一種浸漬提拉鍍膜設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種浸漬提拉鍍膜設(shè)備，包括帶有底座（1）的箱體（2），在底座（1）上設(shè)置有控制面板（3），在所述箱體（2）內(nèi)設(shè)置有帶軸承（4）的滾珠絲杠（5）、滑塊（6）、液槽（7）和基片（8），所述滾珠絲杠（5）的一端與設(shè)置在箱體（2）頂部上的電機（9）連接，所述滑塊（6）與軸承（4）連接，所述基片（8）與所述液槽（7）相對應(yīng)，在所述箱體（2）內(nèi)還設(shè)置有用于對基片（8）上的溶質(zhì)進行蒸發(fā)和熱處理的加熱器。本實用新型采用它無需反復(fù)多次取下和裝載基片，實現(xiàn)了全自動化操作，不僅能有效避免操作者差異造成的低重復(fù)性問題，能精確地控制薄膜厚度和微觀外貌，還能有效避免產(chǎn)品的污染，提高了產(chǎn)品的質(zhì)量。
【專利說明】一種浸漬提拉鍍膜設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種對平板樣品進行提拉鍍膜領(lǐng)域，特別是一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]浸潰提拉技術(shù)是以具有一定粘度溶膠、溶液或懸浮乳液作為原料，在平板、柱狀體制備出質(zhì)量較好的薄膜的這么一項技術(shù)，該技術(shù)無需真空，因此具有設(shè)備及生產(chǎn)低成本低的優(yōu)勢，相比旋轉(zhuǎn)涂覆法，該技術(shù)基本不受樣品尺寸約束，可制備大面積薄膜，因此，國內(nèi)夕卜不少高校和科研院所采用該技術(shù)制備薄膜材料，但是，在制造過程中，許多高校和科研院所采用手動提拉進行制造，導(dǎo)致薄膜的均勻性和厚度難以控制，且重復(fù)性差。
[0003]為了解決這一問題，目前市面上也出現(xiàn)了采用電機和絲桿導(dǎo)軌進行精密控制提拉的浸潰提拉鍍膜機。在CN103736623A中公開了一種名稱為“一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備以及浸潰提拉鍍膜方法”的發(fā)明專利，它包括全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)、驅(qū)動電儀、儀器外殼、樣品夾持機構(gòu)和精密直線傳動裝置，所述驅(qū)動電機帶動所述精密直線傳動裝置，所述儀器外殼保護各部件，并在全自動多參數(shù)控制系統(tǒng)的控制下，由樣品夾持機構(gòu)待鍍膜樣品對樣品提拉鍍膜，它是通過設(shè)備保持溶液不動，控制載體提拉達到精密控制提拉速率的效果。在CN102451810B中公開了一種名稱為“一種數(shù)控提拉式鍍膜機”的發(fā)明專利，它包括機架和旋轉(zhuǎn)平臺，旋轉(zhuǎn)平臺對應(yīng)四個工位設(shè)置，其中第三工位為提拉鍍膜工位，機架上設(shè)有與第三工位匹配的溶液提拉裝置，溶液提拉裝置設(shè)有提升進給單元，提升進給單元上連接有拖板，拖板上設(shè)有固定溶液容器的料筒架，提升進給單元還連接有驅(qū)動機構(gòu)。它利用設(shè)備以保持載體不動，控制溶液容器下降更能有效避免提拉過程中的晃動。雖然這兩個專利所述的設(shè)備均能夠進行浸潰提拉鍍膜，但是，由于浸潰提拉技術(shù)中的溶劑蒸發(fā)和熱處理過程對薄膜的質(zhì)量具有重要影響，通常要多次進行提拉-干燥-熱處理的重復(fù)過程，而上述設(shè)備因不具有蒸發(fā)和熱處理的功能，因此溶劑蒸發(fā)和熱處理過程一般在烘箱和退火爐中進行，若需多次提拉則過程繁瑣，容易造成二次污染，對薄膜的質(zhì)量造成了影響。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型的目的就是提供一種能夠進行熱干燥和熱處理的浸潰提拉鍍膜設(shè)備。
[0005]本實用新型的目的是通過這樣的技術(shù)方案實現(xiàn)的，一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備，包括帶有底座的箱體，在底座上設(shè)置有控制面板，在所述箱體內(nèi)設(shè)置有帶軸承的滾珠絲杠、滑塊、液槽和基片，所述滾珠絲杠的一端與設(shè)置在箱體頂部上的電機連接，所述滑塊與軸承連接，所述基片與所述液槽相對應(yīng)，在所述箱體內(nèi)還設(shè)置有用于對基片上的溶質(zhì)進行蒸發(fā)和熱處理的加熱器。
[0006]其中，本實用新型的具體結(jié)構(gòu)可以是這樣:所述加熱器位于滑塊與液槽之間，所述加熱器包括陶瓷支撐板和金屬加熱板，所述金屬加熱板設(shè)置在所述陶瓷支撐板的一端上，所述陶瓷支撐板的另一端與所述滑塊連接，且該端通過連接板與所述液槽連接，所述基片通過懸桿與箱體頂部的內(nèi)壁連接。
[0007]本實用新型的具體結(jié)構(gòu)也可以是這樣:所述加熱器包括固定支架、陶瓷支撐板和金屬加熱板，所述固定支架固定在底座上，所述金屬加熱板設(shè)置在陶瓷支撐板的一端上，陶瓷支撐板的另一端與固定支架連接，所述液槽位于滑塊與固定支架之間且固定在底座上，所述基片通過懸桿與滑塊連接。
[0008]為了提高加熱效率，縮短加熱時間，所述金屬加熱板為兩塊，且上下并排設(shè)置在陶瓷支撐板上。
[0009]為了能夠調(diào)節(jié)金屬加熱板，在所述陶瓷支撐板上豎向設(shè)置有一對一字型螺孔，所述金屬加熱板通過螺釘與一字型螺孔連接。
[0010]由于采用了上述技術(shù)方案，本實用新型具有結(jié)構(gòu)設(shè)計簡單、安裝方便的優(yōu)點，采用它無需反復(fù)多次取下和裝載基片，實現(xiàn)了全自動化操作，不僅能有效避免操作者差異造成的低重復(fù)性問題，能精確地控制薄膜厚度和微觀外貌，還能有效避免產(chǎn)品的污染，提高了產(chǎn)品的質(zhì)量。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]本實用新型的【專利附圖】

【附圖說明】如下:
[0012]圖1為本實用新型的第一種結(jié)構(gòu)的主視圖；
[0013]圖2為圖1的左側(cè)視圖；
[0014]圖3為本實用新型的第二種結(jié)構(gòu)的主視圖；
[0015]圖4為圖3的左側(cè)視圖。

【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對本實用新型的【具體實施方式】作進一步詳細的說明，但本實用新型并不局限于這些實施方式，任何在本實施例基本精神上的改進或替代，仍屬于本實用新型權(quán)利要求所要求保護的范圍。
[0017]實施例1:如圖1、2所示，一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備，包括帶有底座I的箱體2，在底座I上設(shè)置有控制面板3，在所述箱體2內(nèi)設(shè)置有帶軸承4的滾珠絲杠5、滑塊6、液槽7和基片8，所述滾珠絲杠5的一端與設(shè)置在箱體2頂部上的電機9連接，所述滑塊6與軸承4連接，所述基片8與所述液槽7相對應(yīng)，在所述箱體2內(nèi)還設(shè)置有用于對基片8上的溶質(zhì)進行蒸發(fā)和熱處理的加熱器，所述加熱器位于滑塊6與液槽7之間，所述加熱器包括陶瓷支撐板10和金屬加熱板11，所述金屬加熱板11設(shè)置在所述陶瓷支撐板10的一端上，所述陶瓷支撐板10的另一端與所述滑塊6連接，且該端通過連接板12與所述液槽7連接，所述基片8通過懸桿13與箱體2頂部的內(nèi)壁連接。
[0018]本實施例的設(shè)備是這樣操作的:電機9帶動滾珠絲杠5轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)動的滾珠絲杠5通過軸承4帶動滑塊6向上移動，同時，向上移動的滑塊6帶動液槽7向上移動，對基片8進行浸沒，浸沒完成后，在滾珠絲杠5的作用下，帶動軸承4、滑塊6和液槽7向下移動，此時，位于陶瓷支撐板10上的金屬加熱板11達到與基片8對應(yīng)的位置，對基片8上的溶質(zhì)進行加熱，溶質(zhì)在基片8上成核、結(jié)晶，金屬板加熱板11在基片處停留一定時間后，液槽7上升至初始位置，基片8重新浸沒于液槽7內(nèi)，重復(fù)數(shù)次以上過程，基片8上沉積有一定厚度的薄膜。
[0019]實施例2:如圖3、4所示，一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備，包括帶有底座I的箱體2，在底座I上設(shè)置有控制面板3，在所述箱體2內(nèi)設(shè)置有帶軸承4的滾珠絲杠5、滑塊6、液槽7和基片8，所述滾珠絲杠5的一端與設(shè)置在箱體2頂部上的電機9連接，所述滑塊6與軸承4連接，所述基片8與所述液槽7相對應(yīng)，在所述箱體2內(nèi)還設(shè)置有用于對基片8上的溶質(zhì)進行蒸發(fā)和熱處理的加熱器，所述加熱器包括固定支架14、陶瓷支撐板10和金屬加熱板11，所述固定支架14固定在底座I上，所述金屬加熱板11設(shè)置在陶瓷支撐板10的一端上，陶瓷支撐板10的另一端與固定支架14連接所述液槽7位于滑塊6與固定支架14之間且固定在底座I上，所述基片8通過懸桿13與滑塊6連接。
[0020]實施例2與實施例1不同之處在于，實施例1中的液槽7隨著滑塊6進行上下移動，而實施例2是液槽7是固定不動的，而基片8隨著滑塊6進行上下移動，其工作原理基本相通。液槽7的固定不動，能夠控制載體的提拉達到精密控制提高速率的效果。
[0021]為了提高成膜速度，縮短加熱時間，形成不同的加熱范圍，所述金屬加熱板11為兩塊，且上下并排設(shè)置在陶瓷支撐板10上。
[0022]為了使得金屬加熱板11與金屬加熱板11之間、金屬加熱板11與液槽7之間的距離進行適當調(diào)節(jié)，調(diào)制出不同的溫場，在所述陶瓷支撐板10上豎向設(shè)置有一對一字型螺孔15，所述金屬加熱板11通過螺釘與一字型螺孔15連接。通過調(diào)節(jié)，不但能夠在基片上制備多種結(jié)晶習性不同的多晶薄膜材料，而且還能夠制備部分單晶薄膜材料。
【權(quán)利要求】
1.一種浸潰提拉鍍膜設(shè)備，包括帶有底座(I)的箱體(2)，在底座(I)上設(shè)置有控制面板(3 )，在所述箱體(2 )內(nèi)設(shè)置有帶軸承(4 )的滾珠絲杠(5 )、滑塊(6 )、液槽(7 )和基片(8 )，所述滾珠絲杠(5)的一端與設(shè)置在箱體(2)頂部上的電機(9)連接，所述滑塊(6)與軸承(4 )連接，所述基片(8 )與所述液槽(7 )相對應(yīng)，其特征是:在所述箱體(2 )內(nèi)還設(shè)置有用于對基片(8)上的溶質(zhì)進行蒸發(fā)和熱處理的加熱器。
2.如權(quán)利要求1所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征是:所述加熱器位于滑塊(6)與液槽(7)之間，所述加熱器包括陶瓷支撐板(10)和金屬加熱板(11)，所述金屬加熱板(11)設(shè)置在所述陶瓷支撐板(10)的一端上，所述陶瓷支撐板(10)的另一端與所述滑塊(6)連接，且該端通過連接板(12 )與所述液槽(7 )連接，所述基片(8 )通過懸桿(13 )與箱體(2 )頂部的內(nèi)壁連接。
3.如權(quán)利要求1所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征是:所述加熱器包括固定支架(14)、陶瓷支撐板(10)和金屬加熱板(11 )，所述固定支架(14)固定在底座(I)上，所述金屬加熱板(11)設(shè)置在陶瓷支撐板(10)的一端上，陶瓷支撐板(10)的另一端與固定支架(14)連接，所述液槽(7)位于滑塊(6)與固定支架(14)之間且固定在底座(I)上，所述基片(8)通過懸桿(13)與滑塊(6)連接。
4.如權(quán)利要求2或3所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征是:所述金屬加熱板(11)為兩塊，且上下并排設(shè)置在陶瓷支撐板(10)上。
5.如權(quán)利要求4所述的浸潰提拉鍍膜設(shè)備，其特征是:在所述陶瓷支撐板(10)上豎向設(shè)置有一對一字型螺孔(15)，所述金屬加熱板(11)通過螺釘與一字型螺孔(15)連接。
【文檔編號】B05C3/10GK203917065SQ201420325053
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年6月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月18日
【發(fā)明者】程江, 張洪濤, 王祺, 楊鑫, 柳紅東 申請人:重慶文理學(xué)院