在(1)至(14)中任一項所述的噴墨記錄片制造方法中，在涂布含有感溫性高分子化合物的涂液后，壓接到鏡面滾筒上并進行干燥。
(16)在(15)所述的噴墨記錄片制造方法中，在涂布含有感溫性高分子化合物的涂液的同時、或者在涂層呈現(xiàn)減速干燥之前，壓接到鏡面滾筒上并進行干燥。
(17)在(1)至(15)中任一項所述的噴墨記錄片制造方法中，在含有感溫性高分子化合物的涂液干燥后形成的墨接受層上進一步涂布以膠體微粒為主要成分的涂液。
(18)在(17)所述的噴墨記錄片制造方法中，在含有感溫性高分子化合物的涂液干燥后形成的墨接受層上進一步涂布以膠體微粒為主要成分的涂液，且與此同時，壓接到鏡面滾筒上并進行干燥。
采用本發(fā)明的涂布片制造方法，可形成噴墨記錄層的墨吸收速度和涂膜裂紋控制都較佳的涂層，尤其是可實現(xiàn)光澤噴墨記錄片所要求的高光澤、高墨吸收性、高打印濃度、高畫質(zhì)(點的正圓性)。
具體實施例方式
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的涂布片制造方法，是在支持體上或在形成在支持體上的下涂層上涂布含有根據(jù)溫度變化而可逆地顯示親水性和疏水性的感溫性高分子化合物的涂液，其特征在于在涂布處于該感溫性高分子化合物顯示親水性的溫度范圍內(nèi)的處理液的同時、或者在涂布后沒有干燥的情況下，涂布含有感溫性高分子化合物的涂液。
根據(jù)溫度變化而可逆地顯示親水性和疏水性的感溫性高分子化合物將會在后面說明，其是以感溫點為界顯示親水性和疏水性的不同性質(zhì)的化合物。并且，雖然本發(fā)明的方法可用于制造所有的涂布片，但為了方便說明，以噴墨記錄片為代表例說明本發(fā)明。因此，本發(fā)明并不限定為噴墨記錄片制造方法。
(處理液)在本發(fā)明的一個實施方式中，以感溫性高分子化合物的感溫點以上的溫度在支持體或下涂層上涂布含有感溫性高分子化合物和顏料的墨接受層用涂液，但在該涂布的同時或在涂布之前，在支持體或下涂層上涂布溫度調(diào)整為感溫性高分子化合物的感溫點以下的處理液，從而在涂布墨接受層用涂液時，該涂液中含有的感溫性高分子化合物將增粘或發(fā)生凝膠化(以下也稱為增粘、凝膠化)，然后，在進入干燥工序時可得知涂膜的裂紋防止效果非常強。其理由雖然不確定，但推測如下例如在涂布墨接受層的涂液后進行冷卻時，雖然涂液的確被增粘、凝膠化，但與涂液的表面相比，在涂液的內(nèi)部和與支持體或下涂層交界的部分，增粘、凝膠化的程度較弱，因此，裂紋防止效果弱。采用本發(fā)明的制造方法，通過涂布處理液，支持體或下涂層部分的溫度首先降低，該部分的增粘、凝膠化強度變得極其強。并且，為了提高光澤，含有所述感溫性高分子化合物的墨接受層在用本發(fā)明的制造方法增粘、凝膠化后，在濕潤狀態(tài)下壓接到被加熱的鏡面滾筒上進行干燥，然后從鏡面滾筒上剝離，如此制成后，還具有更易于得到高光澤的效果。
尤其是涂布處理液時的溫度比感溫性高分子化合物的感溫點低10℃以上時，裂紋防止效果顯著。涂料的溶劑沒有特殊限定，但從使用方便性來說最好是水。處理液含有陽離子性高分子、水溶性多價金屬鹽，因此在涂布到支持體或下涂層上時向內(nèi)浸透，耐水性的提高效果和耐熱濕滲透的提高效果顯著。
在本發(fā)明中，最好采用在感溫點以下的處理液未干燥的狀態(tài)下涂布含有感溫性高分子化合物的涂液的濕對濕法。
作為在不含有膠凝劑的情況下根據(jù)溫度變化而凝膠化的物質(zhì)，除上述外，也可列舉日本特開平8-244334號公報等公開的在感溫點以下的溫度范圍顯示疏水性、在高于感溫點的溫度范圍顯示親水性的感溫性高分子化合物等。若為該化合物，則只要在以感溫點以下的溫度涂布構(gòu)成墨接受層的涂液的同時或在涂布之前，在支持體或下涂層上涂布感溫點以上的溫度的處理液，即可得到本發(fā)明的效果。
(支持體)作為本發(fā)明的支持體，只要是公知的片狀支持體即可，沒有特殊限定。例如，作為非透氣性基材，可適當使用玻璃紙、聚乙烯、聚丙烯、軟質(zhì)聚氯乙烯、硬質(zhì)聚氯乙烯、聚酯等薄膜類，聚烯烴層壓紙(例如聚乙烯層壓紙)、金屬薄片、金屬箔、合成紙、無紡布等片狀基材類。另一方面，作為透氣性基材，可適當使用優(yōu)質(zhì)紙、銅版紙、涂料紙、鑄塑涂料紙、箔紙、牛皮紙、鋇氧紙、板紙、浸漬紙、蒸鍍紙、水溶性紙等紙基材類。
作為噴墨記錄用的支持體，也可適當使用上述非透氣性基材和透氣性基材，為了得到照片程度的記錄片，尤其優(yōu)選銅版紙、涂料紙、較厚的高緊度原紙、鋇氧紙等紙基材以及聚乙烯層壓紙(尤其是混入有氧化鈦的聚乙烯樹脂包覆紙，所謂的RC紙)、合成紙等。
作為紙基材，是以木材紙漿和根據(jù)需要含有的填料為主要成分構(gòu)成的。
木材紙漿可使用各種化學(xué)紙漿、機械紙漿、再生紙漿等，為了調(diào)節(jié)紙力、造紙適合性等，這些紙漿可利用打漿機調(diào)節(jié)打漿度。紙漿的打漿度(freeness)沒有特殊限定，一般為250～550ml(CSFJIS-P-8121)左右。為了提高平滑性，最好加大打漿度，但是記錄在紙張上時，墨中的水分會導(dǎo)致記錄用紙凹陷不平以及記錄畫像的滲色，很多時候不促進打漿會得到良好的效果。因此，打漿度最好在300～500ml左右。
添加填料的目的是為了賦予不透明性等或調(diào)節(jié)墨吸收性，填料可使用碳酸鈣、煅燒高嶺土、硅石、氧化鈦、塑膠顏料等。尤其是碳酸鈣，由于是白色度高的基材，故優(yōu)選。如果在噴墨記錄片的紙基材中作為填料添加碳酸鈣，則記錄片的光澤感提高，故優(yōu)選。另外，在將煅燒高嶺土、硅石、沸石作為填料添加時，可吸收噴墨油墨中的溶劑，故優(yōu)選使用。
紙基材中的填料的含有率(灰分)優(yōu)選1～20％左右，過多時則有可能使紙力下降。過少時則導(dǎo)致紙基材的透氣性變差，因此，填料含有率優(yōu)選為7～20％。在該范圍內(nèi)，可達到平滑度、透氣度和紙力的均衡，因此，結(jié)果是容易得到光澤感優(yōu)異的噴墨記錄片。
在紙基材中，作為輔助劑可添加上膠劑、定影劑、紙力增強劑、陽離子劑、成品率提高劑、染料、熒光增白劑等。另外，在造紙機的上膠壓榨工序中，涂布、浸漬淀粉、聚乙烯醇類、陽離子樹脂等可調(diào)整表面強度、上膠度等。ステキヒト上膠度(基于JIS-P-8122測定，使用100g/m2的紙)可為1～250秒左右。若上膠度較低，則有時存在涂布時產(chǎn)生褶皺等操作上的問題，若較高，則墨吸收性下降，有時打印后卷曲、起皺的情況較明顯。上膠度優(yōu)選4～230秒，更優(yōu)選30～210秒。基材的基重沒有特殊限定，可為20～400g/m2左右，優(yōu)選50～250g/m2的范圍，更優(yōu)選175～230g/m2的范圍?；目蛇m當使用例如優(yōu)質(zhì)紙、銅版紙、涂料紙、鑄塑涂料紙、牛皮紙、鋇氧紙、浸漬紙、蒸鍍紙、水溶性紙等紙類。
另外，為了實現(xiàn)涂布片的高光澤度，在最外層處于濕潤狀態(tài)的期間內(nèi)壓接到被加熱的鏡面滾筒上，且最好是壓接到被加熱的鏡面滾筒上并使其干燥，此時優(yōu)選使用透氣性基材。作為透氣性基材只要是具有透氣性的基材即可，沒有特殊限定，可適當選用一般涂料紙等中所使用的酸性紙或中性紙等紙基材。另外，也可使用具有透氣性的樹脂片類和無紡布類等。
透氣性基材的透氣度(JIS-P-8117)優(yōu)選20～500sec左右，更優(yōu)選35～300sec。若透氣度低于20sec，則得到的噴墨記錄片表面的凹陷大，外觀光澤感可能會變差。另一方面，若大于500sec，則向鏡面滾筒壓接時不容易向滾筒上貼附，且最外層不能充分干燥，所以有可能很難得到高表面光澤度。
作為非透氣性支持體，可使用樹脂薄膜、無紡布等，或者是將樹脂薄膜通過粘接劑與涂料紙和優(yōu)質(zhì)紙等貼合而形成，或者是在紙上層壓樹脂等的樹脂包覆紙。其中，若使用樹脂薄膜或?qū)訅河袠渲募?，則耐水性優(yōu)異。
作為樹脂薄膜，可列舉作為熱塑性樹脂的聚酯樹脂、烯烴樹脂、尼龍等。作為聚酯樹脂，可列舉聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯及聚對苯二甲酸環(huán)己酯等；作為烯烴樹脂，可列舉由聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物構(gòu)成的物質(zhì)、或以這些物質(zhì)為主要成分的物質(zhì)。另外，這些熱塑性樹脂可適當?shù)剡x擇一種或兩種以上進行使用，作為其他的熱塑性樹脂也可混合使用聚苯乙烯、丙烯酸酯共聚物等。
也可使用將這些熱塑性樹脂沿縱向及/或橫向拉伸成形的薄膜。另外，也可在該熱塑性樹脂中混入無機微細粉末形成薄膜，并對其進行例如單軸拉伸處理或雙軸拉伸處理后形成紙狀層。在本發(fā)明中，作為支持體使用將這種薄膜層疊多層后得到的多層薄膜，例如在基材層的兩面或單面設(shè)有紙狀層的二～三層薄膜、或在該至少單面的紙狀層上形成有表面層的三～五層薄膜等。這種將熱塑性樹脂作為紙狀層的物質(zhì)公知有合成紙。
另外，作為層壓樹脂而成的紙，可列舉擠壓熱塑性樹脂并進行層壓的紙；作為熱塑性樹脂，可列舉聚丙烯、聚乙烯等聚烯烴樹脂和聚酯樹脂。在熱塑性樹脂中可適當添加以二氧化鈦等顏料為代表的染料和紫外線吸收劑等。
根據(jù)形成在支持體上的涂層的形成方法或使用用途等，可從上述列舉的支持體中適當選用支持體。當然，可以利用熒光染料、熒光顏料等來調(diào)節(jié)色調(diào)，也可以設(shè)置防帶電層、增粘層、屏蔽層，也可實施電暈處理等。
(下涂層)根據(jù)需要形成在支持體上的下涂層只要是具有顏料和粘接劑的層即可。本發(fā)明由于在涂布具有感溫性高分子化合物的涂液之前或同時涂布處理液，因此，在使用上述非透氣性支持體時，為了保持處理液，最好在支持體上具有下涂層。并且，在使用透氣性支持體時也可具有下涂層。
下涂層中的顏料和粘接劑的配合比例根據(jù)其種類不同而有所不同，但一般相對100質(zhì)量份的顏料，將粘接劑調(diào)節(jié)為1～200質(zhì)量份、優(yōu)選為2～100質(zhì)量份的范圍。另外，可適當添加在一般涂料紙制造中使用的分散劑、增粘劑、消泡劑、防靜電劑、防腐劑等各種輔助劑。另外，在下涂層中也可添加熒光染料、著色劑。下涂層在紙基材上以干燥質(zhì)量來說形成為2～100g/m2，優(yōu)選為5～50g/m2左右，更優(yōu)選為10～20g/m2。
另外，在為噴墨記錄片時，可使下涂層具有迅速吸收噴墨成分中的溶劑的功能。這種下涂層的主要成分包括顏料和粘接劑。下涂層可使用不到0.5μm的超微細顏料和粘接劑，形成沒有裂紋的層是沒有問題的，但優(yōu)選使用0.5μm～10μm的顏料和粘接劑。具有這種0.5μm～10μm的顏料和粘接劑的層，為了使墨吸收速度快、且使墨成分中的溶劑和染料盡快分離，對于細孔分布曲線上的峰值，優(yōu)選分別在0.1～10μm和0.5μm以下具有峰值，且細孔容積大于等于0.5ml/g。
作為下涂層中使用的顏料可以使用高嶺土、粘土、煅燒粘土、非晶質(zhì)二氧化硅(也稱為無定形二氧化硅)、合成非晶質(zhì)二氧化硅、氧化鋅、氧化鋁、氫氧化鋁、碳酸鈣、緞光白、硅酸鋁、礬土、膠體二氧化硅、沸石、合成沸石、海泡石、蒙脫石、合成蒙脫石、硅酸鎂、碳酸鎂、氧化鎂、硅藻土、苯乙烯系塑膠顏料、水滑石、尿素樹脂系塑膠顏料、苯代三聚氰二胺系塑膠顏料等一般涂料紙制造領(lǐng)域公知公用的各種顏料中的一種或一種以上。其中，作為主要成分優(yōu)選含有墨吸收性高的無定形二氧化硅、礬土、沸石。
這些顏料的平均粒徑(若為凝聚顏料則為凝聚粒徑)優(yōu)選為0.5～10μm左右，更優(yōu)選為1～5μm。若不到0.5μm，則墨吸收速度提高的效果不佳，若超過10μm，則設(shè)置光澤層后的平滑性和光澤有可能不夠。也可同時使用不同的平均粒徑。
另外，為了調(diào)整墨吸收性、或控制涂布在下涂層上的涂液的浸透，作為輔助成分可添加平均粒徑較小的顏料。作為這種顏料可列舉膠體二氧化硅、礬土溶膠。
作為下涂層中使用的粘接劑，可單獨或同時使用下列一般作為涂料紙使用的現(xiàn)有技術(shù)中公知的粘接劑乳酪素、大豆蛋白、合成蛋白等蛋白質(zhì)類，淀粉、氧化淀粉等各種淀粉類，含有聚乙烯醇、陽離子性聚乙烯醇、甲硅烷基改性聚乙烯醇等改性聚乙烯醇的聚乙烯醇類，羧甲基纖維素、甲基纖維素等纖維素衍生物，苯乙烯-丁二烯共聚物、甲基丙烯酸甲脂-丁二烯共聚物的共軛二烯系聚合物乳膠、丙烯酸酯系聚合物乳膠、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等乙烯系聚合物乳膠等。
下涂層中的顏料和粘接劑的配合比例根據(jù)其種類不同而有所不同，但一般相對100質(zhì)量份的顏料，將粘接劑調(diào)節(jié)為1～100質(zhì)量份、優(yōu)選為2～50質(zhì)量份的范圍。另外，可適當添加在一般涂料紙制造中使用的分散劑、增粘劑、消泡劑、防靜電劑、防腐劑等各種輔助劑。另外，在下涂層中也可添加熒光染料、著色劑。
在下涂層中優(yōu)選基本上不存在陽離子性化合物。所謂基本上不存在是指除將陽離子性表面活性劑等作為輔助劑添加微量的情況以外。若不在形成在下涂層上的涂層中添加陽離子性化合物，使下涂層基本上不含有陽離子性化合物，則光澤極佳且打印濃度高，故優(yōu)選。
用上述材料制成的下涂層用涂液，一般將固體成分濃度調(diào)整為5～50質(zhì)量％左右，在紙基材上以干燥質(zhì)量來說涂布2～100g/m2，優(yōu)選為5～50g/m2左右，更優(yōu)選為10～20g/m2左右。若涂布量過少，則不能充分得到墨吸收性改良效果，得到的噴墨用涂布片的光澤可能會不夠，若涂布量過多，則打印濃度下降，形成在其上的涂層的強度降低，有時會易于出現(xiàn)粉體掉落和損傷。
下涂層用涂液可利用刮刀涂布機、氣刀涂布機、輥式涂布機、毛刷涂布機(brush coater)、洽普夫雷克斯涂布機、棒式涂布機、唇板涂布機(lip coater)、凹版涂布機、噴簾涂布機、槽模涂布機、滑板涂布機等各種公知公用的涂布裝置進行涂布、干燥。另外，也可根據(jù)需要在下涂層干燥后實施超級壓光、刷涂等平滑化處理。
(涂層)本發(fā)明中，與涂布上述處理液同時或在涂布之后，在支持體上或上述下涂層上涂布含有感溫性高分子化合物的涂液形成涂層。在為噴墨記錄片時，具有顏料和感溫性高分子化合物的涂層成為墨接受層或成為墨接受層構(gòu)成層中的一層(以下統(tǒng)稱為墨接受層)。
感溫性高分子化合物是根據(jù)溫度變化而可逆地顯示親水性和疏水性的化合物。其中，感溫性高分子化合物優(yōu)選在達到感溫點以下的溫度時迅速地增粘或凝膠化。具體而言，列舉有在感溫點以下的溫度范圍顯示親水性、在高于感溫點的溫度范圍顯示疏水性的感溫性高分子化合物等。若使用這種感溫性高分子化合物，則一般在感溫點以上的溫度下進行涂布。感溫性高分子化合物的感溫點可以在5～35℃的范圍內(nèi)，優(yōu)選在15～30℃的范圍內(nèi)。
這種感溫性高分子化合物在日本特開2003-40916號公報中已被公開?？闪信e在聚乙烯醇及/或聚乙烯醇衍生物共存的條件下進行聚合而得到的感溫性高分子化合物。
該感溫性高分子化合物具體是(1)通過單獨聚合可得到呈現(xiàn)該溫度響應(yīng)性(親水性-疏水性的變化)的高分子化合物的單體(主單體(M))的一種或兩種以上在聚乙烯醇及/或聚乙烯醇衍生物共存的條件下進行聚合而得到的高分子化合物；(2)可與該主單體(M)反應(yīng)而生成高分子化合物、且通過單獨聚合得不到呈現(xiàn)該溫度響應(yīng)性的高分子化合物的單體(副單體(N))和主單體(M)在聚乙烯醇及/或聚乙烯醇衍生物共存的條件下進行聚合而得到的高分子化合物。
作為共聚成分使用副單體(N)，可得到感溫點和成膜性不同的高分子化合物。
主單體(M)、副單體(N)、聚乙烯醇、聚乙烯醇衍生物也可分別組合使用一種或兩種以上的物質(zhì)。
作為感溫性高分子化合物，若使用在聚乙烯醇及/或聚乙烯醇衍生物共存的條件下使主單體(M)或主單體(M)和副單體(N)聚合而得到的高分子化合物，則與使用在聚乙烯醇及/或聚乙烯醇衍生物不共存的條件下同樣得到的高分子化合物的情況相比，可得到具有成膜性、成膜強度優(yōu)異的涂層的涂布片。
本發(fā)明使用的聚乙烯醇及/或聚乙烯醇衍生物沒有特殊限定。
作為聚乙烯醇，列舉有一般稱為完全皂化型聚乙烯醇的皂化度為96％～100％的聚乙烯醇，以及一般稱為部分皂化型聚乙烯醇的皂化度為76％～95％的聚乙烯醇等。
作為聚乙烯醇衍生物，列舉有硅烷醇改性聚乙烯醇、陽離子改性聚乙烯醇、含巰基的聚乙烯醇、含酮基的聚乙烯醇等。
聚乙烯醇及/或聚乙烯醇衍生物可以使用一種，也可以混合使用多種。
該聚乙烯醇及聚乙烯醇衍生物的聚合度沒有特殊限定，但優(yōu)選使用聚合度為300～4000的。
另外，從墨吸收性的觀點來看，優(yōu)選使用含酮基的聚乙烯醇，同時使用至少兩個具有肼基及/或脲氨基的肼衍生物，且交聯(lián)該酮基。
主單體(M)和副單體(N)、聚乙烯醇及/或聚乙烯醇衍生物的使用比例在所得到的感溫性高分子化合物呈現(xiàn)溫度響應(yīng)性的范圍內(nèi)確定，感溫性高分子化合物中的聚乙烯醇或聚乙烯醇衍生物的含有率在該條件的范圍內(nèi)沒有特殊限定，但從最終得到的記錄介質(zhì)的涂膜的耐水性觀點來看，優(yōu)選為0.1～50質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.5～20質(zhì)量％。
作為主單體(M)，列舉有N-烷基或N-烷撐置換(甲基)丙烯酰胺衍生物(在此，“(甲基)丙烯”是“甲基丙烯或丙烯”的簡便表記)、以及乙烯基甲基醚等，具體而言，例如列舉有N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N-異丙基(甲基)丙烯酰胺、N-環(huán)丙基(甲基)丙烯酰胺、N-乙基(甲基)丙烯酰胺、N，N-二乙基丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-正丙基(甲基)丙烯酰胺、N-甲基-N-正丙基丙烯酰胺、N-甲基-N-異丙基丙烯酰胺、N-(甲基)丙烯酰吡咯烷、N-(甲基)丙烯酰哌啶、N-四氫呋喃(甲基)丙烯酰胺、N-甲氧基丙基(甲基)丙烯酰胺、N-乙氧基丙基(甲基)丙烯酰胺、N-異丙氧基丙基(甲基)丙烯酰胺、N-乙氧基乙基(甲基)丙烯酰胺、N-(2，2-二甲氧基乙基)-N-甲基丙烯酰胺、N-甲氧基乙基(甲基)丙烯酰胺、N-(甲基)丙烯酰嗎啉等。從成膜性的觀點來看，優(yōu)選N-異丙基丙烯酰胺、N-正丙基丙烯酰胺、N，N-二乙基丙烯酰胺、N-丙烯酰嗎啉。
作為副單體(N)，列舉有親油性乙烯化合物、親水性乙烯化合物、離子性乙烯化合物等。具體而言，作為親油性乙烯化合物列舉有(甲基)丙烯酸甲脂、(甲基)丙烯酸乙脂、(甲基)丙烯酸正丁脂、(甲基)丙烯酸-2-乙基己脂、甲基丙烯酸縮水甘油酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯、異丁烯、丁二烯、醋酸乙烯、氯乙烯等；作為親水性乙烯化合物，列舉有(甲基)丙烯酸-2-羥乙脂、(甲基)丙烯酸-2-羥丙脂、(甲基)丙烯酰胺、N-羥甲基丙烯酰胺、二丙酮丙烯酰胺、亞甲基雙丙烯酰胺、2-甲基-5-乙烯基吡啶、N-乙烯基-2-吡咯烷、N-丙烯酰吡咯烷等；作為離子性乙烯化合物，列舉有丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富馬酸、馬來酸、巴豆酸、丁烯三羧酸、馬來酸單乙酯、馬來酸單甲酯、衣康酸單乙酯、衣康酸單甲酯等含有羧酸基的單體，2-丙烯酰胺-2-甲基-丙炔磺酸、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、(甲基)丙烯基磺酸等含有磺酸基的單體，(甲基)丙烯酸-N，N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸-N，N-二乙基氨基乙酯等含有氨基的單體等。尤其是優(yōu)選使用(甲基)丙烯酸甲脂、(甲基)丙烯酸正丁脂、(甲基)丙烯酸-2-乙基己脂、苯乙烯、(甲基)丙烯酸-2-羥丙脂、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、二丙酮丙烯酰胺、亞甲基雙丙烯酰胺。另外，從本發(fā)明的使用高分子乳膠得到的涂層的成膜性的觀點來看，優(yōu)選使用下述含有陰離子基的單體丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富馬酸、馬來酸、巴豆酸、丁烯三羧酸、馬來酸單乙酯、馬來酸單甲酯、衣康酸單乙酯、衣康酸單甲酯等含有羧酸基的單體，2-丙烯酰胺-2-甲基-丙炔磺酸、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、(甲基)丙烯基磺酸等含有磺酸基的單體等，尤其是優(yōu)選使用丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富馬酸、馬來酸等含有羧酸基的單體。
主單體(M)和副單體(N)的共聚比例在所得到的共聚高分子化合物以一定溫度為界呈現(xiàn)親水性和疏水性可逆地變化的溫度響應(yīng)性的范圍內(nèi)進行確定。即，若副單體(N)的比例過多，則所得到的共聚高分子化合物不呈現(xiàn)該溫度響應(yīng)性。即，雖然主單體(M)和副單體(N)的共聚比例依賴于所使用的單體種類的組合，但在所得到的感溫性高分子化合物中，副單體(N)的比例優(yōu)選小于等于50質(zhì)量％，更優(yōu)選小于等于30質(zhì)量％。另外，為了更好地體現(xiàn)副單體(N)的添加效果，優(yōu)選大于等于0.01質(zhì)量％。
在為噴墨記錄片時，大多在涂層(墨接受層)中添加后述的陽離子性化合物，此時，從涂液調(diào)制容易方面考慮，上述感溫性高分子化合物優(yōu)選是陽離子性或非離子性。
對于陽離子性的感溫性高分子化合物，例如可通過使聚合時使用的副單體(N)含有具有陽離子基的乙烯性不飽和單體而得到，從該觀點來看，作為副單體(N)優(yōu)選使用至少一種以上具有陽離子基的乙烯性不飽和單體。該具有陽離子基的乙烯性不飽和單體也可分別組合使用一種或兩種以上的物質(zhì)。尤其是在將使用噴墨打印機打印形成在所得到的記錄介質(zhì)上的打印物暴露在陽光或熒光燈的光中時，從此時產(chǎn)生的褪色的程度的觀點及所得到的高分子乳膠的膠態(tài)穩(wěn)定性的觀點來看，作為該具有陽離子基的乙烯性不飽和單體優(yōu)選含有三級氨基及/或四級銨鹽基。
對于含有三級氨基及/或四級銨鹽基的感溫性高分子化合物，例如通過使主單體(M)和作為副單體(N)的含有三級氨基及/或四級銨鹽基的單體進行共聚而得到。主單體(M)、副單體(N)(包括含有三級氨基及/或四級銨鹽基的單體)也可分別組合使用一種或兩種以上的物質(zhì)。
作為含有三級氨基或四級銨鹽基的單體只要是在單體中具有含有三級氨基或四級銨鹽基的結(jié)構(gòu)即可，沒有特殊限定，列舉有乙烯氧基乙基三甲基氯化銨、2，3-二甲基-1-乙烯基氯化咪唑、三甲基-(3-(甲基)丙烯酰胺-3，3-二甲基丙基)氯化銨、三甲基-(3-甲基丙烯酰胺丙基)氯化銨、三甲基-(3-丙烯酰胺丙基)氯化銨、N-(1，1-二甲基-3-二甲基氨基丙基)(甲基)丙烯酰胺及其四級銨鹽、三甲基-(3-(甲基)丙烯酰胺)氯化銨、1-乙烯基-2-甲基-咪唑、1-乙烯基-2-苯基-咪唑、1-乙烯基-2，4，5-三甲基-咪唑、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲基氨基丙酯及其四級銨鹽、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲基氨基乙酯及其四級銨鹽、(甲基)丙烯酸-N，N-二乙基氨基乙酯及其四級銨鹽、(甲基)丙烯酸-叔丁基氨基乙酯及其四級銨鹽、N-(3-二甲基氨基丙基)甲基丙烯酰胺及其四級銨鹽、N-(3-二乙基氨基丙基)甲基丙烯酰胺及其四級銨鹽、N-(3-二乙基氨基丙基)丙烯酰胺及其四級銨鹽、鄰-，間-，對-氨基苯乙烯及其四級銨鹽、鄰-，間-，對-乙烯基芐胺及其四級銨鹽、N-(乙烯基芐基)吡咯烷、N-(乙烯基芐基)哌啶、N-乙烯基咪唑及其四級銨鹽、2-甲基-1-乙烯基咪唑及其四級銨鹽、N-乙烯基吡咯烷及其四級銨鹽、N，N′-二乙烯基乙烯尿素及其四級銨鹽、α-或β-乙烯基吡啶及其四級銨鹽、α-或β-乙烯基哌啶及其四級銨鹽、2-或4-乙烯基喹啉及其四級銨鹽等。尤其是優(yōu)選使用甲基丙烯酸-N，N-二甲基氨基丙酯、甲基丙烯酸-N，N-二甲基氨基乙酯、N，N-二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺的甲基氯化物四級化合物。
主單體(M)和包括含有三級氨基及/或四級銨鹽基的單體的副單體(N)的共聚比例，在所得到的共聚高分子化合物以感溫點為界呈現(xiàn)親水性和疏水性可逆變化的溫度響應(yīng)性的范圍內(nèi)進行確定。本發(fā)明使用的、感溫性高分子化合物中的含有三級氨基及/或四級銨鹽基的單體的含有率在上述條件范圍內(nèi)沒有特殊限定，但從容易調(diào)整涂液的觀點來看，優(yōu)選大于等于0.01質(zhì)量％，從成膜性的觀點來看，優(yōu)選小于等于50質(zhì)量％。更優(yōu)選0.1～30質(zhì)量％。
另外，從打印物暴露在陽光或熒光燈的光中而產(chǎn)生褪色的程度的觀點來看，與含有三級氨基的單體相比優(yōu)選使用含有四級銨鹽基的單體。另外，從容易調(diào)制上述涂液、以及使用本發(fā)明的高分子乳膠得到的涂層的成膜性這兩個觀點來看，優(yōu)選同時包括含有三級氨基及/或四級銨鹽基的單體、以及所述含有陰離子基的單體，尤其是該含有陰離子基的單體，優(yōu)選使用丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富馬酸、馬來酸等含有羧酸基的單體。
下面，對為噴墨記錄片時涂層(墨接受層)中含有的無機顏料進行詳細說明。
作為可使用的顏料，列舉有高嶺土、粘土、煅燒粘土、非晶質(zhì)二氧化硅(也稱為無定形二氧化硅)、合成非晶質(zhì)二氧化硅、氧化鋅、氧化鋁、氫氧化鋁、碳酸鈣、緞光白、硅酸鋁、礬土、膠體二氧化硅、沸石、合成沸石、海泡石、蒙脫石、合成蒙脫石、硅酸鎂、碳酸鎂、氧化鎂、硅藻土、苯乙烯系塑膠顏料、水滑石、尿素樹脂系塑膠顏料、苯代三聚氰二胺系塑膠顏料等，可使用其中一種或同時使用一種以上。
作為二氧化硅，可以使用如此制成的二氧化硅微粒分散液將氮吸附法得到的比表面積為300m2/g～1000m2/g、細孔容積為0.4ml/g～2.0ml/g的二氧化硅微粒分散成膠體狀得到的液體作為種子液，在堿存在條件下，向該種子液中每次少量地添加含有活性硅酸水溶液及/或烷氧基硅烷的料液，使二氧化硅微粒生長，將通過氮吸附法得到的比表面積為100m2/g～400m2/g、平均二次粒徑為20nm～300nm、且細孔容積為0.5ml/g～2.0ml/g的二氧化硅微粒分散成膠體狀，即可得到二氧化硅微粒分散液。
其中優(yōu)選使用平均一次粒徑為3～40nm、且平均二次粒徑小于等于1000nm的超微細顏料。更優(yōu)選使用平均一次粒徑為5～30nm、且平均二次粒徑小于等于700nm的超微細顏料。尤其是優(yōu)選干式法二氧化硅、氧化礬土、礬土水合物，更優(yōu)選利用陽離子樹脂進行陽離子化處理后的干式二氧化硅。
涂層(墨接受層)中的感溫性高分子化合物的混合量，相對100質(zhì)量份的顏料可以為1～100質(zhì)量份，優(yōu)選為5～40質(zhì)量份，更優(yōu)選為15～30質(zhì)量份的范圍。在此，若感溫性高分子化合物的混合量不到1質(zhì)量份，則涂液的凝膠化容易不充分，存在容易引起光澤性降低和墨點正圓性惡化的傾向。另外，若其混合量超過100質(zhì)量份，則油墨的吸收性降低，有時不能得到期望的噴墨記錄適應(yīng)性。
另外，也可在涂層(墨接受層)中混合公知的陽離子性化合物。例如可列舉1)聚乙烯聚胺、聚丙烯聚胺等聚烷撐聚胺類或其衍生物；2)具有第二級氨基、第三級氨基和第四級銨基的丙烯酸酯聚合物；3)聚乙烯胺及聚乙烯脒類；4)以二氰基二酰胺·福爾馬林共聚物為代表的二氰基系陽離子性化合物；5)以二氰基二酰胺·聚乙烯胺共聚物為代表的聚胺系陽離子性化合物；6)表氯醇·二甲基胺共聚物；7)二丙烯基二甲基銨-SO2縮聚物；8)二丙烯胺鹽·SO2縮聚物；9)二丙烯基二甲基氯化銨聚合物；10)二丙烯基二甲基氯化銨-丙烯酰胺共聚物；11)丙烯胺鹽的共聚物；12)(甲基)丙烯酸二烷基氨基乙酯四級鹽共聚物；13)丙烯酰胺·二丙烯胺共聚物；14)具有五環(huán)脒結(jié)構(gòu)的陽離子性樹脂等陽離子性化合物等。
所述顏料和所述陽離子性化合物的混合比，以質(zhì)量比來說相對100質(zhì)量份的顏料，陽離子性化合物可以為1～30質(zhì)量份，更優(yōu)選為3～20質(zhì)量份。若陽離子性化合物少于1質(zhì)量份，則很難得到打印濃度提高的效果，若多于30質(zhì)量份，則多余的陽離子性化合物會堵塞空隙，墨吸收性受到阻礙，也有可能產(chǎn)生圖像的滲色和顏色不均勻。
在將陽離子性化合物配合在顏料中時，只要混合在所述顏料中即可，但在顏料為微細二氧化硅時，由于微細二氧化硅一般是陰離子性，故在混合時有時會引起微細二氧化硅粒子的凝聚。
此時，在利用機械方式對一般市場上銷售的非晶質(zhì)二氧化硅(具有數(shù)微米的二次粒徑)施加強力而使其粉碎成微細粒子時，可以使粉碎處理前的非晶質(zhì)二氧化硅與陽離子性物質(zhì)一起混合分散后，利用機械方式進行分散·粉碎，或者也可以在微細化后的二氧化硅二次粒子分散體中混合陽離子性物質(zhì)，一旦增粘、凝聚后，再次采用機械分散·粉碎的方法等，從而可調(diào)整為上述特定的粒徑。如此處理后的顏料或許因為采用陽離子性物質(zhì)部分結(jié)合的結(jié)構(gòu)而成為穩(wěn)定分散的生料，故具有即使另外追加配合陽離子性化合物也很難凝聚的特征。在本發(fā)明中，將這種用陽離子性物質(zhì)處理后的微細顏料稱為陽離子性微細顏料。
為了對所述顏料和所述陽離子性物質(zhì)的混合物或凝聚物進行分散或粉碎，使用均質(zhì)混合器、壓力式均化器、超聲波均化器、微波流化機(マイクロフルイタイザ)、アルテイマイザ、納米攪拌機、高速旋轉(zhuǎn)粉碎機、輥式粉碎機、容器驅(qū)動介質(zhì)粉碎機、介質(zhì)攪拌粉碎機、噴射粉碎機、砂磨機、超級攪拌機等。
在平均二次粒徑超過1000nm時，用均質(zhì)混合器等較弱的機械力進行處理即可充分地進行分散，但若要進行粉碎使平均二次粒徑小于等于1000nm，則施加更強的機械力比較有效，優(yōu)選使用壓力式分散方法。
在本發(fā)明中，所謂壓力式分散方法是指使原料粒子的漿狀混合物在篩眼中高壓連續(xù)地通過以進行高壓粉碎的方法，處理壓力可以為19.6×106～343.2×106Pa(200～3500kgf/cm2)，優(yōu)選為49.0×106～245.3×106Pa(500～2500kgf/cm2)，更優(yōu)選為98.1×106～196.2×106Pa(100～2000kgf/cm2)。利用上述高壓粉碎進行處理可實現(xiàn)良好的分散或粉碎。另外，更優(yōu)選的方式為使高壓下通過篩眼的漿狀混合物相對碰撞，以進行分散或粉碎。在利用相對碰撞的方法中，對分散液加壓而導(dǎo)向入口側(cè)，使分散液在兩個流路分開，再利用篩眼使流路變窄，加快流速使其相對碰撞，通過使粒子碰撞而進行粉碎。作為使分散液加速、碰撞的部分的構(gòu)成材料，從抑制材料磨損等原因出發(fā)，優(yōu)選使用金剛石。
作為高壓粉碎機使用壓力式均化器、超聲波均化器、微波流化機、納米攪拌機，尤其是作為高速流沖撞型均化器優(yōu)選為微波流化機、納米攪拌機。
如此處理的陽離子性微細顏料，一般得到固體成分濃度為5～20質(zhì)量％左右的水分散體(漿料或膠體粒子)。
本發(fā)明中所說的平均粒徑是用電子顯微鏡(SEM和TEM)觀察的粒徑(拍攝1萬～40萬倍的電子顯微鏡照片，測定5cm方塊中的粒子的馬丁直徑，并進行平均。記載在《(微粒子ハンドブツク》(朝倉書店)的P52、1991年等)。
若設(shè)置含有這種陽離子性微細顏料的墨接受層，則油墨可更加均勻地被吸收，結(jié)果是，得到滲色少且均勻的發(fā)色，得到無發(fā)色不均的優(yōu)質(zhì)圖像。作為陽離子性微細顏料中的顏料可以為二氧化硅、硅酸鋁，優(yōu)選為二氧化硅，更優(yōu)選為干式二氧化硅。
作為陽離子性微細顏料中使用的陽離子性物質(zhì)，沒有特殊限定，例如列舉有1)聚乙烯聚胺、聚丙烯聚胺等聚烷撐聚胺類或其衍生物；2)具有第二級氨基、第三級氨基和第四級銨基的丙烯酸酯聚合物；3)聚乙烯胺及聚乙烯脒類；4)以二氰基二酰胺·福爾馬林共聚物為代表的二氰基系陽離子性化合物；5)以二氰基二酰胺·聚乙烯胺共聚物為代表的聚胺系陽離子性化合物；6)表氯醇·二甲基胺共聚物；7)二丙烯基二甲基銨-SO2縮聚物；8)二丙烯胺鹽·SO2縮聚物；9)二丙烯基二甲基氯化銨聚合物；10)二丙烯基二甲基氯化銨-丙烯酰胺共聚物；11)丙烯胺鹽的共聚物；12)(甲基)丙烯酸二烷基氨基乙酯四級鹽共聚物；13)丙烯酰胺·二丙烯胺共聚物；14)具有五環(huán)脒結(jié)構(gòu)的陽離子性樹脂等陽離子性化合物等。
其中，作為優(yōu)選的陽離子性物質(zhì)，可使用選自二丙烯基二甲基氯化銨聚合物、二丙烯基二甲基氯化銨-丙烯酰胺共聚物、丙烯酰胺.二丙烯胺共聚物的鹽酸鹽、二氰基二酰胺-聚乙烯胺共聚物及具有五環(huán)脒結(jié)構(gòu)的陽離子性樹脂中的至少一種，因為發(fā)色性優(yōu)異，可得到滲色少且均勻的發(fā)色，且得到無發(fā)色不均的優(yōu)質(zhì)圖像，故優(yōu)選。
另外，在使用陽離子性微細顏料時，若墨接受層中的全部顏料中的陽離子性微細顏料的比率大于等于50質(zhì)量％，則墨接受層的透明性優(yōu)異，墨吸收速度也快，故優(yōu)選。若全部顏料中的陽離子性微細顏料的比率不到50質(zhì)量％，則有時會導(dǎo)致墨接受層的透明性下降，打印濃度等圖像品質(zhì)降低。
本發(fā)明的涂層(墨接受層)中混合有顏料和感溫性高分子化合物，但在不損害感溫性高分子化合物的效果的范圍內(nèi)，還可以單獨或同時使用水溶性樹脂(例如聚乙烯醇、陽離子改性聚乙烯醇、甲硅烷基改性聚乙烯醇等改性聚乙烯醇等聚乙烯醇類、乳酪素、大豆蛋白、合成蛋白質(zhì)類、淀粉、羧甲基纖維素、甲基纖維素等纖維素衍生物)、苯乙烯-丁二烯共聚物、甲基丙烯酸甲脂-丁二烯共聚物等共軛二烯系聚合物乳膠、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物等乙烯系聚合物乳膠等水分散性樹脂、水性丙烯酸樹脂、水性聚氨酯樹脂、水性聚酯樹脂等其他一般涂料紙領(lǐng)域公知公用的各種粘接劑。水性聚氨酯樹脂也被通稱為尿烷乳液、尿烷乳膠、聚氨酯乳膠等。聚氨酯樹脂是通過聚異氰酸酯化合物和含活性氫的化合物反應(yīng)而得到的。是含有比較多的尿烷鍵及尿素鍵的高分子化合物。
在涂層(墨接受層)中還可適當添加保存性改良劑、消泡劑、著色劑、熒光增白劑、防靜電劑、防腐劑、分散劑、增粘劑等各種輔助劑。
將涂層(墨接受層)用涂液涂布在支持體上或設(shè)于支持體上的下涂層上時，可使用刮刀涂布機、氣刀涂布機、輥式涂布機、毛刷涂布機、洽普夫雷克斯涂布機、棒式涂布機、唇板涂布機、凹版涂布機、噴簾涂布機、槽模涂布機、滑板涂布機等各種公知的涂布裝置。尤其是優(yōu)選以下述濕對濕法進行涂布，即，在溫度小于等于在涂布涂層之前或同時涂布的感溫性高分子化合物的感溫點的處理液未干燥的狀態(tài)下，涂布含有感溫性高分子化合物的涂料。
形成涂層(墨接受層)后，利用冷卻裝置進行冷卻，也可促進增粘、凝膠化。
涂層可通過超級砑光機等公知的方式進一步提高光澤。尤其是為了提高涂層的光澤，可以進行所謂的鑄塑加工，即在含有所述感溫性高分子化合物的涂層(墨接受層)增粘、凝膠化后，在濕潤狀態(tài)下壓接到被加熱的鏡面滾筒上進行干燥，從鏡面滾筒上剝離即制成，另外，鑄塑加工是優(yōu)選方式中的一個。
本發(fā)明至少含有一層上述涂層(墨接受層)。含有上述顏料和感溫性高分子化合物的涂層(墨接受層)可以為兩層以上。在構(gòu)成為兩層以上時，從墨吸收性、光澤性的觀點來看，最好選擇上述范圍不同的顏料和感溫性高分子化合物。
(光澤顯現(xiàn)層)在本發(fā)明中，為了進一步施加高光澤，也可在涂層(墨接受層)上設(shè)置其他光澤顯現(xiàn)層作為最外層，且優(yōu)選形成光澤顯現(xiàn)層。
光澤顯現(xiàn)層的顏料最好選自平均一次粒徑為0.01～0.06μm的單分散膠體顏料、平均粒徑在1μm以下的二氧化硅、氧化鋁、假勃姆石微細顏料。0.01～0.06μm的單分散膠體二氧化硅的光澤感良好。在上述單分散膠體二氧化硅中也有陽離子改性膠體二氧化硅。另外，從顏料墨適應(yīng)性的耐摩擦性來說，優(yōu)選為氧化鋁、假勃姆石、二氧化硅(尤其是干式二氧化硅)。只要不阻礙墨吸收性，光澤顯現(xiàn)層也可適當含有在上述下涂層中使用的粘合劑。
光澤顯現(xiàn)層優(yōu)選通過以下方法形成在光澤顯現(xiàn)層涂液處于濕潤狀態(tài)的期間內(nèi)壓接到被加熱的鏡面滾筒上進行干燥的方法，即所謂的鑄塑法。在為透氣性支持體時，通過用鏡面滾筒進行干燥，可在表面復(fù)制滾筒的鏡面。另外，在為非透氣性支持體時，由于水分不會透過支持體，故不能利用鏡面滾筒進行干燥，但可以在涂布后，在壓接到鏡面滾筒之后，利用后續(xù)的工序進行干燥。為了使光澤顯現(xiàn)層易于從鏡面滾筒上剝離，可以適當添加市場上銷售的脫模劑。添加量的適度范圍為相對100質(zhì)量份的顏料添加0.5～10質(zhì)量份。若混合量過少，則很難得到脫模性改善的效果，若過多，則反而會使光澤降低，有時會產(chǎn)生墨排斥和記錄濃度降低。
作為脫模劑列舉有硬脂磷酸鈣等高級脂肪酸酯，硬脂酰胺、油酰胺等高級脂肪酸酰胺，聚乙烯蠟、氧化聚乙烯蠟、聚丙烯蠟等聚烯烴蠟類，硬脂酸鈣、硬脂酸鋅、油酸鈣、油酸銨等高級脂肪酸堿鹽類，卵磷脂、硅酮油、硅酮蠟等硅酮化合物，以及聚四氟乙烯等氟化合物。其中，若含有高級脂肪酸酰胺，則具有脫離鏡面滾筒等的脫模性顯著提高的效果，且還具有抑制打印圖像的滲色的效果，故優(yōu)選。
光澤顯現(xiàn)層的涂布量可在0.1～10g/m2的范圍內(nèi)，優(yōu)選為0.2～5g/m2，更優(yōu)選為0.5～2g/m2。若涂布量過少，則涂膜變薄，容易因光產(chǎn)生干涉色，另一方面，若涂布量過多，則墨吸收速度可能顯著降低。
(背面層)為了改善卷曲和輸送性等，本發(fā)明也可在支持體的背面設(shè)置背面層。另外，為了體現(xiàn)照片的手感，作為背面層可設(shè)置聚乙烯層。
(墨)作為在本發(fā)明的噴墨記錄方法中使用的墨，以用于形成圖像的色素和用于溶解或分散該色素的液體介質(zhì)為必需成分，并根據(jù)需要添加各種分散劑、表面活性劑、粘度調(diào)節(jié)劑、電阻率調(diào)節(jié)劑、pH調(diào)節(jié)劑、防霉劑、記錄劑的溶解或分散穩(wěn)定劑等進行調(diào)節(jié)。
作為油墨中使用的染料、顏料，列舉有直接染料、酸性染料、鹽基性染料、反應(yīng)性染料、食用色素、分散染料、油性染料及各種顏料等，可不受特殊限制地使用現(xiàn)有公知的物質(zhì)。所述染料的含量依據(jù)墨中的溶劑成分種類、墨所要求的特性等決定，但在本發(fā)明所使用的墨中，即使采用現(xiàn)有墨中的配合、即0.1～20質(zhì)量％左右也沒有任何問題。
作為本發(fā)明使用的墨中的溶劑可列舉水及水溶性的各種有機溶劑，例如甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、1，2-己二醇等醇類，丙酮、二丙酮醇等酮或乙醇酮類，聚乙二醇、聚亞丙基二醇等聚亞烷基二醇類，乙二醇、聚丙二醇、丁二醇、三乙烯乙二醇、硫二甘醇、己二醇、二甘醇-乙酸酯等亞烴基為2～6個的亞烴基甘醇類，二甲基甲酰胺等酰胺類，四氫呋喃等醚類，丙三醇、乙二醇甲醚、二乙二醇甲(乙)醚、三乙二醇單甲醚等多價醇的低級烷基醚類等。
實施例下面列舉實施例更加具體地說明本發(fā)明，當然本發(fā)明并不限定于這些實施例。另外，實施例中的份及％在沒有特殊限定的情況下，是指除水以外的固體成分，分別表示質(zhì)量份及質(zhì)量％。
<二氧化硅微粒A>
在具有10份二丙烯基二甲基氯化銨結(jié)構(gòu)的陽離子性化合物(日東紡社生產(chǎn)，商品名PAS-J-81，分子量20萬)的10％水溶液中投入100份氣相法二氧化硅(日本アエロジル社生產(chǎn)，商品名エアロジルA300，平均一次粒徑約0.008μm)，利用均質(zhì)混合器進行分散后，利用高壓均質(zhì)器進行粉碎，一直粉碎到平均粒徑為0.1μm，調(diào)制成10％的水分散液。
<二氧化硅微粒B>
使用平均粒徑為2.0μm的濕式法二氧化硅(日本シリカ工業(yè)社生產(chǎn)，商品名Nipsil HD，平均一次粒徑約0.013μm)，利用砂磨機進行分散后，利用高壓均質(zhì)器進行粉碎，一直粉碎到平均粒徑為0.4μm，調(diào)制成12％的水分散液。
<礬土微粒A>
使用平均粒徑約為3.0μm的高純度礬土(住友化學(xué)工業(yè)社生產(chǎn)，商品名AKP-G015，γ結(jié)晶氧化礬土，平均一次粒徑約0.1μm)，利用砂磨機進行分散后，利用高壓均質(zhì)器進行粉碎，一直粉碎到平均粒徑為0.25μm，調(diào)制成10％的水溶液。
實施例1<涂液A>
在100份二氧化硅微粒A中混合20份在低于感溫點時顯示親水性的感溫性高分子化合物(旭化成社生產(chǎn)，ALB-221，感溫點24℃)，調(diào)制成9％的水溶液。
<噴墨記錄片的制作>
在紙支持體(209g/m2，緊度0.9g/cm3)上涂布2℃的水，緊接著涂布40℃的涂液A，且使涂布量為15g/m2，進行干燥，得到噴墨記錄片。
實施例2<涂液B>
在100份二氧化硅微粒B中混合20份聚乙烯醇(クラレ社生產(chǎn)，商品名PVA-140H，聚合度4000，皂化度大于等于99％)，調(diào)制成10％的水溶液。
<噴墨記錄片的制作>
在紙支持體(209g/m2，緊度0.9g/cm3)上，在濕對濕(Wet onWet)的狀態(tài)下，將溫度為2℃的涂液B以涂布量為10g/m2的形態(tài)、以及將40℃的涂液A以涂布量為7g/m2的形態(tài)進行涂布、干燥，得到噴墨記錄片。
實施例3在雙面聚乙烯層壓紙(通稱為RC紙)上，將涂液B以涂布量為10g/m2的形態(tài)進行涂布、干燥，形成下涂層。接著，在所述涂層上涂布溫度為2℃的含有3％聚氯化鋁的水溶液，然后將40℃的涂液A以涂布量為7g/m2的形態(tài)進行涂布、干燥，得到噴墨記錄片。
實施例4<涂液C>
在100份平均粒徑為1.8μm的濕式二氧化硅(トクヤマ社生產(chǎn)，商品名フアインシ一ルF-80)中，作為粘合劑混合35份聚乙烯醇(クラレ社生產(chǎn)，商品名R-1130)，作為陽離子性化合物混合2份二丙烯基二甲基氯化銨(日東紡社生產(chǎn)，商品名PAS-H-10L)，調(diào)整成水分散液(濃度15％)。
<噴墨記錄片的制作>
在紙支持體(209g/m2，緊度0.9g/cm3)上，將涂液C以涂布量為10g/m2的形態(tài)進行涂布、干燥，形成下涂層。接著，涂布5℃的二丙烯基二甲基氯化銨(日東紡社生產(chǎn)，商品名PAS-H-5L)的0.5％水溶液，然后將35℃的涂液A以涂布量為5g/m2的形態(tài)進行涂布、干燥，得到噴墨記錄片。
下涂層的細孔直徑分布曲線上的峰值為0.008μm和0.9μm，細孔容積約為1.05ml/g。
實施例5除將2℃的冷水改為15℃的水以外，其他與實施例1相同地制造噴墨記錄片。
實施例6涂布實施例1的涂液A后，在濕潤的狀態(tài)下壓接到85℃的鏡面滾筒上進行干燥，得到噴墨記錄片。
實施例7<涂液D>
在100份平均粒徑為45nm的陽離子改性膠體二氧化硅中添加5份陽離子性脫模劑，調(diào)整成8％的水溶液。
<噴墨記錄片的制作>
在實施例1的噴墨記錄片上，將涂液D以涂布量為1g/m2的形態(tài)進行涂布，并立即壓接到90℃的鏡面滾筒上進行干燥，得到噴墨記錄片。
實施例8在實施例4的噴墨記錄片上，將涂液D以涂布量為1g/m2的形態(tài)進行涂布，并立即壓接到90℃的鏡面滾筒上進行干燥，得到噴墨記錄片。
實施例9<涂液E>
在100份礬土微粒A中添加5份30nm的陽離子改性丙烯酸乳液、以及5份陽離子性脫模劑，調(diào)整成6％的水溶液。
<噴墨記錄片的制作>
在實施例4的噴墨記錄片上，將涂液E以涂布量為0.5g/m2的形態(tài)進行涂布，并立即壓接到90℃的鏡面滾筒上進行干燥，得到噴墨記錄片。
比較例1除將實施例1的冷水改為30℃的水以外，其他與實施例1相同地制成噴墨記錄片。
比較例2在與實施例1相同的支持體上，將40℃的涂液A以15g/m2的形態(tài)進行涂布，在冷卻到10℃后使涂膜干燥。
比較例3在與實施例4相同的支持體上，將涂液C以涂布量為10g/m2的形態(tài)進行涂布、干燥。接著，涂布30℃的二丙烯基二甲基氯化銨(日東紡社生產(chǎn)，商品名PAS-H-5L)的0.5％水溶液，然后將35℃的涂液A以涂布量為5g/m2的形態(tài)進行涂布、干燥。
<評價方法>
對如此得到的噴墨記錄片進行下述評價。
作為評價用的打印機使用下述打印機A～D。
〔評價用打印機〕打印機A市場上銷售的染料墨型的噴墨打印機(EPSON公司生產(chǎn)，商品名PM-950C)打印機B市場上銷售的顏料墨型的噴墨打印機(EPSON公司生產(chǎn)，商品名PM-4000PX)打印機C市場上銷售的顏料墨型的噴墨打印機(EPSON公司生產(chǎn)，商品名PX-G900)打印機C市場上銷售的顏料墨型的噴墨打印機(EPSON公司生產(chǎn)，商品名PX-V600)
(裂紋)使用打印機A(染料墨型)，打印ISO-400的圖像(《高精細カラ一デイジタル標準畫像デ一タISO/JIS-SCID》，p13，圖像名稱果物かご)，用光學(xué)顯微鏡觀察記錄片表面的裂紋。若沒有裂紋，則點形成為正圓形，圖像的均勻性極其良好，但若裂紋較多，則點形狀破壞，圖像也不均勻。
○幾乎看不到裂紋，圖像均勻。
△觀察到少許裂紋，但圖像比較均勻。
×整個表面都有裂紋，圖像不均勻。
(打印濃度)使用打印機A(染料墨型)，進行黑色的Beta(ベタ)打印，通過麥克白反射濃度計(Macbeth RD-920)進行測定。
(光澤感)使用打印機A(染料墨型)，打印ISO-400的圖像(《高精細カラ一デイジタル標準畫像デ一タISO/JIS-SCID》，p13，圖像名稱果物かご)，從橫向的角度觀察打印部，基于以下基準進行評價。
○具有與銀鹽照片相同程度的光澤感。
△與一般市場上銷售的銅版紙、涂料紙?zhí)幱谙嗤潭取?br> ×光澤低。
(顏料墨的記錄適應(yīng)性)使用打印機B～D(顏料墨型)，記錄ISO-400的圖像(《高精細カラ一デイジタル標準畫像デ一タISO/JIS-SCID》，p13，圖像名稱果物かご)，基于以下基準對該記錄圖像的均勻性進行評價。
○圖像均勻，完全看不到斑點。
△可以看見圖像的斑點，但可以使用。
×圖像的斑點較多，不能使用。
(顏料圖像的耐摩擦性)使用打印機B～D(顏料墨型)，記錄ISO-400的圖像(《高精細カラ一デイジタル標準畫像デ一タISO/JIS-SCID》，p13，圖像名稱果物かご)。在記錄后將該圖像放置24個小時，用棉棒擦拭圖像部，基于以下基準對其耐摩擦性進行評價。
○圖像部完全看不到變化。
△圖像部的一部分顏料被擦掉，但可以使用。
×圖像部的顏料被嚴重擦掉，不能使用。
表1

注比較例2由于需要進行冷卻工序，所以不僅工序復(fù)雜而且設(shè)備昂貴。
由表1可知，本發(fā)明的制造方法簡便、且裂紋控制非常有效。所得到的噴墨記錄片的圖像均勻性(點的正圓性)良好，可實現(xiàn)高光澤、高打印濃度。并且，顏料適應(yīng)性也優(yōu)選。
產(chǎn)業(yè)上的可利用性采用本發(fā)明的涂布片制造方法，可形成噴墨記錄層的墨吸收速度和涂膜裂紋控制都較佳的涂層，尤其是可實現(xiàn)光澤噴墨記錄片所要求的高光澤、高墨吸收性、高打印濃度、高畫質(zhì)(點的正圓性)。
若將本發(fā)明的涂布片制造方法應(yīng)用在噴墨記錄片的制造中，則可穩(wěn)定地提供適用于與希望期望達到照片圖像質(zhì)量畫質(zhì)的染料系和顏料系噴墨打印機的噴墨記錄片。
本發(fā)明的涂布片制造方法并不限定于應(yīng)用在噴墨記錄片的制造中，也可應(yīng)用到以熱敏記錄片、壓敏記錄片、熱轉(zhuǎn)印記錄片、電子照片記錄片等各種記錄片為代表的、銅版紙、涂料紙、鑄塑涂料紙等打印用涂布片等上。
權(quán)利要求
1.一種涂布片制造方法，在支持體上或在形成于支持體上的下涂層上涂布含有根據(jù)溫度變化而可逆地顯示親水性和疏水性的感溫性高分子化合物的涂液，其特征在于包括如下工序?qū)囟忍幵谒龈袦匦愿叻肿踊衔镲@示親水性的溫度范圍內(nèi)的處理液涂布到所述支持體上或形成于支持體上的下涂層上；以及在涂布所述處理液的同時、或者在涂布后未干燥的情況下，涂布含有所述感溫性高分子化合物的涂液的工序。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布片制造方法，其特征在于在感溫性高分子化合物顯示親水性的溫度范圍內(nèi)，使含有感溫性高分子化合物的涂液增粘、凝膠化。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布片制造方法，其特征在于處理液的溶劑是水。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于處理液含有選自陽離子性高分子、水溶性多價金屬鹽中的至少一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于含有感溫性高分子化合物的涂液含有顏料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于含有感溫性高分子化合物的涂液含有陽離子性化合物。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于感溫性高分子化合物在感溫點以上顯示疏水性，在感溫點以下具有親水性。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂布片制造方法，其特征在于涂液的溫度比感溫性高分子化合物的感溫點低10℃以上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于含有感溫性高分子化合物的涂液含有無機微粒。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于在支持體上形成以無機微粒和粘合劑為主要成分的多孔層后，涂布處理液，再涂布含有感溫性高分子化合物的涂液。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于還包括在涂布含有感溫性高分子化合物的涂液后壓接到鏡面滾筒上并進行干燥的工序。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于還包括在對含有感溫性高分子化合物的涂液進行干燥后的涂層上進一步涂布以膠體微粒為主要成分的涂液的工序。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于涂布片是記錄片。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的涂布片制造方法，其特征在于涂布片是噴墨記錄片。
15.一種噴墨記錄用涂布片制造方法，在支持體上形成以無機微粒和粘合劑為主要成分的多孔層后，涂布含有根據(jù)溫度變化而可逆地顯示親水性和疏水性的感溫性高分子化合物和無機微粒的涂液，其特征在于包括如下工序?qū)囟忍幵谒龈袦匦愿叻肿踊衔镲@示親水性的溫度范圍內(nèi)的處理液涂布到所述多孔層上；以及在涂布所述處理液的同時、或者在涂布后未干燥的情況下，涂布含有所述感溫性高分子化合物和無機微粒的涂液。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的涂布片制造方法，其特征在于在所述多孔層的細孔分布曲線上，在0.1～10μm和0.5μm以下分別具有峰值，且細孔容積在0.5ml/g以上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種涂布片制造方法，可使涂布片形成噴墨記錄層的墨吸收速度和涂膜裂紋控制都較佳的涂層，尤其是可實現(xiàn)光澤噴墨記錄片所要求的高光澤、高墨吸收性、高打印濃度、以及高畫質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的涂布片制造方法，在支持體上或在形成于支持體上的下涂層上涂布含有根據(jù)溫度變化而可逆地顯示親水性和疏水性的感溫性高分子化合物的涂液，其特征在于在涂布該感溫性高分子化合物顯示親水性的溫度范圍的處理液的同時、或者在涂布后未干燥的情況下，涂布含有感溫性高分子化合物的涂液。
文檔編號B05D1/36GK1929926SQ20058000823
公開日2007年3月14日 申請日期2005年2月24日 優(yōu)先權(quán)日2004年2月25日
發(fā)明者北村龍, 若田員義, 田井靖人, 平木紀子, 淺野晉一 申請人:王子制紙株式會社