專(zhuān)利名稱(chēng)：用于控制涂膠機(jī)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于控制涂膠機(jī)的方法。
背景技術(shù)：
通常，平板顯示器(FPD)是比使用陰極射線(xiàn)管的傳統(tǒng)電視機(jī)或監(jiān)視器薄和輕的視 頻顯示器。已開(kāi)發(fā)和使用的FPD的實(shí)例是液晶顯示器(IXD)、等離子顯示器(PDP)、場(chǎng)致發(fā) 射顯示器(FED)和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)。它們之中，IXD是這樣的顯示器即它們基于圖像信息單獨(dú)供應(yīng)數(shù)據(jù)信號(hào)到以矩 陣排列的液晶單元，因而控制液晶單元的透光性，從而顯示期望圖像。由于LCD具有的優(yōu)點(diǎn) 在于它們薄、輕而且功耗和操作電壓低，所以它們已被廣泛使用。下面將描述制造通常用于 LCD中的液晶面板的方法首先，在上基板上形成彩色濾光片和共用電極，同時(shí)在與上基板相對(duì)的下基板上 形成薄膜晶體管(TFT)和像素電極。隨后，在配向膜被涂敷到基板后，摩擦配向膜，以向要 形成在配向膜之間的液晶層中的液晶分子提供預(yù)傾角度和對(duì)準(zhǔn)方向。此外，為了保持基板之間的預(yù)定間隙，防止液晶滲出，并密封基板之間的間隙，以 預(yù)定圖案將密封膠涂布到至少一個(gè)基板以形成密封膠圖案。此后，液晶層形成在基板之間。 這樣，便制成了液晶面板。當(dāng)制造液晶面板時(shí)，涂膠機(jī)用來(lái)在基板上形成密封膠圖案。涂膠機(jī)包括其上安裝 有基板的托臺(tái)、裝有密封膠經(jīng)其排出的噴嘴的頭單元、以及支承頭單元的頭支承件。此類(lèi)涂膠機(jī)在改變各噴嘴相對(duì)于基板的位置的同時(shí)在基板上形成密封膠圖案。也 就是說(shuō)，涂膠機(jī)沿著X軸和Y軸方向水平移動(dòng)噴嘴和/或基板，同時(shí)通過(guò)沿著Z軸方向上 下移動(dòng)各頭單元的噴嘴來(lái)保持噴嘴和基板之間的一致間隙，并且將密封膠從噴嘴排出到基 板，從而形成密封膠圖案。由此，當(dāng)基板被傳送到托臺(tái)以在基板上形成密封膠圖案時(shí)，必須執(zhí)行相對(duì)于噴嘴 對(duì)準(zhǔn)基板位置的過(guò)程。通過(guò)旋轉(zhuǎn)或水平移動(dòng)基板來(lái)執(zhí)行此過(guò)程。同時(shí)，當(dāng)多個(gè)頭單元被安裝在頭支承件上時(shí)，頭單元的噴嘴可能并未沿著頭支承 件的縱向(X軸方向)成直線(xiàn)排列，或者頭單元的噴嘴之間的間隔可能不一致。當(dāng)使用新注 射器替換充有密封膠的注射器、用新噴嘴替換噴嘴或者涂膠機(jī)已運(yùn)轉(zhuǎn)一段較長(zhǎng)的時(shí)間時(shí)可 能出現(xiàn)這些問(wèn)題。為了解決這些問(wèn)題，根據(jù)相關(guān)技術(shù)，密封膠從頭單元的相應(yīng)噴嘴涂布到測(cè)試基板 或在托臺(tái)中增設(shè)的校正空間，并且將涂布有密封膠的多個(gè)部分的X軸和Y軸位置彼此進(jìn)行 對(duì)比，以判斷噴嘴是否沿著頭支承件的縱向成直線(xiàn)排列，并且此后校正頭單元的相應(yīng)噴嘴 的位置。然而，由于校正頭單元的相應(yīng)噴嘴的位置的過(guò)程在未考慮噴嘴和基板之間的關(guān)系 的情況下執(zhí)行，所以需要附加操作來(lái)將各噴嘴與基板對(duì)準(zhǔn)，從而使生產(chǎn)效率惡化。此外，根據(jù)相關(guān)技術(shù)，為了測(cè)量和調(diào)節(jié)頭單元的相應(yīng)噴嘴的位置，執(zhí)行將密封膠涂布到測(cè)試基板或在托臺(tái)中增設(shè)的校正空間的過(guò)程。然而，使用測(cè)試基板或托臺(tái)中的校正空 間產(chǎn)生額外的成本，使得產(chǎn)品的生產(chǎn)率下降。

發(fā)明內(nèi)容
因此，已在考慮到現(xiàn)有技術(shù)中出現(xiàn)的上述問(wèn)題的情況下作出本發(fā)明，并且本發(fā)明 的一個(gè)目的是提供一種用于控制涂膠機(jī)的方法，其使得能夠相對(duì)于基板精確調(diào)節(jié)噴嘴的位 置，并且使得能夠精確對(duì)準(zhǔn)多個(gè)頭單元的噴嘴之間的位置。此外，本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種用于控制涂膠機(jī)的方法，其利用用來(lái)生產(chǎn) 真實(shí)產(chǎn)品的基板使多個(gè)頭單元的彼此互相對(duì)準(zhǔn)并且使各噴嘴相對(duì)于基板對(duì)準(zhǔn)，從而消除使 用測(cè)試基板的必要性，消除在托臺(tái)上提供額外的校正空間的必要性，并提高產(chǎn)品的生產(chǎn)率。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種用于控制包括頭單元的涂膠機(jī)的方法，該頭 單元具有排出密封膠到基板的噴嘴以及安裝成面對(duì)基板的攝像單元，基準(zhǔn)標(biāo)記形成在基板 上，并且該頭單元根據(jù)由X軸和Y軸限定的XY裝置坐標(biāo)系統(tǒng)沿著X軸方向和/或Y軸方向 移動(dòng)，該方法包括(a)從噴嘴的排出孔排出密封膠，從而將密封膠涂布到基板，(b)移動(dòng)頭 單元使得涂布到基板的密封膠的中心與攝像單元的攝像中心對(duì)準(zhǔn)，(C)移動(dòng)頭單元以使攝 像單元移置到基準(zhǔn)標(biāo)記，并利用攝像單元拍攝基準(zhǔn)標(biāo)記的圖像，以及(d)基于在(C)拍攝到 的圖像測(cè)量基準(zhǔn)標(biāo)記的中心和攝像單元的攝像中心的位置。該方法還可包括當(dāng)已在(d)測(cè)量到的基準(zhǔn)標(biāo)記的中心和攝像單元的攝像中心未 彼此對(duì)準(zhǔn)時(shí)相對(duì)于基板調(diào)節(jié)噴嘴的位置。調(diào)節(jié)噴嘴的位置可包括(1)基于已在(d)測(cè)量到的基準(zhǔn)標(biāo)記的中心和攝像中心的 位置，測(cè)量基準(zhǔn)標(biāo)記的中心和攝像中心之間的X軸間隔和/或Y軸間隔，以及( 基于在 (1)測(cè)量到的X軸間隔和/或Y軸間隔沿著X軸方向和/或Y軸方向移動(dòng)噴嘴。此外，頭單元可由頭支承件以沿著X軸方向移動(dòng)的方式支承，并且調(diào)節(jié)噴嘴的位 置可包括沿著χ軸方向移動(dòng)頭單元，從而沿著X軸方向移動(dòng)噴嘴。頭單元可包括Y軸驅(qū)動(dòng) 單元以沿著Y軸方向移動(dòng)噴嘴，并且調(diào)節(jié)噴嘴的位置可包括通過(guò)Y軸驅(qū)動(dòng)單元沿著Y軸方 向移動(dòng)噴嘴。此外，為了達(dá)到以上目的，本發(fā)明提供一種用于控制包括頭單元的涂膠機(jī)的方法， 該頭單元具有排出密封膠到基板的噴嘴以及安裝成面對(duì)基板的攝像單元，基準(zhǔn)標(biāo)記形成在 基板上，并且該頭單元根據(jù)由X軸和Y軸限定的XY裝置坐標(biāo)系統(tǒng)沿著X軸方向和/或Y軸 方向移動(dòng)，該方法包括(a)從噴嘴的排出孔排出密封膠，從而將密封膠涂布到基板，(b)移 動(dòng)頭單元使得基板上的基準(zhǔn)標(biāo)記的中心與攝像單元的攝像中心對(duì)準(zhǔn)，(C)移動(dòng)頭單元以使 攝像單元移置到涂布于基板的密封膠，并利用攝像單元拍攝密封膠的圖像，以及(d)基于 在(C)拍攝到的圖像測(cè)量密封膠的中心和攝像單元的攝像中心的位置。該方法還可包括當(dāng)已在(d)測(cè)量到的密封膠的中心和攝像單元的攝像中心未彼 此對(duì)準(zhǔn)時(shí)相對(duì)于基板調(diào)節(jié)噴嘴的位置。調(diào)節(jié)噴嘴的位置可包括(1)基于已在(d)測(cè)量到的密封膠的中心和攝像中心的位 置，測(cè)量密封膠的中心和攝像中心之間的X軸間隔和/或Y軸間隔，以及(2)基于在(1)測(cè) 量到的X軸間隔和/或Y軸間隔沿著X軸方向和/或Y軸方向移動(dòng)噴嘴。此外，頭單元可由頭支承件以沿著X軸方向移動(dòng)的方式支承，并且調(diào)節(jié)噴嘴的位置可包括沿著χ軸方向移動(dòng)頭單元，從而沿著X軸方向移動(dòng)噴嘴。頭單元可包括Y軸驅(qū)動(dòng) 單元以沿著Y軸方向移動(dòng)噴嘴，并且調(diào)節(jié)噴嘴的位置可包括通過(guò)Y軸驅(qū)動(dòng)單元沿著Y軸方 向移動(dòng)噴嘴。假設(shè)將處于用作沿其切割基板的基準(zhǔn)的切割線(xiàn)內(nèi)部的基板部分指定為有效部分 而將處于切割線(xiàn)外部的基板部分指定為無(wú)效部分，則涂布密封膠可包括將密封膠涂布到基 板的無(wú)效部分。此外，涂布密封膠可包括以十字或圓點(diǎn)的形狀涂布密封膠到基板。從以上描述顯而易見(jiàn)的是，根據(jù)本發(fā)明的用于控制涂膠機(jī)的方法是有利的，因?yàn)?可參照基板的基準(zhǔn)標(biāo)記調(diào)節(jié)噴嘴的位置，從而使得能夠相對(duì)于基板精確地調(diào)節(jié)噴嘴的位 置，并且使得能夠精確地對(duì)準(zhǔn)設(shè)置在多個(gè)頭單元上的噴嘴之間的位置。此外，根據(jù)本發(fā)明的用于控制涂膠機(jī)的方法是有利的，因?yàn)槊芊饽z被涂布到用來(lái) 生產(chǎn)真實(shí)產(chǎn)品的基板的無(wú)效部分，并且利用涂布到無(wú)效部分的密封膠調(diào)節(jié)噴嘴的位置，從 而消除了使用測(cè)試基板或在托臺(tái)中增設(shè)的校正空間的必要性，并且提高了產(chǎn)品的生產(chǎn)率。


本發(fā)明上述和其他的目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將從以下結(jié)合附圖的詳細(xì)描述而被更清楚 地理解，在附圖中圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的涂膠機(jī)的透視圖；圖2是示出了圖1的涂膠機(jī)的頭單元的透視圖；圖3至圖7是按次序示出了采用根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的用于控制涂膠機(jī)的 方法將噴嘴與基板對(duì)準(zhǔn)的過(guò)程的示意圖；圖8是示出了根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的用于控制涂膠機(jī)的方法的流程圖；圖9和圖10是按次序示出了采用根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的用于控制涂膠機(jī) 的方法將噴嘴與基板對(duì)準(zhǔn)的過(guò)程的示意圖；以及圖11是示出了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的用于控制涂膠機(jī)的方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式在下文中，將參照附圖描述根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的用于控制涂膠機(jī)的方法。如圖1和圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的涂膠機(jī)包括框架10、托臺(tái)20、一對(duì)支承移動(dòng)導(dǎo)引 件30、頭支承件40、頭單元50和控制單元(未顯示)。托臺(tái)20安裝在框架10上，基板S 落座在托臺(tái)20上。支承移動(dòng)導(dǎo)引件30以沿著Y軸方向延伸的方式安裝在托臺(tái)20的兩側(cè)。 頭支承件40以頭支承件40的兩端由該對(duì)支承移動(dòng)導(dǎo)引件30支承的方式安裝在托臺(tái)20上 方，并且沿著X軸方向延伸。頭單元50以沿著X軸方向移動(dòng)的方式安裝在頭支承件40上 并且包括用于排出密封膠的噴嘴53和激光位移傳感器54?？刂茊卧刂泼芊饽z涂布操作。用于沿著X軸方向移動(dòng)托臺(tái)20的X軸移動(dòng)單元21和用于沿著Y軸方向移動(dòng)托臺(tái) 20的Y軸移動(dòng)單元22可安裝在框架10上。也就是說(shuō)，Y軸移動(dòng)單元22的Y軸導(dǎo)引件221 安裝在框架10上，X軸移動(dòng)單元21的X軸導(dǎo)引件211安裝在Y軸導(dǎo)引件221上，且托臺(tái)20 落座在X軸導(dǎo)引件211上。此結(jié)構(gòu)允許托臺(tái)20被X軸導(dǎo)引件211沿著X軸方向?qū)б鸵苿?dòng)，并且允許X軸導(dǎo)引件211被Y軸導(dǎo)引件221導(dǎo)引和移動(dòng)，使得托臺(tái)20沿著Y軸方向移 動(dòng)。同時(shí)，本發(fā)明并不局限于其中Y軸導(dǎo)引件221安裝在框架10上并且X軸導(dǎo)引件211安 裝在Y軸導(dǎo)引件221上的結(jié)構(gòu)，而可具有其中X軸導(dǎo)引件安裝在框架10上并且Y軸導(dǎo)引件 221落座在X軸導(dǎo)引件211上的結(jié)構(gòu)。當(dāng)然，本發(fā)明的涂膠機(jī)可構(gòu)造成通過(guò)采用X軸移動(dòng)單 元21和X軸導(dǎo)引件211或Y軸移動(dòng)單元22和Y軸導(dǎo)引件221使得托臺(tái)20僅沿著X軸方 向和Y軸方向之一移動(dòng)。支承移動(dòng)單元41安裝在頭支承件40的兩端以連接到支承移動(dòng)導(dǎo)引件30。支承移 動(dòng)導(dǎo)引件30和支承移動(dòng)單元41之間的相互作用允許頭支承件40沿著各支承移動(dòng)導(dǎo)引件 30也就是Y軸方向移動(dòng)。因此，頭單元50可通過(guò)頭支承件40的Y軸運(yùn)動(dòng)而沿著Y軸方向 移動(dòng)。頭移動(dòng)導(dǎo)引件42可以以沿著X軸方向延伸的方式安裝在頭支承件40上，并且頭 移動(dòng)單元51可以以聯(lián)接到頭支承件40的頭移動(dòng)導(dǎo)引件42的方式安裝在頭單元50上。頭 移動(dòng)導(dǎo)引件42和頭移動(dòng)單元51之間的相互作用允許頭單元50沿著頭支承件40的縱向也 就是X軸方向移動(dòng)。由此，頭單元50可根據(jù)由X軸和Y軸限定的XY裝置坐標(biāo)系統(tǒng)沿著X軸方向和/ 或Y軸方向移動(dòng)。如圖2所示，頭單元50包括填充有密封膠的注射器52。噴嘴53與注射器52連通 并排出密封膠。激光位移傳感器M被安放成鄰近噴嘴53以測(cè)量噴嘴53和基板S之間的 間隙。Y軸驅(qū)動(dòng)單元55沿著Y軸方向移動(dòng)噴嘴53和激光位移傳感器Μ。Z軸驅(qū)動(dòng)單元56 沿著Z軸方向移動(dòng)噴嘴53和激光位移傳感器M。激光位移傳感器M包括發(fā)出激光光線(xiàn)的發(fā)射部M1，以及與發(fā)射部541隔開(kāi)預(yù)定 間隔并接收從基板S反射的激光光線(xiàn)的接收部M2。激光位移傳感器M輸出對(duì)應(yīng)于從發(fā)射 部541發(fā)射并從基板S反射的激光光線(xiàn)的圖像形成位置產(chǎn)生的電信號(hào)到控制單元，從而測(cè) 量基板S和噴嘴53之間的間隙。Y軸驅(qū)動(dòng)單元55由控制單元控制，從而調(diào)節(jié)噴嘴53在Y軸方向上的位置。此外，截面積傳感器57可安裝在頭單元50以測(cè)量涂布到基板S的密封膠圖案P 的截面積。截面積傳感器57連續(xù)發(fā)射激光光線(xiàn)到基板S并掃描密封膠圖案P，從而測(cè)量密 封膠圖案P的截面積。通過(guò)截面積傳感器57測(cè)量到的密封膠圖案P的截面積方面的數(shù)據(jù) 用來(lái)判斷密封膠圖案P是否有缺陷。此外，攝像單元58可以以鄰近噴嘴53并面對(duì)基板S的方式安裝在頭單元50上。 當(dāng)噴嘴53通過(guò)頭支承件40的Y軸運(yùn)動(dòng)和頭單元50的X軸運(yùn)動(dòng)移動(dòng)時(shí)，攝像單元58的作 用是測(cè)量噴嘴53的當(dāng)前位置。在下文中，將描述在如上述構(gòu)成的涂膠機(jī)中將噴嘴53與基板S對(duì)準(zhǔn)同時(shí)將頭單元 50的噴嘴53移動(dòng)到期望位置的過(guò)程。如圖3所示，基準(zhǔn)標(biāo)記M形成在用來(lái)生產(chǎn)真實(shí)產(chǎn)品的基板S上，并且用作用于在托 臺(tái)20上對(duì)準(zhǔn)基板S的基準(zhǔn)、用于將噴嘴53引導(dǎo)到基板S上的涂布起始位置的基準(zhǔn)、以及用 于在基板S的劃線(xiàn)或切割操作期間確定相關(guān)聯(lián)設(shè)備的位置的基準(zhǔn)。本發(fā)明提供用于利用在基板S上指示的基準(zhǔn)標(biāo)記M精確調(diào)節(jié)頭單元50的噴嘴53 的位置并且將噴嘴53與基板S對(duì)準(zhǔn)的方法。
此外，如圖3所示，在基板S上刻畫(huà)真實(shí)或虛擬切割線(xiàn)LC。因此，基板S可分為存 在于切割線(xiàn)LC內(nèi)部并且實(shí)際用于產(chǎn)品的部分，以及存在于切割線(xiàn)LC外部并且不用于產(chǎn)品、 從而在切割后將其丟棄的部分。根據(jù)本發(fā)明，假設(shè)將基板S定位在用作沿其切割基板S的基準(zhǔn)的切割線(xiàn)LC內(nèi)部的 部分指定為有效部分SE，而將定位在切割線(xiàn)LC外部的部分指定為無(wú)效部分Si，暫時(shí)將密封 膠涂布到基板S的無(wú)效部分Si，并且精確調(diào)節(jié)頭單元50的噴嘴53的位置并利用涂布到無(wú) 效部分SI的密封膠將基板S和噴嘴53彼此對(duì)準(zhǔn)。將參照?qǐng)D4至圖8描述根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施方式的用于控制涂膠機(jī)的方法。如圖4所示，當(dāng)基板S被傳送到托臺(tái)20時(shí)，頭單元50移動(dòng)，使得噴嘴53的排出孔 被安放在基板S的無(wú)效部分SI上。這里，頭單元50可通過(guò)在控制單元的控制下驅(qū)動(dòng)頭移 動(dòng)單元51而沿著X軸方向移動(dòng)，并且可通過(guò)在支承移動(dòng)單元41被驅(qū)動(dòng)時(shí)沿著Y軸方向移 動(dòng)頭支承件40而沿著Y軸方向移動(dòng)。由此，當(dāng)頭單元50移動(dòng)使得噴嘴53的排出孔被安放在基板S的無(wú)效部分SI上時(shí)， 在步驟S11，控制單元從噴嘴53排出密封膠并且涂布臨時(shí)密封膠PT到基板S的無(wú)效部分 SI以對(duì)準(zhǔn)噴嘴53。臨時(shí)密封膠PT可形成為具有已預(yù)先確定的X軸和Y軸長(zhǎng)度的圓點(diǎn)或十 字形狀。此外，如圖5所示，在步驟S12，頭單元50移動(dòng)使得攝像單元58的攝像中心CC與 涂布到無(wú)效部分SI的密封膠PT的中心PTC直接對(duì)準(zhǔn)。如圖6和圖7所示，在步驟S13，頭單元50根據(jù)XY裝置坐標(biāo)系統(tǒng)沿著X軸方向和 /或Y軸方向移動(dòng)預(yù)定距離DX和DY，從而將攝像單元58移動(dòng)到基板S上的基準(zhǔn)標(biāo)記M,并 且用攝像單元58拍攝基準(zhǔn)標(biāo)記M的圖像。這里，當(dāng)噴嘴53的精確位置得以確定并且基板S和噴嘴53被彼此精確對(duì)準(zhǔn)時(shí)，確 定攝像單元58的X軸移動(dòng)距離DX和/或Y軸移動(dòng)距離DY使得攝像單元58的攝像中心CC 與基板S的基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC直接對(duì)準(zhǔn)。也就是說(shuō)，如果當(dāng)攝像單元58沿著X軸方向移動(dòng)距離DX并且沿著Y軸方向移動(dòng) 距離DY時(shí)，噴嘴53的精確位置得以確定并且基板S和噴嘴53被彼此精確對(duì)準(zhǔn)，如圖6所 示，則基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC變成與攝像單元58的攝像中心CC精確和直接地對(duì)準(zhǔn)。然而，在涂膠機(jī)已使用一段較長(zhǎng)的時(shí)間后，或者注射器52和/或噴嘴53已被新件 替換后，噴嘴53的位置可能改變。從而，在攝像單元58沿著X軸方向移動(dòng)距離DX并且沿 著Y軸方向移動(dòng)距離DY的情況下，如圖7所示，基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC可能不會(huì)與攝像單元 58的攝像中心CC直接對(duì)準(zhǔn)。因此，在步驟S14，控制單元基于拍攝到的基準(zhǔn)標(biāo)記M的圖像測(cè)量基準(zhǔn)標(biāo)記M的中 心MC的位置和攝像單元58的攝像中心CC的位置，從而判斷基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC和攝像 單元58的攝像中心CC是否彼此對(duì)準(zhǔn)。如果基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC與攝像單元58的攝像中心CC直接對(duì)準(zhǔn)，則判斷噴嘴53 的位置是精確的并且基板S和噴嘴53彼此精確對(duì)準(zhǔn)。因此，在步驟S16，控制單元將噴嘴 53安放在基板S上的有效部分SE中的涂布起始位置并且從噴嘴53排出密封膠，從而在基 板S上形成預(yù)定的密封膠圖案。然而，如果基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC并未與攝像單元58的攝像中心CC對(duì)準(zhǔn)，也就是說(shuō)，如果基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC和攝像單元58的攝像中心CC之間在X軸方向和/或Y軸方 向上存在間隙，則在步驟S15相對(duì)于基板S調(diào)節(jié)噴嘴53的位置。通過(guò)基于基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC和攝像中心CC的位置測(cè)量基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC 和攝像中心CC之間的X軸間隙dx和/或Y軸間隙dy來(lái)調(diào)節(jié)噴嘴53的位置，并且隨后基 于測(cè)量到的X軸間隙dx和Y軸間隙dy沿著X軸方向和/或Y軸方向移動(dòng)噴嘴53。為了沿著X軸方向移動(dòng)噴嘴53，頭單元50可通過(guò)頭移動(dòng)單元51的操作沿著X軸 方向移動(dòng)。此外，為了沿著Y軸方向移動(dòng)噴嘴53，可通過(guò)設(shè)置在頭單元50上的Y軸驅(qū)動(dòng)單 元55的操作來(lái)沿著Y軸方向移動(dòng)噴嘴53。由此，在噴嘴53已沿著X軸方向和/或Y軸方向移動(dòng)基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC和攝 像中心CC之間的X軸間隙dx和/或Y軸間隙dy后，可再次執(zhí)行步驟S12，即將涂布到基板 S上的無(wú)效區(qū)域SI的密封膠PT的中心PTC與攝像單元58的攝像中心CC對(duì)準(zhǔn)、步驟S13， 即將頭單元50移動(dòng)距離DX和/或DY從而利用攝像單元58拍攝基準(zhǔn)標(biāo)記M的圖像、以及 步驟S14，即基于拍攝到的基準(zhǔn)標(biāo)記M的圖像測(cè)量基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC和攝像單元58的攝 像中心CC的位置從而判斷基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC和攝像單元58的攝像中心CC是否彼此對(duì) 準(zhǔn)。此外，如果基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC與攝像單元58的攝像中心CC對(duì)準(zhǔn)，則在步驟S16， 將噴嘴53定位在基板S上的有效部分SE中的涂布起始位置處，并且密封膠從噴嘴53排 出，從而在基板S上形成預(yù)定的密封膠圖案。然而，如果基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC仍然未與攝 像單元58的攝像中心CC對(duì)準(zhǔn)，則在步驟15，沿著X軸方向和/或Y軸方向調(diào)節(jié)噴嘴53的 位置。通過(guò)該過(guò)程，可相對(duì)于基板S精確調(diào)節(jié)噴嘴53的位置。在下文中，將參照?qǐng)D9至圖11描述根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的用于控制涂膠機(jī) 的方法。本發(fā)明的第一和第二實(shí)施方式中共用的元件將使用相同的參考標(biāo)號(hào)，并且在此將 略去其詳細(xì)描述。如圖9和圖10所示，在根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的用于控制涂膠機(jī)的方法中， 首先，在步驟S21，移動(dòng)頭單元50以將臨時(shí)密封膠PT涂布到基板S上的無(wú)效部分SI以對(duì)準(zhǔn) 噴嘴53。這里，密封膠PT可以以十字形狀涂布。接下來(lái)，在步驟S22，移動(dòng)頭單元50使得攝像單元58的攝像中心CC與在基板S上 指示的基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC直接對(duì)準(zhǔn)。隨后，在步驟S23，根據(jù)XY裝置坐標(biāo)系統(tǒng)沿著X軸方向和/或Y軸方向以預(yù)定距離 DX和DY移動(dòng)頭單元50，從而將攝像單元58移動(dòng)到涂布于基板S上的無(wú)效部分SI的密封 膠PT，并且利用攝像單元58拍攝密封膠PT的圖像。與本發(fā)明的第一實(shí)施方式相似，當(dāng)確定噴嘴53的精確位置并且基板S和噴嘴53 彼此精確對(duì)準(zhǔn)時(shí)，確定攝像單元58的X軸移動(dòng)距離DX和/或Y軸移動(dòng)距離DY使得攝像單 元58的攝像中心CC與密封膠PT的中心PTC直接對(duì)準(zhǔn)。在涂膠機(jī)已使用一段較長(zhǎng)的時(shí)間后，或者注射器52和/或噴嘴53已被新件替換 后，噴嘴53的位置可能改變。從而，在攝像單元58沿著X軸方向移動(dòng)距離DX并且沿著Y 軸方向移動(dòng)距離DY的情況下，如圖10所示，密封膠PT的中心PTC可能不會(huì)與攝像單元58 的攝像中心CC直接對(duì)準(zhǔn)。因此，在步驟S24，控制單元基于拍攝到的密封膠PT的圖像測(cè)量密封膠PT的中心PTC的位置和攝像單元58的攝像中心CC的位置，從而判斷密封膠PT的中心PTC和攝像單 元58的攝像中心CC是否彼此對(duì)準(zhǔn)。如果密封膠PT的中心PTC與攝像單元58的攝像中心CC直接對(duì)準(zhǔn)，則判斷噴嘴53 的位置是精確的并且基板S和噴嘴53彼此精確對(duì)準(zhǔn)。因此，在步驟S26，控制單元將噴嘴 53安放在基板S上的有效部分SE中的涂布起始位置并從噴嘴53排出密封膠，從而在基板 S上形成預(yù)定的密封膠圖案。然而，如果密封膠PT的中心PTC并未與攝像單元58的攝像中心CC對(duì)準(zhǔn)，也就是 說(shuō)，如果密封膠PT的中心PTC和攝像單元58的攝像中心CC之間在X軸方向和/或Y軸方 向上存在間隙，則在步驟S25相對(duì)于基板S調(diào)節(jié)噴嘴53的位置。通過(guò)基于密封膠PT的中心PTC和攝像中心CC的位置測(cè)量密封膠PT的中心PTC 和攝像中心CC之間的X軸間隙dx和/或Y軸間隙dy來(lái)調(diào)節(jié)噴嘴53的位置，并且隨后基 于測(cè)量到的X軸間隙dx和/或Y軸間隙dy沿著X軸方向和/或Y軸方向移動(dòng)噴嘴53。為了沿著X軸方向移動(dòng)噴嘴53，可通過(guò)頭移動(dòng)單元51的操作來(lái)沿著X軸方向移動(dòng) 頭單元50。此外，為了沿著Y軸方向移動(dòng)噴嘴53，可通過(guò)設(shè)置在頭單元50上的Y軸驅(qū)動(dòng)單 元55的操作來(lái)沿著Y軸方向移動(dòng)噴嘴53。由此，在噴嘴53已沿著X軸方向和/或Y軸方向移動(dòng)密封膠PT的中心PTC和攝 像中心CC之間的X軸間隙dx和/或Y軸間隙dy后，可再次執(zhí)行步驟S22，即將在基板S上 指示的基準(zhǔn)標(biāo)記M的中心MC與攝像單元58的攝像中心CC對(duì)準(zhǔn)、步驟S23，即以距離DX和 /或DY移動(dòng)頭單元50從而利用攝像單元58拍攝密封膠PT的圖像、以及步驟S24，即基于 拍攝到的密封膠PT的圖像測(cè)量密封膠PT的中心PTC和攝像單元58的攝像中心CC的位置 從而判斷密封膠PT的中心PTC和攝像單元58的攝像中心CC是否彼此對(duì)準(zhǔn)。此外，如果密封膠PT的中心PTC與攝像單元58的中心CC對(duì)準(zhǔn)，則在步驟S26，將 噴嘴53定位在基板S上的有效部分SE中的涂布起始位置處，并且密封膠從噴嘴53排出， 從而在基板S上形成預(yù)定的密封膠圖案。然而，如果密封膠PT的中心PTC仍然未與攝像單 元58的攝像中心CC對(duì)準(zhǔn)，則在步驟25，在X軸方向和/或Y軸方向上調(diào)節(jié)噴嘴53的位置。 通過(guò)該過(guò)程，可相對(duì)于基板S精確調(diào)節(jié)噴嘴53的位置。上述根據(jù)本發(fā)明的用于控制涂膠機(jī)的方法可基于在基板S上形成的基準(zhǔn)標(biāo)記M調(diào) 節(jié)噴嘴53的位置，從而允許相對(duì)于基板S精確調(diào)節(jié)噴嘴53的位置。此外，在將多個(gè)頭單元50安裝在一個(gè)頭支承件40的情況下，如果根據(jù)上述方法利 用基板S的基準(zhǔn)標(biāo)記M來(lái)對(duì)準(zhǔn)設(shè)置在相應(yīng)頭單元50上的所有噴嘴53，則無(wú)需另外的操作來(lái) 調(diào)節(jié)頭單元50的噴嘴53之間的間隔，并且可精確調(diào)節(jié)設(shè)置在頭單元50上的噴嘴53之間 的相對(duì)位置。也就是說(shuō)，可通過(guò)調(diào)節(jié)頭單元40的噴嘴53之間在X軸方向上的位置而按需要保 持頭單元50的噴嘴53之間在X軸方向上的間隔，并且可通過(guò)調(diào)節(jié)頭單元50的噴嘴53在Y 軸方向上的位置而成排地精確對(duì)準(zhǔn)頭單元50的噴嘴53。在調(diào)節(jié)頭單元50的相應(yīng)噴嘴53 的位置的情況下，可利用基板S上的一個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記M。然而，可利用對(duì)應(yīng)于頭單元50的相應(yīng) 噴嘴53的多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記M。 根據(jù)本發(fā)明的用于控制涂膠機(jī)的方法基于形成在基板S上的基準(zhǔn)標(biāo)記M調(diào)節(jié)噴嘴 53的位置，從而除了能夠精確調(diào)節(jié)頭單元50的噴嘴53之間的相對(duì)位置外，還允許相對(duì)于基板S精確調(diào)節(jié)噴嘴53的位置。此外，根據(jù)本發(fā)明的用于控制涂膠機(jī)的方法將密封膠PT涂布到用來(lái)生產(chǎn)真實(shí)產(chǎn) 品的基板S的無(wú)效部分Si，并且利用涂布到無(wú)效部分SI的密封膠PT來(lái)調(diào)節(jié)噴嘴53的位 置，從而消除使用測(cè)試基板或在托臺(tái)20中增設(shè)的校正空間的必要性，因此提高了產(chǎn)品的生產(chǎn)率。本發(fā)明的實(shí)施方式的技術(shù)精神可單獨(dú)實(shí)施或彼此結(jié)合。
權(quán)利要求
1.一種用于控制涂膠機(jī)的方法，所述涂膠機(jī)包括頭單元，所述頭單元具有將密封膠排 出到基板的噴嘴以及安裝成面對(duì)所述基板的攝像單元，基準(zhǔn)標(biāo)記形成在所述基板上，并且 所述頭單元根據(jù)由X軸和Y軸限定的XY裝置坐標(biāo)系統(tǒng)沿著X軸方向和/或Y軸方向移動(dòng)， 所述方法包括(a)從所述噴嘴的排出孔排出所述密封膠，從而將所述密封膠涂布到所述基板；(b)移動(dòng)所述頭單元使得涂布到所述基板的所述密封膠的中心與所述攝像單元的攝像 中心對(duì)準(zhǔn)；(C)移動(dòng)所述頭單元以使所述攝像單元移置到所述基準(zhǔn)標(biāo)記，并利用所述攝像單元拍 攝所述基準(zhǔn)標(biāo)記的圖像；以及(d)基于在(C)拍攝到的所述圖像測(cè)量所述基準(zhǔn)標(biāo)記的中心和所述攝像單元的所述攝 像中心的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括當(dāng)已在(d)測(cè)量到的所述基準(zhǔn)標(biāo)記的中心和所述攝像單元的所述攝像中心未彼此對(duì) 準(zhǔn)時(shí)，相對(duì)于所述基板調(diào)節(jié)所述噴嘴的位置。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述調(diào)節(jié)噴嘴的位置包括(1)基于已在(d)測(cè)量到的所述基準(zhǔn)標(biāo)記的中心和所述攝像中心的位置，測(cè)量所述基 準(zhǔn)標(biāo)記的中心和所述攝像中心之間的X軸間隔和/或Y軸間隔；以及(2)基于在(1)測(cè)量到的所述X軸間隔和/或所述Y軸間隔沿著所述X軸方向和/或 所述Y軸方向移動(dòng)所述噴嘴。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中所述頭單元由頭支承件以沿著所述X軸方向移動(dòng)的方式支承，并且所述調(diào)節(jié)噴嘴的位置包括沿著所述X軸方向移動(dòng)所述頭單元，從而沿著所述X軸方向 移動(dòng)所述噴嘴。
5.如權(quán)利要求3所述的方法，其中所述頭單元包括Y軸驅(qū)動(dòng)單元以沿著所述Y軸方向移動(dòng)所述噴嘴，并且所述調(diào)節(jié)噴嘴的位置包括通過(guò)所述Y軸驅(qū)動(dòng)單元來(lái)沿著所述Y軸方向移動(dòng)所述噴嘴。
6.一種用于控制涂膠機(jī)的方法，所述涂膠機(jī)包括頭單元，所述頭單元具有將密封膠排 出到基板的噴嘴以及安裝成面對(duì)所述基板的攝像單元，基準(zhǔn)標(biāo)記形成在所述基板上，并且 所述頭單元根據(jù)由X軸和Y軸限定的XY裝置坐標(biāo)系統(tǒng)沿著X軸方向和/或Y軸方向移動(dòng)， 所述方法包括(a)從所述噴嘴的排出孔排出密封膠，從而將所述密封膠涂布到所述基板；(b)移動(dòng)所述頭單元使得所述基板上的所述基準(zhǔn)標(biāo)記的中心與所述攝像單元的攝像中 心對(duì)準(zhǔn)；(C)移動(dòng)所述頭單元以使所述攝像單元移置到涂布于所述基板的所述密封膠，并利用 所述攝像單元拍攝所述密封膠的圖像；以及(d)基于在(C)拍攝到的圖像測(cè)量所述密封膠的中心和所述攝像單元的所述攝像中心 的位置。
7.如權(quán)利要求6所述的方法，還包括當(dāng)已在(d)測(cè)量到的所述密封膠的中心和所述攝像單元的所述攝像中心未彼此對(duì)準(zhǔn)時(shí)，相對(duì)于所述基板調(diào)節(jié)所述噴嘴的位置。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中所述調(diào)節(jié)噴嘴的位置包括(1)基于已在(d)測(cè)量到的所述密封膠的中心和所述攝像中心的位置，測(cè)量所述密封 膠的中心和所述攝像中心之間的X軸間隔和/或Y軸間隔；以及(2)基于在(1)測(cè)量到的所述X軸間隔和/或所述Y軸間隔沿著所述X軸方向和/或 所述Y軸方向移動(dòng)所述噴嘴。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其中所述頭單元由頭支承件以沿著所述X軸方向移動(dòng)的方式支承，并且 所述調(diào)節(jié)噴嘴的位置包括沿著所述X軸方向移動(dòng)所述頭單元，從而沿著所述X軸方向 移動(dòng)所述噴嘴。
10.如權(quán)利要求8所述的方法，其中所述頭單元包括Y軸驅(qū)動(dòng)單元以沿著所述Y軸方向所述移動(dòng)噴嘴，并且 所述調(diào)節(jié)噴嘴的位置包括通過(guò)所述Y軸驅(qū)動(dòng)單元沿著所述Y軸方向移動(dòng)所述噴嘴。
11.如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的方法，其中，假設(shè)將處于用作沿其切割所述基板 的基準(zhǔn)的切割線(xiàn)內(nèi)部的基板部分指定為有效部分并且將處于所述切割線(xiàn)外部的基板部分 指定為無(wú)效部分，則所述涂布密封膠包括將密封膠涂布到所述基板的所述無(wú)效部分。
12.如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述涂布密封膠包括 以十字或圓點(diǎn)的形狀涂布所述密封膠到所述基板。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于控制涂膠機(jī)的方法。該方法參照基板的基準(zhǔn)標(biāo)記調(diào)節(jié)噴嘴的位置，從而能夠相對(duì)于基板精確調(diào)節(jié)噴嘴的位置，并能夠精確對(duì)準(zhǔn)設(shè)置在多個(gè)頭單元上的噴嘴之間的位置。
文檔編號(hào)B05C5/00GK102078848SQ20091025998
公開(kāi)日2011年6月1日 申請(qǐng)日期2009年12月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月1日
發(fā)明者孫世豪 申請(qǐng)人:塔工程有限公司