專利名稱：傳送裝置、具有相同功能的傳送室及包括具有相同功能裝置的真空處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將待傳送的物體(例如基板)進(jìn)行傳送的傳送裝裝置, 具有相同功能的傳送室，以及包括具有相同功能裝置的真空處理系 統(tǒng)。
背景技術(shù)：
一般地，真空處理系統(tǒng)包括實(shí)施真空處理的處理室；和安裝在處 理室一側(cè)的傳送室，用于從外部接收基板，將該傳送室的壓力從大氣 狀態(tài)減小至真空狀態(tài)，然后將該基板傳送至該處理室內(nèi)，以及用于從 該處理室取回該基板，將該傳送室的壓力從該真空狀態(tài)提高至該大氣 狀態(tài)，然后將該基板傳送至外部。
一對(duì)傳送機(jī)械手安裝于該傳送室中，且這兩個(gè)傳送機(jī)械手交替實(shí) 施基板交換過程，例如，對(duì)該處理室和該傳送室內(nèi)的基板的回收和引 入過程。
在該傳送室與該處理室交換該基板時(shí)以及與外部交換該基板時(shí) 交替實(shí)現(xiàn)該大氣狀態(tài)和該真空狀態(tài)。這里，根據(jù)該傳送室的內(nèi)體積改 變將該傳送室中的壓力從大氣狀態(tài)轉(zhuǎn)變至該真空狀態(tài)的時(shí)間，或反過 來(以下將被稱為"壓力轉(zhuǎn)變時(shí)間")。
就更大的基板來說，由于該更大基板的傳送室具有相對(duì)更大的體 積，這可能導(dǎo)致在該大氣狀態(tài)和該真空狀態(tài)之間的壓力轉(zhuǎn)變時(shí)間的增 加。而且，這可能導(dǎo)致基板的真空處理時(shí)間的增加，從而降低生產(chǎn)率。
因此，需要一種減小該傳送室的內(nèi)體積的方法。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的 一個(gè)目的是提供一種能夠減小 一對(duì)傳送組件所占
5有的空間的傳送裝置、具有同樣功能的傳送室，以及包括具有同樣功 能的裝置的真空處理系統(tǒng)。
本發(fā)明的另一目的是提供一種能夠通過減小安裝該傳送裝置的 傳送室的內(nèi)體積、通過減小具有一對(duì)傳送組件的該傳送裝置的安裝空 間來大大減小壓力轉(zhuǎn)變時(shí)間的傳送裝置，具有相同功能的傳送室，以 及包括具有同樣功能的裝置的真空處理系統(tǒng)。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其它的優(yōu)勢(shì)，并根據(jù)本發(fā)明的目的，如此處所體 現(xiàn)和廣泛描述的，提供了一種傳送裝置，包括二第一傳送組件，包括 支撐要傳送的物體的第一手柄、通過自身旋轉(zhuǎn)線性移動(dòng)該第一手柄以 便傳送該待傳送物體的第一旋轉(zhuǎn)臂單元，以及旋轉(zhuǎn)式驅(qū)動(dòng)該第一旋轉(zhuǎn) 臂單元的第一驅(qū)動(dòng)軸；被設(shè)置為與該第一傳送組件隔幵的第二傳送組 件，該第二傳送組件包括支撐待傳送物體的第二手柄、通過旋轉(zhuǎn)線性 移動(dòng)該第二手柄以便傳送該待傳送物體的第二旋轉(zhuǎn)臂單元，以及旋轉(zhuǎn) 式驅(qū)動(dòng)該第二旋轉(zhuǎn)臂單元的第二驅(qū)動(dòng)軸，其中該第一旋轉(zhuǎn)臂單元的旋 轉(zhuǎn)區(qū)域和該第二旋轉(zhuǎn)臂單元的旋轉(zhuǎn)區(qū)域彼此重疊。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種傳送裝置，包括第一傳送 機(jī)械手，包括支撐待傳送物體的第一手柄，以及通過旋轉(zhuǎn)線性移動(dòng)
該第一手柄以便傳送該待傳送物體的第一旋轉(zhuǎn)臂單元；被設(shè)置為與該
第一傳送機(jī)械手隔開的第二傳送機(jī)械手，該第二傳送組件包括支撐待 傳送物體的第二手柄，以及通過旋轉(zhuǎn)線性移動(dòng)該第二手柄以便傳送該 待傳送物體的第二旋轉(zhuǎn)臂單元，其中該第一和第二旋轉(zhuǎn)臂單元在該第 一和第二傳送機(jī)械手之間旋轉(zhuǎn)。
該第一旋轉(zhuǎn)臂單元可以包括第一連接部件，其被安裝使其一側(cè)可
以以該第一驅(qū)動(dòng)軸為中心旋轉(zhuǎn)；以及與該第一連接部件的另一側(cè)連接 的第二連接部分，使得其可以通過與該第一連接部分的相互配合而旋 轉(zhuǎn)，用于支撐該第一手柄，且該第二旋轉(zhuǎn)臂單元可以包括第一連接部 件，其被安裝使其一側(cè)可以以該第二驅(qū)動(dòng)軸為中心旋轉(zhuǎn)；以及與該第一連接部件的另一側(cè)連接的第二連接部件，使得其可以通過與該第一
連接部件的相互配合而旋轉(zhuǎn)，用于支撐該第二手柄。
可以分別安裝該第 一和第二手柄，以防止被待傳送物體干擾。 該第一手柄可以包括支撐該待傳送物體的支撐部件；連接該第一
旋轉(zhuǎn)臂單元的耦合部件；以及將該耦合部件和該支撐部件連接至彼
此，并通過第二手柄傳遞帶傳送物體的連接部件，
可以安裝該第一和第二手柄使其在該第一驅(qū)動(dòng)軸的方向具有彼
此不同的高度。
可以通過分別的驅(qū)動(dòng)單元獨(dú)立驅(qū)動(dòng)該第一和第二驅(qū)動(dòng)軸，或通過 一個(gè)驅(qū)動(dòng)單元輪流驅(qū)動(dòng)。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其它的優(yōu)勢(shì)，并根據(jù)本發(fā)明的目的，如此處所體 現(xiàn)和廣泛描述的，還提供了一種具有該傳送裝置的傳送室。
該傳送室還可以包括壓力控制器，用于將該傳送室的內(nèi)壓從大氣 狀態(tài)降低至真空狀態(tài)，或者用于將該傳送室的內(nèi)壓從該真空狀態(tài)提高 至該大氣狀態(tài)，以便傳送該待傳送物體。
該傳送室可以包括包含多個(gè)被安裝為可以上下移動(dòng)，從而上下移
動(dòng)該被第一和第二手柄支撐的待傳送物體的升降腿的升降裝置；以及 一個(gè)或多個(gè)上下驅(qū)動(dòng)該升降腿的上下驅(qū)動(dòng)單元。而且，該傳送室還可 以包括調(diào)整安裝于該第一和第二手柄的待傳送物體的安裝狀態(tài)的調(diào) 整器。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其它的優(yōu)勢(shì)，并根據(jù)本發(fā)明的目的，如此處所體 現(xiàn)和廣泛描述的，還提供了一種真空處理系統(tǒng)，包括真空處理要傳 送的薄片或者基板的處理室；以及連接于該處理室的傳送室。
根據(jù)本發(fā)明的該傳送裝置具有以下優(yōu)勢(shì)。
首先，由于該第一和第二傳送組件的第一和第二旋轉(zhuǎn)臂單元在該 第一和第二傳送組件之間旋轉(zhuǎn)，該傳送裝置的安裝空間可以被最小
化。而且，安裝該傳送裝置的傳送室可以具有最小化的內(nèi)體積。在最小化該傳送室的內(nèi)體積的情況下，可以減少壓力轉(zhuǎn)變時(shí)間， 從而減少用于完全處理該基板的時(shí)間。因此，可以提高生產(chǎn)率。
其次，由于已經(jīng)安裝該傳送裝置的傳送室可以具有被減小的內(nèi)體 積，因此可以減少制造成本。這可以解決在通過具有更大內(nèi)體積的傳 送室傳送該基板時(shí)所出現(xiàn)的常見的困難。
下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明，使得本發(fā)明前述的和其 它的目的、特征、方面和優(yōu)勢(shì)變得更加明顯。


包括該附圖，以對(duì)本發(fā)明提供更好的理解，將該附圖包括其中， 組成本說明書的一部分，圖示本發(fā)明的實(shí)施方案，并與該描述一起解 釋本發(fā)明的原則。
圖中
圖l是根據(jù)本發(fā)明的傳送裝置的平面剖視圖2至5是分別與圖l對(duì)應(yīng)的圖，示出了根據(jù)本發(fā)明的對(duì)待傳送物
體進(jìn)行傳送的過程；
圖6是沿圖1中"A-A"線的剖視圖；以及 圖7是根據(jù)本發(fā)明的傳送裝置的主要部分的透視圖。
具體實(shí)施例方式
下面將參照附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。 將給出本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，該實(shí)施例在附圖中示出。 在下文中，將更詳細(xì)地說明根據(jù)本發(fā)明的傳送裝置、具有相同功
能的傳送室及包括具有相同功能裝置的真空處理系統(tǒng)。
本發(fā)明的真空處理系統(tǒng)用于實(shí)施預(yù)定處理，在真空狀態(tài)下，例如
對(duì)薄片或基片2 (如液晶顯示(Liquid Crystal Display, LCD)板的玻璃
基片)的表面的蝕刻處理，或者在薄片或和基片2的表面涂敷具有預(yù)
定特征的錫薄膜的處理。
該真空處理系統(tǒng)包括用于真空處理該薄片或基片2的處理室4，
8和連接于處理室4的一側(cè)、用于在處理室4和外部之間傳送基片2的 傳送室10。
該傳送室10可以內(nèi)嵌形式連接處理室4,用于該基片2的平滑 傳送。
在傳送室10中，安裝有用于傳送基片2的傳送裝置，以將基片 2引入該傳送室IO或從該傳送室IO退出。并且，該傳送室IO具有 依據(jù)各個(gè)與該處理室4或外部相連的閘門閥(未顯示)開或關(guān)的多個(gè) 門12。
而且，該傳送室可以被配置為具有從大氣狀態(tài)降低至真空狀態(tài)的 壓力，以在真空狀態(tài)將該基片2傳送到該處理室4，等等，或者可以 被配置為具有從該真空狀態(tài)提高至該大氣狀態(tài)的壓力，以在該大氣狀 態(tài)將該基片2從該處理室4退出至外部。
該傳送室IO可以包括用于控制傳送室10內(nèi)的壓力以對(duì)該基片 2進(jìn)行交換的壓力控制器(未顯示)、用于上下移動(dòng)該基片2的升降 裝置(未顯示)，以及調(diào)整該基片2的調(diào)整器(未顯示)。
為了該基片2的傳送，該壓力控制器可以被配置為將該傳送室 10的內(nèi)部壓力從大氣狀態(tài)降低至真空狀態(tài)，或者可以被配置為將該 傳送室10的內(nèi)部壓力從該真空狀態(tài)提高到大氣狀態(tài)。并且，該壓力 控制器可以包括將氣體提供至該傳送室10內(nèi)的供氣裝置(未顯示)， 和用于排除該傳送室IO中的氣體的排氣裝置(未顯示)。
升降裝置可包括被安裝為可上下移動(dòng)的多個(gè)升降腿(未顯示)， 以便上下移動(dòng)由將在下面解釋的第一手柄32或第二手柄42支撐的該 基片2;以及一個(gè)或多個(gè)用于上下驅(qū)動(dòng)該升降腿的上下驅(qū)動(dòng)單元(未 顯示)。
調(diào)整器用于調(diào)整安裝于該第一手柄32或第二手柄42上的該基片 2的安裝狀態(tài)，且可以具有多種結(jié)構(gòu)。
該傳送裝置用于傳送該基片2,且可以根據(jù)設(shè)計(jì)具有多種結(jié)構(gòu)。該傳送裝置可包括一個(gè)或多個(gè)傳送該基片2的傳送組件。
該傳送裝置可作為由一個(gè)傳送組件組成的單獨(dú)類型來實(shí)現(xiàn)。然 而，該傳送裝置優(yōu)選作為由一對(duì)傳送組件組成的二聯(lián)型來實(shí)現(xiàn)，以便 平滑交換該基片2和該處理室4內(nèi)的該基片，或者以便更迅速地傳送
該基片2到該處理室4。
更具體地，該傳送裝置包括第一傳送組件30,以及安裝在該傳 送室10另一側(cè)的第二傳送組件40。
該第一和第二傳送組件30、 40可具有傳送該基片2的任何結(jié)構(gòu)。 然而，更優(yōu)選最小化該傳送室10的大小。
在下文中，將詳細(xì)說明結(jié)構(gòu)為最小化該傳送室IO大小的該第一 和第二傳送組件30、 40。
該第一傳送組件30可包括用于支撐該基片2的第一手柄32，以 及通過第一驅(qū)動(dòng)部件36的第一驅(qū)動(dòng)軸37的旋轉(zhuǎn)線性移動(dòng)該第一手柄 32以便傳送該基片2的第一旋轉(zhuǎn)臂單元34。
該第一手柄32用于在恒定的方向線性移動(dòng)該基片2。并且，該 第一手柄32可以固定安裝于該第一旋轉(zhuǎn)臂單元34或者被旋轉(zhuǎn)耦合到 該第一旋轉(zhuǎn)臂單元34,以便平滑移動(dòng)該基片2。另外，該第一手柄 32可通過動(dòng)力傳輸部件比如帶&滑輪及齒輪組與該第一旋轉(zhuǎn)臂單元 連接。
盡管該第一和第二傳送組件30、 40安裝得彼此接近，該第一手 柄32優(yōu)選地配置為防止干擾經(jīng)第二傳送組件40傳送的該基片2,用 于該傳送裝置的安裝空間的最小化。
參考圖6和7,該第一手柄32可包括支撐該基片2的支撐部件 32A;放置于該支撐部件32A下面、與其有間隔距離的、且與該第一 旋轉(zhuǎn)臂單元34耦合的耦合部件32B;以及用于連接該耦合部件32B 和該支撐部件32A的、且通過該第二傳送組件40的該第二手柄42 傳送該基片2的連接部件32C。
10在這些配置下，通過該第一傳送組件30的該第一手柄32傳送的
基片2在該第一手柄32的該支撐部件32A上面被線性移動(dòng)，而通過 該第二傳送組件40的該第二手柄42傳送的基片2在該支撐部件32A 和該耦合部件32B之間被線性移動(dòng)。由于重量不同，該第一和第二傳 送組件30、 40，以及通過該第一和第二傳送組件30、 40傳送的該基 片2能避免彼此干擾。
為了阻止該基片2的相互干擾，作為對(duì)該第一和第二手柄32、 42的高度進(jìn)行不同設(shè)置的配置，該第一驅(qū)動(dòng)單元36可以被配置為具 有與該第二驅(qū)動(dòng)單元46不同的高度。
為了穩(wěn)定支撐該基片2，該第一手柄32的該支撐部件32A優(yōu)選 地被制成為比該耦合部分32B更長(zhǎng)。并且，為了防止干擾將在下面說 明的該第二傳送組件40的該第二手柄42,該第一手柄32的該耦合 部件32B優(yōu)選地被制成為比該第一手柄32的支撐部件32A更短。也 就是說，該第一手柄32可被制成為具有開口朝向該第二傳送組件40 的"U"的剖面形狀。另外，該第一手柄32的支撐部件32A可被制 成為比該第一手柄32的耦合部件32B更長(zhǎng)。
為了防止通過該第一傳送組件30傳送的該基片2干擾該第一和 第二傳送組件30、 40，該第一手柄32優(yōu)選地與該第一旋轉(zhuǎn)臂單元34 連接，例如，以下將說明該第一旋轉(zhuǎn)臂單元34的第二連接部件34B 的上側(cè)。
該第一旋轉(zhuǎn)臂單元34可具有線性移動(dòng)該基片2的任何結(jié)構(gòu)，且 其優(yōu)選的例子將說明如下。
該第一旋轉(zhuǎn)臂單元34可包括與該第一驅(qū)動(dòng)軸37連接的第一連接 部件34A,以便以該第一驅(qū)動(dòng)軸37為中心旋轉(zhuǎn)；以及與該第一連接 部件34A的另 一側(cè)連接的第二連接部件34B,以便通過與該第一連接 部件34A的相互作用來旋轉(zhuǎn)，以支撐該第一手柄32。
該第一旋轉(zhuǎn)臂單元34的該第一連接部件34A可直接連接到該第一驅(qū)動(dòng)單元36,或者可以通過驅(qū)動(dòng)力傳輸器耦合于該第一驅(qū)動(dòng)單元36。
為了最小化該傳送室10的尺寸，該第一旋轉(zhuǎn)臂單元34優(yōu)選地配 置為在該第一和第二傳送組件30、 40之間旋轉(zhuǎn)。
具體來說，該第一旋轉(zhuǎn)臂單元34的旋轉(zhuǎn)區(qū)域和該第二旋轉(zhuǎn)臂單 元44的旋轉(zhuǎn)區(qū)域可被安裝為部分相互重疊。
如上所述，為了最小化該傳送室IO的尺寸，如圖1中C1所示， 第一旋轉(zhuǎn)臂單元34的第一連接部件34A被設(shè)置為在第一和第二傳送 組件30， 40之間旋轉(zhuǎn)。在這里，如前所述，為了線性移動(dòng)基板2， 第一旋轉(zhuǎn)臂單元34的第二連接部件34B被設(shè)置為如圖1中C2所示 那樣旋轉(zhuǎn)。
第一旋轉(zhuǎn)臂單元34的第二連接部件34B可以耦合到第一旋轉(zhuǎn)臂 單元34的第一連接部件34A的上側(cè)，來防止由第一傳送組件30傳 送的基板2受到第一和第二傳送組件30， 40的干擾。
第一驅(qū)動(dòng)單元36可以與第一手柄32和第一旋轉(zhuǎn)臂單元34 —起 安裝在轉(zhuǎn)換室IO內(nèi)部，或者可以安裝在傳送室IO的外部下側(cè)，從而 被連接到第一旋轉(zhuǎn)臂單元34的第一連接部件34A。
第二傳送組件40同第一傳送組件30有幾乎一樣的配置。并且， 第二傳送組件40包括支撐基板2的第二手柄42，和第二旋轉(zhuǎn)臂單元 44,所述第二旋轉(zhuǎn)臂單元44通過第二驅(qū)動(dòng)單元46的第二驅(qū)動(dòng)軸47 的旋轉(zhuǎn)來線性移動(dòng)第二手柄42，進(jìn)而傳送基板2。
優(yōu)選地，該第二手柄42被設(shè)置為不干擾由第 一傳送組件30傳送 的基板2 。即，該第二手柄42可以這樣安裝以便于由該第二手柄42 傳送的基板2可以在由第一轉(zhuǎn)換組件30傳送的基板2的下側(cè)被傳送。
優(yōu)選地，該第二手柄42制造為具有較大長(zhǎng)度，以便于穩(wěn)定支撐 基板2。
該第二手柄42可以以與第一手柄32相同的方式耦合到第二旋轉(zhuǎn)臂單元44的上側(cè)。
釆用與第一旋轉(zhuǎn)臂單元34相同的方式，第二旋轉(zhuǎn)臂單元44可以 包括第一連接部件44A和第二連接部件44B,以在第一和第二傳送組 件30, 40之間旋轉(zhuǎn)。，第一連接部件44A被設(shè)置為如圖1中C3所示 那樣旋轉(zhuǎn)；第二連接部件44B被設(shè)置為如圖1中C4所示那樣旋轉(zhuǎn)。
為了防止第一和第二旋轉(zhuǎn)臂單元34, 44相互干擾，第一和第二 傳送組件30， 40的第一和第二旋轉(zhuǎn)臂單元33， 44的中心之間的距離 (L)可以足夠長(zhǎng)以防止第一和第二旋轉(zhuǎn)臂單元33， 44的端部相互接觸。
當(dāng)?shù)谝缓偷诙魉徒M件30， 40這樣安裝，使得其在互不干擾下 最大程度地彼此接近時(shí)，基板2可以很流暢地線性移動(dòng)，并且可以最 小化傳送室IO的尺寸。
在此，第一和第二旋轉(zhuǎn)臂單元34， 44的旋轉(zhuǎn)中心可以被設(shè)置在 沿著基板2的 一個(gè)傳送方向的不同位置上，或者被設(shè)置在沿垂直于基 板2傳送方向的同一直線上。
在本發(fā)明中，第一和第二傳送組件30， 40由第一和第二驅(qū)動(dòng)單 元36， 46分別獨(dú)立驅(qū)動(dòng)。但是，第一和第二驅(qū)動(dòng)軸37， 47可以由一 個(gè)驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)。
在由一個(gè)驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)的情況下，驅(qū)動(dòng)單元可以具有一個(gè)離合器 等來有選擇性地驅(qū)動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)軸37或者第二驅(qū)動(dòng)軸47。
該傳送裝置用來傳送基板2，同時(shí)具有為一對(duì)傳送組件提供的最 小化的安裝空間。該傳送裝置可以應(yīng)用于需要基板傳送的用來處理基 板的所有類型的基板處理裝置，以及一個(gè)真空處理系統(tǒng)。
在下文中，將對(duì)由根據(jù)本發(fā)明的傳送裝置對(duì)基板2進(jìn)行的傳送過 程進(jìn)行解釋。
圖1示出了這樣的狀態(tài)，從外部傳送的基板2已經(jīng)被安裝到第一 和第二傳送組件30， 40(在下文中，為方便起見稱為第一傳送組件)中的一個(gè)上。為了能夠流暢地交換基板2，基板2被安裝到第一和第
二手柄32， 42中的一個(gè)上，該手柄位于上側(cè)。
基板2和外部，例如裝有許多基板的盒子的交換過程將會(huì)得到更 詳細(xì)的解釋。首先，門12與外部相通，處理室4和傳送室IO之間的 門12由閘閩關(guān)閉。然后，通過增加轉(zhuǎn)換室10內(nèi)部的氣壓將真空狀態(tài) 轉(zhuǎn)換為大氣狀態(tài)，并且與外部相通的門12被打開。
一旦與外部相通的門12被打開，完全經(jīng)歷真空處理的基板2通 過一個(gè)附加的傳送組件(未圖示)從處理室4中退出。并且，真空處 理過的基板2被安裝在第一和第二手柄32， 42中的一個(gè)上面，該手 柄位于上側(cè)。
一旦傳送室10完成了和外部交換基板2的過程，與外部相通的 門12再一次由閘閥關(guān)閉。接下來，如圖1所示，在將已經(jīng)引入傳送 室10的基板2傳送至處理室4之前，傳送室IO的內(nèi)部氣壓被降低到 預(yù)設(shè)的真空狀態(tài)，在這種狀態(tài)下，傳送室10已經(jīng)通過閘閥與處理室 4和外部隔離開。
一旦傳送室10的內(nèi)部氣壓變?yōu)榇篌w上與處理室4的氣壓相等的 預(yù)先設(shè)定的真空氣壓，處理室4和傳送室IO之間的門12被開啟。相 應(yīng)地，傳送室10和處理室4彼此相通。
接下來，如圖2和圖3所示，處理室4中真空處理的基板2由此 從傳送室10中退出。如圖4和圖5所示，由第一傳送組件30支撐的、 將要進(jìn)行真空處理的基板2從傳送室10引入處理室4。
此時(shí)，第一和第二傳送組件30, 40可以被同時(shí)驅(qū)動(dòng)，或者被相 繼地驅(qū)動(dòng)，或者以預(yù)定的時(shí)間間隔驅(qū)動(dòng)。
一旦在處理室4中經(jīng)歷了真空處理的基板2從處理室4中退出， 并且要進(jìn)行真空處理的基板2被引入處理室4,傳送室IO就會(huì)由閘 閥與處理室4和外部隔離開。在這種狀態(tài)下，傳送室IO的內(nèi)部氣壓 升高到了大氣狀態(tài)，然后傳送室IO再次執(zhí)行與外部進(jìn)行基板交換的過程。
上述實(shí)施方式和優(yōu)點(diǎn)僅為示例性說明，并不能理解為對(duì)本發(fā)明的 限制。本教義可以很容易的應(yīng)用于其它類型的裝置。本描述僅用于說 明的目的，不用來限制權(quán)利要求的范圍。對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說 存在多種顯而易見的替換、修改和變化。在此描述的示例性實(shí)施方式 的特征、結(jié)構(gòu)、方法和其他的特點(diǎn)可以通過各種方式結(jié)合來獲得額外 的和/或變化的實(shí)施方式。
由于現(xiàn)有特征可以在不脫離其特點(diǎn)的情況下通過不同的方式具 體化，還要理解到，上述實(shí)施方式不受之前描述的任何細(xì)節(jié)的限制， 除非明確說明，否則應(yīng)當(dāng)在附加的權(quán)利要求規(guī)定的范圍內(nèi)概括的進(jìn)行
解釋，因此落入權(quán)利要求界定和界限的范圍內(nèi)，或者界定和界限的等 同范圍內(nèi)的所有的變化和變形都應(yīng)受附加權(quán)利要求的限定。
權(quán)利要求
1、一種傳送裝置，包括第一傳送組件，包括用于支撐待傳送物體的第一手柄，通過旋轉(zhuǎn)線性移動(dòng)所述第一手柄以傳送所述待傳送物體的第一旋轉(zhuǎn)臂單元，以及旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)所述第一旋轉(zhuǎn)臂單元的第一驅(qū)動(dòng)軸；以及設(shè)置為與所述第一傳送組件相間隔的第二傳送組件，所述第二傳送組件包括用于支撐待傳送物體的第二手柄，通過旋轉(zhuǎn)線性移動(dòng)所述第二手柄以傳送所述待傳送物體的第二旋轉(zhuǎn)臂單元，以及旋轉(zhuǎn)式驅(qū)動(dòng)所述第二旋轉(zhuǎn)臂單元的第二驅(qū)動(dòng)軸，其中，所述第一旋轉(zhuǎn)臂單元的旋轉(zhuǎn)區(qū)域和所述第二旋轉(zhuǎn)臂單元的旋轉(zhuǎn)區(qū)域相互重疊。
2、 一種傳送裝置，包括第一傳送機(jī)械手，包括用于支撐待傳送物體的第一手柄以及通 過旋轉(zhuǎn)線性移動(dòng)所述第一手柄以傳送所述待傳送物體的第一旋轉(zhuǎn)臂 單元；以及設(shè)置為與所述第一傳送機(jī)械手相間隔的第二傳送機(jī)械手，所述第 二傳送機(jī)械手包括用于支撐待傳送物體的第二手柄，以及通過旋轉(zhuǎn) 線性移動(dòng)所述第二手柄以傳送所述待傳送物體的第二旋轉(zhuǎn)臂單元，其中，所述第一和第二旋轉(zhuǎn)臂單元在所述第一和第二傳送機(jī)械手 之間旋轉(zhuǎn)。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的傳送裝置，其特征在于，所述第一 旋轉(zhuǎn)臂單元包括第一連接部件，所述第一連接部件被設(shè)置為其一側(cè)可以以所述 第一驅(qū)動(dòng)軸為中心旋轉(zhuǎn)；以及第二連接部件，所述第二連接部件耦合到所述第一連接部件的另 一側(cè)，從而使得其可以通過與所述第一連接部件的相互作用而旋轉(zhuǎn)， 用于支撐所述第一手柄；以及所述第二旋轉(zhuǎn)臂單元包括第一連接部件，所述第一連接部件被設(shè)置為其一側(cè)可以以所述第二驅(qū)動(dòng)軸為中心旋轉(zhuǎn)；以及第二連接部件，所述第二連接部件耦合到所述第一連接部件的另 一側(cè)，從而使得其可以通過與所述第一連接部件的相互作用而旋轉(zhuǎn)， 用于支撐所述第二手柄。
4、 如權(quán)利要求1或2所述的伶送裝置，其特征在于，所述第一和第二手柄被設(shè)置為可以防止其與各自的待傳送物體相互干擾。
5、 如權(quán)利要求4所述的傳送裝置，其特征在于，所述第一手柄 包括用于支撐所述待傳送物體的支撐部件；耦合到所述第一旋轉(zhuǎn)臂單元的耦合部件；以及用于使所述耦合部件和所述支撐部件相互連接并且傳遞由所述 第二手柄傳送來的物體的連接部件。
6、 如權(quán)利要求4所述的傳送裝置，其特征在于，所述第一和第 二手柄被設(shè)置為沿所述第一驅(qū)動(dòng)軸的方向具有相互不同的高度。
7、 如權(quán)利要求l或2所述的傳送裝置，其特征在于，所述第一 和第二驅(qū)動(dòng)軸由各自的驅(qū)動(dòng)單元獨(dú)立驅(qū)動(dòng)，或由一個(gè)驅(qū)動(dòng)單元輪流驅(qū)動(dòng)。
8、 一種具有如權(quán)利要求3所述的傳送裝置的傳送室。
9、 如權(quán)利要求8所述的傳送室，還包括用于將所述傳送室的內(nèi) 部壓力從大氣狀態(tài)降低到真空狀態(tài)以傳送待傳送物體，或用于將所述 傳送室的內(nèi)部壓力從真空狀態(tài)增加到大氣狀態(tài)的壓力控制器。
10、 如權(quán)利要求8所述的傳動(dòng)室，還包括升降裝置，所述升降裝 置包括多個(gè)升降腿，其被設(shè)置為可以上下移動(dòng)，以上下移動(dòng)由所述第一 或第二手柄支撐的所述待傳送物體，以及一個(gè)或多個(gè)上下驅(qū)動(dòng)單元，用于上下驅(qū)動(dòng)所述升降腿。
11、 如權(quán)利要求8所述的傳送室，還包括用于調(diào)整安裝在所述第 一或第二手柄上的所述待傳送物體的安裝狀態(tài)的調(diào)整器。
12、 如權(quán)利要求8所述的傳送室，包括用于將所述傳送室的內(nèi)部壓力從大氣狀態(tài)降低到真空狀態(tài)以傳 送待傳送物體，或用于將所述傳送室的內(nèi)部壓力從真空狀態(tài)增加到大氣狀態(tài)的壓力控制器；升降裝置，包括多個(gè)升降腿,所述升降腿被設(shè)置為可以上下移動(dòng)， 以上下移動(dòng)由所述第一或第二手柄支撐的所述待傳送物體，以及一個(gè)或多個(gè)上下驅(qū)動(dòng)單元，用于上下驅(qū)動(dòng)所述升降腿；以及用于調(diào)整安裝在所述第一或第二手柄上的所述待傳送物體的安 裝狀態(tài)的調(diào)整器。
13、 一種真空處理系統(tǒng)，包括用于對(duì)待傳送的基片或基板進(jìn)行真空處理的處理室；以及如權(quán)利要求12所述的傳送室，所述傳送室與所述處理室相連接。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于傳送諸如基片的待傳送物體的傳送裝置、具有相同功能的傳送室，以及包括具有相同功能裝置的真空處理系統(tǒng)。所述傳送裝置包括第一傳送組件，包括用于支撐待傳送物體的第一手柄，通過旋轉(zhuǎn)線性移動(dòng)所述第一手柄以傳送所述待傳送物體的第一旋轉(zhuǎn)臂單元，以及旋轉(zhuǎn)式驅(qū)動(dòng)所述第一旋轉(zhuǎn)臂單元的第一驅(qū)動(dòng)軸；以及設(shè)置為與所述第一傳送組件相間隔的第二傳送組件，所述第二傳送組件包括用于支撐待傳送物體的第二手柄，通過旋轉(zhuǎn)線性移動(dòng)所述第二手柄以傳送所述待傳送物體的第二旋轉(zhuǎn)臂單元，以及旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)所述第二旋轉(zhuǎn)臂單元的第二驅(qū)動(dòng)軸，其中，所述第一旋轉(zhuǎn)臂單元的旋轉(zhuǎn)區(qū)域和所述第二旋轉(zhuǎn)臂單元的旋轉(zhuǎn)區(qū)域相互重疊。所述傳送裝置可以減少安裝空間，而且可以減少所述傳送室的尺寸。這將減少降低或增加所述傳送室的內(nèi)部壓力所花費(fèi)的時(shí)間，從而提高生產(chǎn)力。
文檔編號(hào)B65G49/05GK101624142SQ20091016077
公開日2010年1月13日 申請(qǐng)日期2009年7月10日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月10日
發(fā)明者安成一, 楊熙范 申請(qǐng)人:Ips株式會(huì)社