專利名稱：涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)和利用該真空室系統(tǒng)的涂覆方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的方面涉及涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)和利用該真空室系統(tǒng)的涂覆方法，更具體地講，涉及可以提高產(chǎn)品質(zhì)量的涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)和利用該真空室系統(tǒng)的涂覆方法。
背景技術(shù)：
通常，涂覆設(shè)備包括涂覆溶液入口和涂覆溶液出口。如果涂覆溶液被供應(yīng)到涂覆設(shè)備的涂覆溶液入口，則其沿著涂覆溶液流動路徑通過涂覆溶液出口噴涂。在這種情況下， 在基材沿著在涂覆溶液出口側(cè)的一個方向轉(zhuǎn)移時執(zhí)行涂覆。當(dāng)在基材的涂覆中執(zhí)行薄膜涂覆或者高速涂覆時，涂覆溶液的涂覆珠粒沿著關(guān)于基材執(zhí)行涂覆的方向從上游側(cè)被推向下游側(cè)。因此，涂覆珠粒的形狀被修改，因此，可能執(zhí)行不了涂覆。

發(fā)明內(nèi)容
在一個實施例中，提供一種涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)和利用該真空室系統(tǒng)的涂覆方法，所述真空室系統(tǒng)包括控制單元，所述控制單元用于控制空氣使空氣被選擇性地吸入附著到涂覆設(shè)備的真空室和緩沖罐中，從而防止在間歇涂覆中的涂覆溶液的吸引現(xiàn)象。根據(jù)本發(fā)明的方面，提供一種涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括真空室，連接到涂覆設(shè)備的涂覆溶液出口 ；聲壓產(chǎn)生單元，連接到真空室的一個區(qū)域，以產(chǎn)生聲壓；緩沖罐，設(shè)置在真空室和聲壓產(chǎn)生單元之間，其中，還在真空室和緩沖罐之間設(shè)置控制單元，控制單元控制空氣使空氣被選擇性地吸入真空室和聲壓產(chǎn)生單元中或者與真空室和聲壓產(chǎn)生單元阻斷?？刂茊卧尚纬捎械谝豢刂茊卧偷诙刂茊卧?，所述第一控制單元和所述第二控制單元控制空氣使空氣被獨立地吸入真空室和聲壓產(chǎn)生單元或者與真空室和聲壓產(chǎn)生單元阻斷?？刂茊卧杀恍纬蔀槿ㄩ_關(guān)閥。三通開關(guān)閥可被手動或自動地操作。在控制單元的操作下，緩沖罐可以暫時地吸收由聲壓產(chǎn)生單元產(chǎn)生的聲壓。
聲壓產(chǎn)生單元可被形成為風(fēng)扇。用于打開/關(guān)閉涂覆溶液出口的間歇式單元可進一步形成在涂覆溶液出口處。在將活性材料漿涂覆在二次電池的金屬基材上時可使用涂覆設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明的方面，提供一種利用涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)的間歇涂覆方法，該方法包括在空氣與真空室和聲壓產(chǎn)生單元阻斷從而聲壓作用于真空室的狀態(tài)下，通過控制第一控制單元和第二控制單元來形成涂覆部分；在空氣被獨立地吸入真空室和聲壓產(chǎn)生單元中的狀態(tài)下，通過控制第一控制單元和第二控制單元來形成非涂覆部分。在形成涂覆部分的步驟中，第一控制單元可將真空室和聲壓產(chǎn)生單元控制為彼此連接。在形成涂覆部分的步驟中，第二控制單元可將真空室和聲壓產(chǎn)生單元控制為彼此連接。在形成非涂覆部分的步驟中，第一控制單元在阻斷真空室和聲壓產(chǎn)生單元的同時可控制空氣使空氣被吸入真空室中。在形成非涂覆部分的步驟中，第二控制單元在阻斷真空室和聲壓產(chǎn)生單元的同時可控制空氣使空氣被吸入聲壓產(chǎn)生單元中。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實施例，在間歇涂覆中防止涂覆溶液的吸引現(xiàn)象，使得涂覆的不合格率可減小，從而提高了產(chǎn)品的質(zhì)量。另外，間歇涂覆被平穩(wěn)地執(zhí)行，從而提高了
生產(chǎn)率。


附圖與說明書一起示出本發(fā)明的示例性實施例，且附圖與描述一起用于解釋本發(fā)明的原理。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的利用具有附著到涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)的涂覆設(shè)備制備涂覆材料的工藝的示意性工藝視圖。圖2A是示出涂覆珠粒的形狀在薄膜涂覆或者高速涂覆中被改變的狀態(tài)的剖視圖。圖2B是示出利用真空室在涂覆珠粒中產(chǎn)生聲壓的狀態(tài)的剖視圖。圖3是示出在涂覆部分的端部(非涂覆部分始于該端部)發(fā)生吸引現(xiàn)象 (attraction phenomenon)的狀態(tài)的平面圖。圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)的剖視圖。圖5是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的空氣沒有被吸入到涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)的狀態(tài)的框圖。圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的空氣被吸入涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)中的狀態(tài)的框圖。圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的利用涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)來涂覆材料的狀態(tài)的平面圖。
具體實施例方式在下面的詳細描述中，僅通過示例的方式示出和描述本發(fā)明的僅僅某些示例性實施例。如本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)認識到的，在全部不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，所描述的實施例可以以各種不同的方式修改。因此，附圖和描述將被認為本質(zhì)上是示例性而非限制性的。另外，當(dāng)元件被指出“在”另一元件“上”時，該元件可以直接在另一元件上，或者該元件可以間接地在另一元件上并且該元件和另一元件之間設(shè)置有一個或多個中間元件。 另外，當(dāng)元件被指出“連接到”另一元件時，該元件可直接連接到另一元件，或者該元件可間接連接到另一元件并且該元件與另一元件之間設(shè)置有一個或多個中間元件。以下，相同的標號涉及相同的元件。以下，將參照附圖詳細描述根據(jù)本發(fā)明的實施例的涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)和利用該真空室系統(tǒng)的涂覆方法。圖1是根據(jù)本發(fā)明的實施例的利用具有附著到涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)的涂覆設(shè)備制備涂覆材料的工藝的示意性工藝視圖。參照圖1，纏繞在輥20的兩側(cè)上的基材10被安裝為連續(xù)地轉(zhuǎn)移。涂覆設(shè)備30、干燥設(shè)備40和割縫(slitting)設(shè)備50被順序地安裝在基材10上。根據(jù)實施例的涂覆設(shè)備 30可以應(yīng)用在各個領(lǐng)域。然而，在下面的實施例中將描述將活性材料漿涂覆在二次電池的金屬基材上的涂覆設(shè)備。首先，通過混合粘合劑與溶劑來制造粘合劑溶液，然后通過將活性材料與導(dǎo)電劑或添加劑混合在粘合劑溶液中來制備活性材料漿。隨后，利用涂覆設(shè)備30將活性材料漿涂覆在基材10上，然后利用干燥設(shè)備40來干燥。在執(zhí)行滾壓以增加活性材料的容量密度之后，利用割縫設(shè)備50執(zhí)行割縫，從而獲得寬度恒定的涂覆基材。這里，活性材料漿指其含有溶劑的狀態(tài)，活性材料指通過干燥活性材料漿來從活性材料漿移除溶劑的狀態(tài)。圖2A是示出涂覆珠粒的形狀在薄膜涂覆或者高速涂覆中被改變的狀態(tài)的剖視圖。圖2B是示出利用真空室在涂覆珠粒中產(chǎn)生聲壓的狀態(tài)的剖視圖。參照圖2A和圖2B，可利用諸如槽凸模(slot die)的涂覆設(shè)備的主體部分30a和 30b (見圖4)來執(zhí)行薄膜涂覆或者高速涂覆。在這種情況下，通過形成在涂覆設(shè)備的主體部分30a和30b之間的涂覆溶液出口 32噴涂的涂覆溶液100的涂覆珠粒沿著基材10前進的方向從上游側(cè)被推到下游側(cè)。當(dāng)利用涂覆設(shè)備的主體部分30a和30b執(zhí)行涂覆時，涂覆珠粒的形狀可能發(fā)生改變102。為了防止這樣的問題，真空室60可被設(shè)置成將涂覆珠粒拉到上游側(cè)。使聲壓作用于真空室60的內(nèi)部，從而正常地形成涂覆珠粒。緩沖罐70 (見圖4)和聲壓產(chǎn)生單元80 (見圖4)進一步被包括在真空室系統(tǒng)中，從而使聲壓作用于真空室60的內(nèi)部。隨后在圖4到圖6中將描述它們的詳細描述。圖3是示出在涂覆部分的端部(非涂覆部分從該端部開始)發(fā)生吸引現(xiàn)象的狀態(tài)的平面圖。參照圖3，在利用具有附著到涂覆設(shè)備的圖2B的真空室系統(tǒng)的涂覆設(shè)備執(zhí)行連續(xù)涂覆的情況中，其通過聲壓的操作平穩(wěn)地執(zhí)行。然而，在利用具有附著到涂覆設(shè)備的圖2B 的真空室系統(tǒng)的涂覆設(shè)備執(zhí)行間歇涂覆的情況中，發(fā)生如圖3中所示的涂覆溶液的吸引現(xiàn)象 101。在利用用于執(zhí)行間歇涂覆的間歇閥(或者其他種類的間歇式單元)來控制涂覆溶液出口 32的打開/關(guān)閉的情況中，涂覆部分IOOa和非涂覆部分IOOb交替地形成在基材10 上。這里，非涂覆部分IOOb是不被執(zhí)行涂覆的部分。即，涂覆部分IOOa間斷地形成。發(fā)生吸引現(xiàn)象101的原因是在間歇閥關(guān)閉時涂覆溶液被吸引到涂覆溶液出口 32 的內(nèi)側(cè)。在這種情況下，在真空室中作用的聲壓防止間歇閥吸引涂覆溶液。結(jié)果，在間歇涂覆的涂覆部分IOOa完成時所在的每個點發(fā)生吸引現(xiàn)象。
圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)的剖視圖。參照圖4，根據(jù)該實施例的涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)包括真空室60、緩沖罐70、聲壓產(chǎn)生單元80以及控制單元90a和90b。真空室60連接到涂覆設(shè)備30的涂覆溶液出口 32。緩沖罐70通過管等連接到真空室60的一個區(qū)域，聲壓產(chǎn)生單元80也通過管等連接到緩沖罐70。將簡要地描述涂覆設(shè)備30。涂覆設(shè)備30包括第一主體部分30a、第二主體部分 30b、涂覆溶液入口 31和涂覆溶液出口 32。第一主體部分30a和第二主體部分30b被裝配成在它們之間設(shè)置有特定間隙，所述間隙的一側(cè)可以是涂覆溶液出口 32。涂覆溶液供應(yīng)單元(未示出)可被設(shè)置到涂覆溶液入口 31，涂覆溶液入口 31可延伸到連接到所述間隙的涂覆溶液流動路徑。通過在涂覆溶液出口 32的旁邊的輥20來使材料10沿固定方向轉(zhuǎn)移，通過從涂覆溶液出口 32噴涂的涂覆溶液100執(zhí)行涂覆。聲壓產(chǎn)生單元80被形成為風(fēng)扇等，并產(chǎn)生聲壓，以將聲壓經(jīng)由緩沖罐70供應(yīng)到真空室60。這里，聲壓指低于氣壓的壓強，通過連接到真空室60的涂覆溶液出口 32噴涂的涂覆溶液100受聲壓的影響。緩沖罐70可在下面將描述的控制單元90a和90b的操作中暫時地吸收從聲壓產(chǎn)生單元80產(chǎn)生的聲壓。S卩，緩沖罐70可以是暫時地吸收在控制單元90a和90b的操作中產(chǎn)生的壓強的壓力罐或震動吸收罐。因此，不穩(wěn)定的聲壓可以在緩沖罐70中被穩(wěn)定，以將穩(wěn)定的聲壓供應(yīng)到真空室60?？刂茊卧?0a和90b可進一步設(shè)置在真空室60和緩沖罐70之間。第一空氣供應(yīng)單元91a和第二空氣供應(yīng)單元91b可以分別設(shè)置在控制單元90a和90b的附近，用于提供空氣?？梢圆僮骺刂茊卧?0a和90b，使得通過第一空氣供應(yīng)單元91a和第二空氣供應(yīng)單元 91b供應(yīng)的空氣分別被選擇性地吸入真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80中或者分別與真空室60 和聲壓產(chǎn)生單元80阻斷?？刂茊卧尚纬捎械谝豢刂茊卧?0a和第二控制單元90b，所述第一控制單元90a 和第二控制單元90b被操作成使得空氣被吸入真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80或者與真空室 60和聲壓產(chǎn)生單元80阻斷?？刂茊卧?0a和90b可被形成為三通開關(guān)閥。在這種情況下， 三通開關(guān)閥可被手動或者自動地操作。圖5是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的空氣沒有被吸入到涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)的狀態(tài)的框圖。參照圖5，在根據(jù)本實施例的利用涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)間歇地執(zhí)行涂覆的情況中，可通過控制第一控制單元90a和第二控制單元90b來供應(yīng)真空室60的聲壓或者阻斷真空室60的聲壓。在形成涂覆部分IOOa的情況下(見圖7)，在空氣與真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80 阻斷的狀態(tài)下控制第一控制單元90a和第二控制單元90b，從而使聲壓作用于真空室60。在這種情況下，第一控制單元90a可被控制為使得真空室60被連接到聲壓產(chǎn)生單元80。第一控制單元90a可控制三個方向A、B和C(真空室60(A)、聲壓產(chǎn)生單元80 (B)和第一空氣供應(yīng)單元91a(C))的打開/關(guān)閉。即，當(dāng)形成涂覆部分IOOa的同時，第一控制單元90a可打開A和B并關(guān)閉C。第二控制單元90b也可被控制為使得真空室60被連接到聲壓產(chǎn)生單元80。第二控制單元90b可控制三個方向D、E和F (真空室60 (D)、聲壓產(chǎn)生單元80 (E)和第二空氣供應(yīng)單元91b(F))的打開/關(guān)閉。即，當(dāng)形成涂覆部分IOOa的同時，第二控制單元90b可打開D和E并關(guān)閉F。因此，當(dāng)形成涂覆部分IOOa時，聲壓可以形成在真空室60中。圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的空氣被吸入涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)中的狀態(tài)的框圖。參照圖6，在形成非涂覆部分IOOb (見圖7)的情況下，第一控制單元90a和第二控制單元90b被控制為處于空氣被獨立地吸入真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80中的狀態(tài)中。在這種情況下，當(dāng)阻斷真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80的同時，第一控制單元90a可控制空氣使其被吸入真空室60中。第一控制單元90a可控制三個方向A、B和C (真空室 60 (A)、聲壓產(chǎn)生單元80 (B)和第一空氣供應(yīng)單元91a (C))的打開/關(guān)閉。即，在形成非接觸部分IOOb的同時，第一控制單元90a可通過打開A和C并關(guān)閉B來控制空氣使其被吸入。在阻斷真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80的同時，第二控制單元90b可控制空氣被獨立地吸入緩沖罐70和聲壓產(chǎn)生單元80。第二控制單元90b可控制三個方向D、E和F (真空室60(D)、聲壓產(chǎn)生單元80 (E)和第二空氣供應(yīng)單元91b (F))的打開/關(guān)閉。即，在形成非涂覆部分IOOb的同時，第二控制單元90b可通過打開E和F并關(guān)閉D來控制空氣使其被吸入。圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的利用涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)來涂覆材料的狀態(tài)的平面圖。參照圖7，涂覆溶液被間歇地涂覆在基材上。在這種情況下，基材10從左邊被轉(zhuǎn)移到右邊，涂覆部分IOOa和非涂覆部分IOOb交替地形成。如果利用根據(jù)本實施例的涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)執(zhí)行涂覆，則在涂覆部分IOOa的端部H不太可能發(fā)生吸引現(xiàn)象，如圖7中所示。如圖5和圖6中所述，當(dāng)形成涂覆設(shè)備100a(G到H)時，第一控制單元90a和第二控制單元90b控制空氣與真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80阻斷。當(dāng)形成非涂覆部分IOOb (H 到I)時，第一控制單元90a和第二控制單元90b控制空氣以被獨立地吸入到真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80中。因此，可以防止在涂覆部分IOOa的端部H處產(chǎn)生吸引現(xiàn)象。示例性實施例在利用根據(jù)本實施例的涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)的間歇涂覆中，利用粘度為 1500cPs的漿以5. 3m/min的涂覆速度以100 μ m的涂覆厚度執(zhí)行間歇的涂覆。在這種情況下，涂覆部分IOOa的寬度為5m，非涂覆部分IOOb的寬度為lm。在沒有使用真空室60的情況下，涂覆部分IOOa的發(fā)生吸引現(xiàn)象的端部的長度小于0. 5mm(這是非常小的)。然而，在利用真空室60執(zhí)行間歇的涂覆的情況下，涂覆部分 IOOa的發(fā)生吸引現(xiàn)象的端部的長度大約為2mm。在這種情況下，真空室60的聲壓為0. 3kPa。為了改善發(fā)生在涂覆部分IOOa的端部的吸引現(xiàn)象，利用根據(jù)本實施例的真空室系統(tǒng)執(zhí)行涂覆，并測量涂覆部分IOOa的端部的吸引長度。所測得的涂覆部分IOOa的端部的吸引長度是0. 5mm，這恢復(fù)到?jīng)]有使用真空室60時的吸引長度。以下，將描述根據(jù)本實施例的涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)的操作。在涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)中，第一控制單元90a和第二控制單元90b被設(shè)置在真空室60與緩沖罐70之間。第一控制單元90a和第二控制單元90b控制空氣使其被獨立地吸入到真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80。第一控制單元90a和第二控制單元90b可被自動地配置為結(jié)合間歇的涂覆過程來操作。當(dāng)執(zhí)行涂覆時，空氣沒有被吸入真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80中，但是聲壓形成在真空室60中。S卩，真空室60中的空氣被吸引到聲壓產(chǎn)生單元80的側(cè)部。當(dāng)阻擋涂覆溶液以執(zhí)行間歇的涂覆時，第一控制單元90a和第二控制單元90b控制空氣使其被獨立地吸入真空室60和聲壓產(chǎn)生單元80中。即，空氣被獨立地吸入真空室 60和聲壓產(chǎn)生單元80中，使得在真空室60中的空氣不被吸入聲壓產(chǎn)生單元80中。在這種情況下，連接到第一控制單元90a的第一空氣供應(yīng)單元91a的空氣被吸入真空室60中，使得聲壓消除。連接到第二控制單元90b的第二空氣供應(yīng)單元91b的空氣被吸入聲壓產(chǎn)生單元80中。這里，可能在第一控制單元90a和第二控制單元90b分別打開/關(guān)閉時提供偏移量。因此，可另外地設(shè)置用于精確地調(diào)節(jié)第一控制單元90a和第二控制單元90b分別被打開/關(guān)閉的時間的單元。在通過上述工藝形成涂覆部分IOOa和非接觸部分IOOb并且再次形成涂覆部分 IOOa的情況下，在第一控制單元90a的位置和第二控制單元90b的位置分別回到初始位置的狀態(tài)下執(zhí)行涂覆。雖然已經(jīng)結(jié)合某些示例性實施例描述了本發(fā)明，但應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于所公開的實施例，而是相反，本發(fā)明意在覆蓋包括在權(quán)利要求及其等同物的精神和范圍內(nèi)的各種變型和等同布置。
8
權(quán)利要求
1.一種涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)，該真空室系統(tǒng)包括真空室，連接到涂覆設(shè)備的涂覆溶液出口 ；聲壓產(chǎn)生單元，連接到真空室的一個區(qū)域，以產(chǎn)生聲壓；緩沖罐，設(shè)置在真空室和聲壓產(chǎn)生單元之間，其中，還在真空室和緩沖罐之間設(shè)置控制單元，控制單元控制空氣使空氣被選擇性地吸入真空室和聲壓產(chǎn)生單元中或者與真空室和聲壓產(chǎn)生單元阻斷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空室系統(tǒng)，其中，控制單元形成有第一控制單元和第二控制單元，所述第一控制單元和所述第二控制單元控制空氣使空氣被獨立地吸入真空室和聲壓產(chǎn)生單元或者與真空室和聲壓產(chǎn)生單元阻斷。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空室系統(tǒng)，其中，控制單元被形成為三通開關(guān)閥。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空室系統(tǒng)，其中，所述三通開關(guān)閥被手動或自動地操作。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空室系統(tǒng)，其中，在控制單元的操作下，緩沖罐暫時地吸收由聲壓產(chǎn)生單元產(chǎn)生的聲壓。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空室系統(tǒng)，其中，聲壓產(chǎn)生單元為風(fēng)扇。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空室系統(tǒng)，其中，用于打開/關(guān)閉涂覆溶液出口的間歇式單元進一步形成在涂覆溶液出口處。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空室系統(tǒng)，其中，在將活性材料漿涂覆在二次電池的金屬基材上時使用涂覆設(shè)備。
9.一種間歇涂覆方法，所述間歇涂覆方法利用具有連接到涂覆溶液出口的真空室、聲壓產(chǎn)生單元和緩沖罐的系統(tǒng)，該間歇涂覆方法包括在空氣與真空室和聲壓產(chǎn)生單元阻斷從而聲壓被提供到真空室的狀態(tài)下，通過控制第一控制單元和第二控制單元來形成涂覆部分；在空氣被獨立地吸入真空室和聲壓產(chǎn)生單元中的狀態(tài)下，通過控制第一控制單元和第二控制單元來形成非涂覆部分。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的間歇涂覆方法，其中，在形成涂覆部分的步驟中，第一控制單元將真空室和聲壓產(chǎn)生單元控制為彼此連接。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的間歇涂覆方法，其中，在形成涂覆部分的步驟中，第二控制單元將真空室和聲壓產(chǎn)生單元控制為彼此連接。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的間歇涂覆方法，其中，在形成非涂覆部分的步驟中，第一控制單元在阻斷真空室和聲壓產(chǎn)生單元的同時控制空氣使空氣被吸入真空室中。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的間歇涂覆方法，其中，在形成非涂覆部分的步驟中，第二控制單元在阻斷真空室和聲壓產(chǎn)生單元的同時控制空氣使空氣被吸入聲壓產(chǎn)生單元中。
全文摘要
本發(fā)明提供一種涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)和利用該真空室系統(tǒng)的涂覆方法，所述涂覆方法防止間歇涂覆中的涂覆溶液的吸引現(xiàn)象，使得涂覆的不合格率降低，從而提高了產(chǎn)品質(zhì)量。在一個實施例中，涂覆設(shè)備的真空室系統(tǒng)包括連接到涂覆設(shè)備的涂覆溶液出口的真空室。聲壓產(chǎn)生單元連接到真空室的一個區(qū)域，以產(chǎn)生聲壓。緩沖罐設(shè)置在真空室和聲壓產(chǎn)生單元之間。在真空室系統(tǒng)中，還在真空室和緩沖罐之間設(shè)置控制單元?？刂茊卧刂瓶諝馐箍諝獗贿x擇性地吸入真空室和聲壓產(chǎn)生單元中或者與真空室和聲壓產(chǎn)生單元阻斷。
文檔編號B05C11/10GK102343321SQ201110087238
公開日2012年2月8日 申請日期2011年4月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月3日
發(fā)明者金泰成 申請人:三星Sdi株式會社