勻膠機(jī)托盤的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種勻膠機(jī)托盤，包括：硅片承片臺(tái)和真空吸片管，所述硅片承片臺(tái)的頂端有一硅片承載平面，所述硅片承載平面為一圓形水平面，沿著所述硅片承載平面的圓心向內(nèi)開設(shè)有一儲(chǔ)膠槽，并在所述儲(chǔ)膠槽的中間設(shè)有一個(gè)圓臺(tái)形凸臺(tái)；所述真空吸片管包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述圓臺(tái)形凸臺(tái)內(nèi)，所述真空吸片口位于所述上端的頂部，并且所述真空吸片口與所述硅片承載平面間的垂直距離大于3mm。通過上述方式，本實(shí)用新型能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口內(nèi)，避免了真空吸片口因吸入光刻膠而導(dǎo)致的吸力不足或堵塞，同時(shí)避免了損傷勻膠臺(tái)。
【專利說明】勻膠機(jī)托盤
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及勻膠機(jī)設(shè)備領(lǐng)域，特別是涉及一種勻膠機(jī)托盤。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的光刻膠勻膠臺(tái)采用真空吸片的方式吸住硅片，但現(xiàn)有的硅片承片臺(tái)無法有效的阻擋光刻膠在甩動(dòng)過程中滲入真空吸片口中，如圖1所示的現(xiàn)有技術(shù)，硅片與真空吸片口直接接觸，勻膠機(jī)在高速旋轉(zhuǎn)過程中，光刻膠受旋轉(zhuǎn)離心力和表面張力的聯(lián)合作用，被展開成一層薄膜，其中甩動(dòng)過程中被甩出至硅片邊緣的膠滴，由于硅片邊緣與承片臺(tái)吸片口的壓力差和膠體的表面張力的作用，部分硅片邊緣的膠滴會(huì)沿著硅片的背面被吸入真空吸片口中，從而堵塞真空吸片口，造成真空吸片口吸力不足，從而造成光刻膠薄膜的均勻性變差，同時(shí)會(huì)對(duì)勻膠臺(tái)造成損傷。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種勻膠機(jī)托盤，能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口內(nèi)，避免了真空吸片口因吸入光刻膠而導(dǎo)致的吸力不足或堵塞，同時(shí)避免了損傷勻膠臺(tái)。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種勻膠機(jī)托盤，包括:硅片承片臺(tái)和真空吸片管，所述硅片承片臺(tái)的頂端有一硅片承載平面，所述硅片承載平面為一圓形水平面，沿著所述硅片承載平面的圓心向內(nèi)開設(shè)有一儲(chǔ)膠槽，并在所述儲(chǔ)膠槽的中間設(shè)有一個(gè)圓臺(tái)形凸臺(tái)；所述真空吸片管包括:上端和真空吸片口，所述上端位于所述圓臺(tái)形凸臺(tái)內(nèi)，所述真空吸片口位于所述上端的頂部，并且所述真空吸片口與所述硅片承載平面間的垂直距離大于3mm。
[0005]在本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述儲(chǔ)膠槽呈梯形杯體結(jié)構(gòu)，并且其橫截面呈“W，，型。
[0006]在本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述儲(chǔ)膠槽包括均為圓形的槽口和槽底，并且槽口面積大于槽底面積。
[0007]在本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述真空吸片口的圓心與所述硅片承載平面的圓心在同一垂直線上。
[0008]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型勻膠機(jī)托盤，沿著硅片承載平面上的圓心向內(nèi)開設(shè)有一槽底向上凸起的梯形杯體結(jié)構(gòu)的儲(chǔ)膠槽，并且真空吸片口與硅片不直接接觸，兩者間留有一定的間隙，使光刻膠在甩動(dòng)過程中被甩出至硅片背面的膠水在重力的作用下首先流入到儲(chǔ)膠槽中，從而能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口內(nèi)，避免了真空吸片口因吸入光刻膠而導(dǎo)致的吸力不足或堵塞，同時(shí)避免了損傷勻膠臺(tái)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1是現(xiàn)有勻膠機(jī)托盤結(jié)構(gòu)示意圖；[0010]圖2是本實(shí)用新型勻膠機(jī)托盤一較佳實(shí)施例的主視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖3是圖2所示的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖4是圖2所示處于工作狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]附圖中各部件的標(biāo)記如下:1、硅片承片臺(tái)，2、真空吸片管，3、硅片，10、硅片承載平面，11、儲(chǔ)膠槽，12、凸臺(tái)，20、上端，21、真空吸片口，110、槽口，111、槽底，H、真空吸片口與硅片承載平面間的垂直距離。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本實(shí)用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0015]請(qǐng)參閱圖2和圖3，本實(shí)用新型實(shí)施例包括:
[0016]一種勻膠機(jī)托盤，包括:硅片承片臺(tái)I和真空吸片管2，所述硅片承片臺(tái)I的頂端有一硅片承載平面10，所述硅片承載平面10為一圓形水平面，沿著所述硅片承載平面10的圓心向內(nèi)開設(shè)有一儲(chǔ)膠槽11，并在所述儲(chǔ)膠槽11的中間設(shè)有一個(gè)圓臺(tái)形凸臺(tái)12 ;所述真空吸片管2包括:上端20和真空吸片口 21，所述上端20位于所述圓臺(tái)形凸臺(tái)12內(nèi)，所述真空吸片口 21位于所述上端20的頂部，并且所述真空吸片口 21與所述硅片承載平面10間的垂直距離H大于3_，即使真空吸片口 21與硅片不直接接觸，兩者間留有一定的間隙，從而使光刻膠在甩動(dòng)過程中被甩出至硅片背面的膠水在重力的作用下首先流入到儲(chǔ)膠槽11中，從而能夠有效地阻擋光刻膠被吸入真空吸片口 21內(nèi)。
[0017]其中，所述儲(chǔ)膠槽11呈梯形杯體結(jié)構(gòu)，其橫截面呈“W”型，包括槽口 110和槽底111，所述槽口 110與槽底111均為圓形，并且槽口 110的面積大于槽底111的面積，槽口110的面積較大能保證勻膠機(jī)旋轉(zhuǎn)中甩出硅片邊緣的光刻膠全部滲入到儲(chǔ)膠槽11中。
[0018]所述真空吸片口 21的圓心與所述硅片承載平面10的圓心在同一垂直線上，即圓心對(duì)齊，以實(shí)現(xiàn)滴在硅片表面上的光刻膠在旋轉(zhuǎn)離心力和表面張力的聯(lián)合作用下的均勻涂覆并展成一層均勻的薄膜。
[0019]工作過程如下:如圖4所示，首先把硅片3放置在硅片承載平面10上，并使兩者的圓心對(duì)齊，然后打開真空吸片管2，真空吸片口 21開始抽氣，使硅片3的背面及儲(chǔ)膠槽11形成一個(gè)真空腔體，使硅片3正面的大氣壓力大于其背面的大氣壓力，從而把硅片3牢牢吸附在硅片承載平面10上，然后在硅片3靜止或低速旋轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行滴膠，其中滴膠量根據(jù)光刻膠的粘度和硅片3的大小來確定，滴膠結(jié)束后，勻膠機(jī)高速旋轉(zhuǎn)使光刻膠層變薄達(dá)到最終要求的膜厚。光刻膠在甩動(dòng)過程中被甩出至硅片3背面的膠水在到達(dá)所述儲(chǔ)膠槽11的槽口 110時(shí)，由于儲(chǔ)膠槽11內(nèi)的氣壓低于儲(chǔ)膠槽11邊緣的氣壓，光刻膠滴在氣壓差和重力作用下克服表面張力，故膠滴會(huì)下滴至儲(chǔ)膠槽11中并儲(chǔ)存在其中，只需定期清理儲(chǔ)膠槽11就能防止光刻膠滲入到真空吸片口 21中造成堵塞。
[0020]以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種勻膠機(jī)托盤，包括:硅片承片臺(tái)和真空吸片管，其特征在于，所述硅片承片臺(tái)的頂端有一硅片承載平面，所述硅片承載平面為一圓形水平面，沿著所述硅片承載平面的圓心向內(nèi)開設(shè)有一儲(chǔ)膠槽，并在所述儲(chǔ)膠槽的中間設(shè)有一個(gè)圓臺(tái)形凸臺(tái)；所述真空吸片管包括:上端和真空吸片口，所述上端位于所述圓臺(tái)形凸臺(tái)內(nèi)，所述真空吸片口位于所述上端的頂部，并且所述真空吸片口與所述硅片承載平面間的垂直距離大于3mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的勻膠機(jī)托盤，其特征在于，所述儲(chǔ)膠槽呈梯形杯體結(jié)構(gòu)，其橫截面呈“W”型。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的勻膠機(jī)托盤，其特征在于，所述儲(chǔ)膠槽包括均為圓形的槽口和槽底，并且槽口面積大于槽底面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的勻膠機(jī)托盤，其特征在于，所述真空吸片口的圓心與所述硅片承載平面的圓心在同一垂直線上。
【文檔編號(hào)】B05C11/08GK203725337SQ201320826273
【公開日】2014年7月23日 申請(qǐng)日期:2013年12月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月16日
【發(fā)明者】王強(qiáng), 張士兵, 施險(xiǎn)峰, 胡傳志, 陳馥強(qiáng), 鄧潔 申請(qǐng)人:南通大學(xué)