專利名稱：用于光存儲介質(zhì)的原狀基體以及制造該基體的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于制作光存儲介質(zhì)的基體的制造方法。本發(fā)明還涉及用于基體以及原狀基體的坯件。
當(dāng)制造諸如光盤之類光存儲介質(zhì)時，利用被稱為基體的東西作為存儲介質(zhì)的信息攜帶結(jié)構(gòu)形式。該基體組成成型所述存儲介質(zhì)的模盤的半個部分?；w包含一個圓形平面金屬盤，其中形成一個中心開口。該開口用在存儲介質(zhì)的制造中。
常規(guī)用來制造光存儲介質(zhì)的方法中，金屬基體是通過在具有圖案的基底上構(gòu)成基體而一個一個地制造的。這是費時且成本高昂的工作，它包含許多制造步驟并且對用于制造基體的前期設(shè)備提出很高的要求。
于是本發(fā)明的目的為提供一種用于制造光存儲介質(zhì)的基體的改進(jìn)的制造方法。
一個具體的目的為提供一種合理的制造基體的方法。
一個具體的目的為保證基體制造中的高質(zhì)量。
根據(jù)本發(fā)明，從以下描述中將會明白的這些以及其他目的是通過根據(jù)權(quán)利要求1的方法而達(dá)到的。這些目的還通過根據(jù)權(quán)利要求6的用于基體的坯件，以及通過根據(jù)權(quán)利要求7的原狀基體而達(dá)到。優(yōu)選實施方案確定于附屬權(quán)利要求中。
本發(fā)明基于這樣的思想，在第一步中制造“原狀基體”，在后續(xù)步驟中通過加工原狀基體的表面而進(jìn)行刻錄。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面，形成一個盤狀基體主體，其中在一個面上形成一個抗蝕劑涂覆層，諸如光刻膠涂覆層。根據(jù)本發(fā)明，這通過在基體主體上從基體主體的中心部分旋涂聚合物而達(dá)到。
通過從中心部分旋涂聚合物，可以容易地在整個盤狀基體主體上得到均勻的抗蝕劑涂覆層。任何不均勻性都限制在中心部分。
形成抗蝕劑涂覆層之后，通過移去中心部分而在基體主體中形成中心開口，較佳地對基體主體的中心部分沖孔。結(jié)果，從開口的邊緣輻射狀向外整個抗蝕劑涂覆層將是均勻的。由此，該基體直到開口的邊緣都能夠具有高質(zhì)量的刻錄。
根據(jù)本發(fā)明的思想，從中心位置通過旋涂形成抗蝕劑涂覆層，并且此時沖孔形成一個中心開口，比起沖孔之后旋涂形成抗蝕劑涂覆層的情形，將獲得更高的質(zhì)量，更大的寫入表面和更低的制造成本。
移去中心部分后形成的開口較佳地構(gòu)成為用來制造光存儲介質(zhì)的最終的開口。對于基體主體來說，當(dāng)涂敷抗蝕劑層時覆蓋整個中心部分是較佳的，因為由此抗蝕劑材料可以從單獨的中心位置起旋涂。然而，本發(fā)明在此方面不限于此，某些情況下，較有利地可以在基體主體中形成一個較小的開口，并從較小的開口附近的中心區(qū)域起施加抗蝕劑材料，其較小的開口附近上的中心區(qū)域被移去。此實施例也包含在本發(fā)明的思想中，將在權(quán)利要求中表達(dá)。
在一個較佳實施例中，在后續(xù)步驟中通過以某些現(xiàn)有技術(shù)方法的照射(曝光)以及顯影工藝在抗蝕劑涂覆層中形成信息攜帶刻錄，于其上通過蝕刻或涂敷工藝在基體主體中形成相應(yīng)結(jié)構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，包括一個用于基體的坯件，它具有從中心部分延伸至圓形外圍線的盤狀基體主體，和一個從基體主體的中心部分輻射狀向外伸展的抗蝕劑涂覆層。中心部分適合于在后續(xù)步驟中被移去。由此在基體主體中不形成最終的中心開口。在一個特別較佳實施例中，坯件在外邊緣線內(nèi)部根本沒有開口。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面，包括一個具有盤狀基體主體的原狀基體，基體主體具有一個中心開口和一個從中心開口的邊緣延伸的抗蝕劑涂覆層，且具有均勻的厚度。如此通過在基體坯件中如上所述地形成一個中心開口而制造出原狀基體，原狀基體本身構(gòu)成制造最終基體的中間產(chǎn)品。于是在結(jié)構(gòu)曝光或形成(例如進(jìn)行蝕刻或涂敷工藝)之后，不需進(jìn)行進(jìn)一步的內(nèi)徑或外徑的改變或加工。
下面將描述本發(fā)明的一個較佳實施例用于示例。
形成一個由鎳構(gòu)成的圓盤形基體主體。適量的合適抗蝕劑材料放置于盤的中心，盤繞中心旋涂使得抗蝕劑材料在基體主體上旋涂出均勻的層，該基體主體于是構(gòu)成了用于基體的坯件。接著，盤的中心部分被沖孔，從而形成一個原狀基體。該原狀基體經(jīng)歷平版印刷處理，其中根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的方法信息攜帶圖案被照射曝光并顯影，使得基體主體在對應(yīng)于基體所具有信息的被選擇的圖案表面部分不被覆蓋。然后基體主體中在未被覆蓋的表面刻蝕出一種結(jié)構(gòu)。最后，抗蝕劑涂覆層的其余部分被除去，從而形成具有信息攜帶表面結(jié)構(gòu)的完整的基體。在基體準(zhǔn)備使用前，也可以給表面結(jié)構(gòu)進(jìn)行一種保護(hù)處理。
權(quán)利要求
1．一種用于制作光存儲介質(zhì)的基體的制造方法，其特征在于包括步驟形成一個盤狀基體主體，通過在基體主體上從基體主體的中心部分開始旋涂聚合物而在基體主體的一面上施加抗蝕劑涂覆層，以及在所述施加步驟之后，通過移去中心部分，較佳地通過對基體主體的中心部分沖孔，而在具有抗蝕劑涂覆層的基體主體中形成一個中心開口。
2．根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，所述開口形成為使得抗蝕劑涂覆層從界定所述開口的周邊邊緣起延伸。
3．根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其中，在抗蝕劑涂覆層被提供以信息攜帶刻錄之前在基體主體中形成中心開口。
4．根據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中，信息攜帶刻錄通過后續(xù)的曝光與顯影工藝而形成于抗蝕劑涂覆層中。
5．根據(jù)權(quán)利要求4的方法，其中，通過蝕刻或涂敷工藝在基體主體中形成一種與抗蝕劑涂覆層中的刻錄相對應(yīng)的結(jié)構(gòu)。
6．一種用于光存儲介質(zhì)的基體的坯件，其特征在于，一個從中心部分延伸至一條圓形外圍線的盤狀基體主體，中心部分適合于被移去，并且抗蝕劑涂覆層從基體主體的中心部分向外輻射狀延伸。
7．一種用于光存儲介質(zhì)的原狀基體，其特征在于，一個盤狀基體主體，包含一個中心開口以及從中心開口的周邊邊緣延伸的抗蝕劑涂覆層，該抗蝕劑涂覆層從所述周邊邊緣輻射狀向外具有均勻的厚度。
8．根據(jù)權(quán)利要求7的原狀基體，具有確定大小的基體主體和開口，而且在基體主體中形成信息攜帶結(jié)構(gòu)以后，能夠使用于制造光存儲介質(zhì)中。
全文摘要
在用于制作光存儲介質(zhì)的基體的制造方法中,形成一個盤狀基體主體。然后通過在基體主體上從基體主體中心部分開始旋涂聚合物而將抗蝕劑涂覆層施加到基體主體的一個面上,以形成一個用于基體的坯件。最后,較佳地通過對基體主體中心部分沖孔,在基體主體中形成一個開口,從而形成一個原狀基體,它具有從開口邊緣延伸的抗蝕劑涂覆層。
文檔編號B29C45/26GK1303511SQ9980681
公開日2001年7月11日 申請日期1999年5月28日 優(yōu)先權(quán)日1998年5月29日
發(fā)明者蘭納特·奧爾森 申請人:奧博杜卡特股份公司