專利名稱：輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造設(shè)備部件，特別是一種輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體制程中，基板的制程處理都具有其特殊環(huán)境需求，在不同的制程步驟中，可能需要高溫高壓、低壓真空或無(wú)污染的環(huán)境。在要求符合經(jīng)濟(jì)效益的前提下，制程反應(yīng)室(chamber)的產(chǎn)品亦隨之產(chǎn)生，以使得待處理的基板得以在制程反應(yīng)室內(nèi)依其所需的不同制程條件下進(jìn)行適當(dāng)?shù)奶幚?。如今，制程反?yīng)室的使用在半導(dǎo)體的制程中，已占有決定性的份量。
如圖1所示，在玻璃基板22制程處理中的蝕刻步驟，對(duì)玻璃基板22的濕式蝕刻處理主要系利用輸送帶23將玻璃基板22輸送至制程反應(yīng)室20。制程反應(yīng)室20內(nèi)設(shè)有位于輸送帶23上方的復(fù)數(shù)對(duì)玻璃基板22進(jìn)行蝕刻作業(yè)的噴嘴25。噴嘴25系以注入管路21連接至蝕刻溶液供應(yīng)源27，并以噴灑方式對(duì)玻璃基板22進(jìn)行蝕刻。此外，在制程反應(yīng)室20的下方設(shè)有回收管路24，藉以回收噴嘴25在蝕刻玻璃基板22過(guò)程中噴灑出的蝕刻溶液，直到蝕刻溶液處理完預(yù)定批次量的基板后，才由排入/出管路26排出使用過(guò)的蝕刻溶液，并重新注入新的蝕刻溶液。
輸送帶23上的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)10幾乎都是靠齒輪帶動(dòng)，而齒輪由于相互間的摩擦而產(chǎn)生熱量，所以就以一些潤(rùn)滑液潤(rùn)滑齒輪，以降低溫度并減少摩擦阻力，進(jìn)而減輕齒輪磨損。潤(rùn)滑液可為盛裝于齒輪潤(rùn)滑槽內(nèi)的化學(xué)液、去離子水(D.I.water)、電解水、純水等中之一。
如圖2所示，習(xí)知的位于制程反應(yīng)室20中的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)10包括傳動(dòng)軸101、齒輪組102及齒輪潤(rùn)滑槽106。
傳動(dòng)軸101系樞設(shè)于支撐架104上。
齒輪組102包括與提供動(dòng)力源的電動(dòng)機(jī)連接的主動(dòng)齒輪105及與主動(dòng)齒輪105嚙合以帶動(dòng)傳動(dòng)軸101轉(zhuǎn)動(dòng)的傳動(dòng)齒輪103。
齒輪潤(rùn)滑槽106設(shè)有排液管108及注液管100。在經(jīng)注液管100注入潤(rùn)滑液及經(jīng)排液管108排液的循環(huán)過(guò)程中，齒輪潤(rùn)滑槽106中的潤(rùn)滑液110可以保持一定的量及溫度，使得齒輪組102得以降溫及減少磨損。
值得注意的是在裝置的操作過(guò)程中，單一排液管108可能會(huì)因齒輪組102嚙合過(guò)程中產(chǎn)生的碎屑或潤(rùn)滑液110及其他物質(zhì)產(chǎn)生的結(jié)晶阻塞排液，使得排液效率不佳，再加上齒輪組102轉(zhuǎn)動(dòng)產(chǎn)生的波浪，造成潤(rùn)滑液110可能溢至齒輪潤(rùn)滑槽106外而溢至制程反應(yīng)室20內(nèi)而污染制程反應(yīng)室20環(huán)境，嚴(yán)重的情況可能導(dǎo)致整批基板22報(bào)廢，尤其在濕式蝕刻制程中，蝕刻溶液系設(shè)定在一定批次量中循環(huán)使用，且濃度、蝕刻時(shí)間及其他制程參數(shù)經(jīng)過(guò)不斷的測(cè)試后，皆已控制定量。如因潤(rùn)滑液110的濺入導(dǎo)致制程反應(yīng)室20內(nèi)蝕刻溶液的濃度降低，將造成蝕刻不完全的情況，若未及早發(fā)覺(jué)，不僅徒增原料產(chǎn)品的浪費(fèi)，更導(dǎo)致制程處理的時(shí)間延遲，影響產(chǎn)品的交貨時(shí)間，在競(jìng)爭(zhēng)激烈的業(yè)界，影響甚巨。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種避免潤(rùn)滑液滲入制程反應(yīng)室、防止污染基板制程環(huán)境、確保制程溶液濃度的輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明系用于傳動(dòng)將玻璃基板輸送至制程反應(yīng)室的輸送帶；其包括傳動(dòng)軸、齒輪組、設(shè)置于齒輪組外的第一潤(rùn)滑槽及設(shè)置于第一潤(rùn)滑槽外圍以接收自第一潤(rùn)滑槽溢出潤(rùn)滑液的第二潤(rùn)滑槽；傳動(dòng)軸與輸送帶結(jié)合，以轉(zhuǎn)動(dòng)方式帶動(dòng)輸送帶及其上玻璃基板朝制程步驟的順序方向移動(dòng)；齒輪組結(jié)合并帶動(dòng)傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)；第一潤(rùn)滑槽盛裝潤(rùn)滑液，其設(shè)有第一排液管及藉以將潤(rùn)滑液注入第一潤(rùn)滑槽內(nèi)的注液管；第一排液管的管口高度系設(shè)于第一潤(rùn)滑槽并位于欲控制潤(rùn)滑液高度的特定高度；容納于第一潤(rùn)滑槽內(nèi)并轉(zhuǎn)動(dòng)的齒輪組藉由潤(rùn)滑液進(jìn)行潤(rùn)滑。
其中制程反應(yīng)室為蝕刻反應(yīng)室。
為蝕刻反應(yīng)室的制程反應(yīng)室設(shè)有至少一個(gè)用以噴灑蝕刻溶液以對(duì)玻璃基板進(jìn)行蝕刻程序的噴嘴。
齒輪組包括與提供動(dòng)力源的電動(dòng)機(jī)連接的主動(dòng)齒輪及與主動(dòng)齒輪嚙合以帶動(dòng)傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)以帶動(dòng)輸送帶的傳動(dòng)齒輪。
第二潤(rùn)滑槽設(shè)有用以將自第一潤(rùn)滑槽溢出的潤(rùn)滑液導(dǎo)出制程反應(yīng)室的第二排液管。
第二排液管的孔徑大于第一排液管的孔徑。
第一排液管系位于第二排液管內(nèi)。
潤(rùn)滑液可選自化學(xué)液、去離子水、電解水、純水等中之一。
由于本發(fā)明系用于傳動(dòng)將玻璃基板輸送至制程反應(yīng)室的輸送帶；其包括傳動(dòng)軸、齒輪組、設(shè)置于齒輪組外的第一潤(rùn)滑槽及設(shè)置于第一潤(rùn)滑槽外圍以接收自第一潤(rùn)滑槽溢出潤(rùn)滑液的第二潤(rùn)滑槽；傳動(dòng)軸與輸送帶結(jié)合，以轉(zhuǎn)動(dòng)方式帶動(dòng)輸送帶及其上玻璃基板朝制程步驟的順序方向移動(dòng)；齒輪組結(jié)合并帶動(dòng)傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)；第一潤(rùn)滑槽盛裝潤(rùn)滑液，其設(shè)有第一排液管及藉以將潤(rùn)滑液注入第一潤(rùn)滑槽內(nèi)的注液管；第一排液管的管口高度系設(shè)于第一潤(rùn)滑槽并位于欲控制潤(rùn)滑液高度的特定高度；容納于第一潤(rùn)滑槽內(nèi)并轉(zhuǎn)動(dòng)的齒輪組藉由潤(rùn)滑液進(jìn)行潤(rùn)滑。本發(fā)明藉由第二潤(rùn)滑槽接收自第一潤(rùn)滑槽濺出的潤(rùn)滑液，以避免潤(rùn)滑液污染制程反應(yīng)室及基板，防止因潤(rùn)滑液的滲入而降低蝕刻溶液的濃度，使基板蝕刻制程步驟可按照預(yù)定的參數(shù)調(diào)整及時(shí)間按步進(jìn)行，提高產(chǎn)品的良率及產(chǎn)量。不僅避免潤(rùn)滑液滲入制程反應(yīng)室、防止污染基板制程環(huán)境，而且確保制程溶液濃度，從而達(dá)到本發(fā)明的目的。


圖1、為半導(dǎo)體制造中基板蝕刻裝置示意圖。
圖2、為習(xí)知的制程反應(yīng)室中傳動(dòng)機(jī)構(gòu)示意圖。
圖3、為本發(fā)明傳動(dòng)機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意剖視圖。
具體實(shí)施例方式
如圖1所示，如圖1所示，在玻璃基板22制程處理中的蝕刻步驟，對(duì)玻璃基板22的濕式蝕刻處理主要系利用輸送帶23將玻璃基板22輸送至為蝕刻反應(yīng)室的制程反應(yīng)室20。制程反應(yīng)室20內(nèi)設(shè)有位于輸送帶23上方的復(fù)數(shù)對(duì)玻璃基板22進(jìn)行蝕刻作業(yè)的噴嘴25。噴嘴25系以注入管路21連接至蝕刻溶液供應(yīng)源27，并以噴灑方式對(duì)玻璃基板22進(jìn)行蝕刻。此外，在制程反應(yīng)室20的下方設(shè)有回收管路24，藉以回收噴嘴25在蝕刻玻璃基板22過(guò)程中噴灑出的蝕刻溶液，直到蝕刻溶液處理完預(yù)定批次量的基板后，才由排入/出管路26排出使用過(guò)的蝕刻溶液，并重新注入新的蝕刻溶液。
如圖3所示，輸送帶23上位于制程反應(yīng)室20中的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)30包括傳動(dòng)軸301、齒輪組302、設(shè)置于齒輪組302外的第一潤(rùn)滑槽306及第二潤(rùn)滑槽307。
傳動(dòng)軸301系樞設(shè)于支撐架304上，并與輸送帶23結(jié)合，以轉(zhuǎn)動(dòng)方式帶動(dòng)輸送帶23及其上玻璃基板22朝制程步驟的順序方向移動(dòng)。
齒輪組302包括與提供動(dòng)力源的電動(dòng)機(jī)連接的主動(dòng)齒輪305及與主動(dòng)齒輪305嚙合以帶動(dòng)傳動(dòng)軸301轉(zhuǎn)動(dòng)以帶動(dòng)輸送帶23的傳動(dòng)齒輪303。
第一潤(rùn)滑槽306系盛裝為化學(xué)液、純水、去離子水(D.I.water)等的潤(rùn)滑液310，其設(shè)有第一排液管308及藉以將潤(rùn)滑液310注入第一潤(rùn)滑槽306內(nèi)的注液管300。第一排液管308的管口高度系設(shè)于第一潤(rùn)滑槽306內(nèi)并略低于第一潤(rùn)滑槽306的特定高度。容納于第一潤(rùn)滑槽306內(nèi)并轉(zhuǎn)動(dòng)的齒輪組302藉由潤(rùn)滑液310進(jìn)行潤(rùn)滑。
第二潤(rùn)滑槽307設(shè)置于第一潤(rùn)滑槽306外圍，其設(shè)有孔徑大于第一排液管308的第二排液管309，并令第一排液管308容置于第二排液管309內(nèi)；藉由第二潤(rùn)滑槽307接收自第一潤(rùn)滑槽306溢出的潤(rùn)滑液310，以避免溢出的潤(rùn)滑液310對(duì)制程反應(yīng)室20的環(huán)境造成污染及降低蝕刻溶液的濃度，并由第二排液管309適時(shí)將由第一潤(rùn)滑槽306溢出的潤(rùn)滑液導(dǎo)出于制程反應(yīng)室20外，更藉由孔徑大于第一排液管308并容納第一排液管308的第二排液管309避免排液管堵塞，并便于以同一管路同時(shí)將第一、二排液管308、309排放的潤(rùn)滑液310導(dǎo)出制程反應(yīng)室20外。
本發(fā)明藉由第二潤(rùn)滑槽307接收自第一潤(rùn)滑槽306濺出的潤(rùn)滑液310，以避免潤(rùn)滑液310污染制程反應(yīng)室20及基板22，防止因潤(rùn)滑液310的滲入而降低蝕刻溶液的濃度，使基板22蝕刻制程步驟可按照預(yù)定的參數(shù)調(diào)整及時(shí)間按步進(jìn)行，提高產(chǎn)品的良率及產(chǎn)量。
權(quán)利要求
1.一種輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，它系用于傳動(dòng)將玻璃基板輸送至制程反應(yīng)室的輸送帶；其包括傳動(dòng)軸、齒輪組、設(shè)置于齒輪組外的第一潤(rùn)滑槽；傳動(dòng)軸與輸送帶結(jié)合，以轉(zhuǎn)動(dòng)方式帶動(dòng)輸送帶及其上玻璃基板朝制程步驟的順序方向移動(dòng)；齒輪組結(jié)合并帶動(dòng)傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)；第一潤(rùn)滑槽盛裝潤(rùn)滑液，其設(shè)有第一排液管及藉以將潤(rùn)滑液注入第一潤(rùn)滑槽內(nèi)的注液管；第一排液管的管口高度系設(shè)于第一潤(rùn)滑槽并位于欲控制潤(rùn)滑液高度的特定高度；容納于第一潤(rùn)滑槽內(nèi)并轉(zhuǎn)動(dòng)的齒輪組藉由潤(rùn)滑液進(jìn)行潤(rùn)滑；其特征在于所述的第一潤(rùn)滑槽外圍設(shè)有接收自第一潤(rùn)滑槽溢出潤(rùn)滑液的第二潤(rùn)滑槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的制程反應(yīng)室為蝕刻反應(yīng)室。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的為蝕刻反應(yīng)室的制程反應(yīng)室設(shè)有至少一個(gè)用以噴灑蝕刻溶液以對(duì)玻璃基板進(jìn)行蝕刻程序的噴嘴。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的齒輪組包括與提供動(dòng)力源的電動(dòng)機(jī)連接的主動(dòng)齒輪及與主動(dòng)齒輪嚙合以帶動(dòng)傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)以帶動(dòng)輸送帶的傳動(dòng)齒輪。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的第二潤(rùn)滑槽設(shè)有用以將自第一潤(rùn)滑槽溢出的潤(rùn)滑液導(dǎo)出制程反應(yīng)室的第二排液管。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的第二排液管的孔徑大于第一排液管的孔徑。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的第一排液管系位于第二排液管內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于所述的潤(rùn)滑液可選自化學(xué)液、去離子水、電解水、純水等中之一。
全文摘要
一種輸送帶傳動(dòng)機(jī)構(gòu)。為提供一種避免潤(rùn)滑液滲入制程反應(yīng)室、防止污染基板制程環(huán)境、確保制程溶液濃度的半導(dǎo)體制造設(shè)備部件，提出本發(fā)明，它系用于傳動(dòng)將玻璃基板輸送至制程反應(yīng)室的輸送帶；其包括傳動(dòng)軸、齒輪組、設(shè)置于齒輪組外的第一潤(rùn)滑槽及設(shè)置于第一潤(rùn)滑槽外圍以接收自第一潤(rùn)滑槽溢出潤(rùn)滑液的第二潤(rùn)滑槽；傳動(dòng)軸與輸送帶結(jié)合，以轉(zhuǎn)動(dòng)方式帶動(dòng)輸送帶及其上玻璃基板朝制程步驟的順序方向移動(dòng)；齒輪組結(jié)合并帶動(dòng)傳動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)；第一潤(rùn)滑槽盛裝潤(rùn)滑液，其設(shè)有第一排液管及藉以將潤(rùn)滑液注入第一潤(rùn)滑槽內(nèi)的注液管；第一排液管的管口高度系設(shè)于第一潤(rùn)滑槽并位于欲控制潤(rùn)滑液高度的特定高度；容納于第一潤(rùn)滑槽內(nèi)并轉(zhuǎn)動(dòng)的齒輪組藉由潤(rùn)滑液進(jìn)行潤(rùn)滑。
文檔編號(hào)B65G49/07GK1533970SQ0312128
公開(kāi)日2004年10月6日 申請(qǐng)日期2003年4月1日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月1日
發(fā)明者薛裕耀, 林奇鋒 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司