專利名稱：旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明定關(guān)于一旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理裝置及方法，特別是關(guān)于一種洗刷反應(yīng)器的內(nèi)壁面方式，不需外力即可將氣體引入反應(yīng)腔中，用以減少毒性氣體于裂解過程中所生的小分子固體堆積于反應(yīng)器內(nèi)壁，進而延長反應(yīng)器需做定期清洗的時間。
背景技術(shù)：
全氣化物定溫室管制氣體之一，其中SF6、HFCs及PFCs等主要為人造的溫室氣體成分。雖然HFCs及PFCs不會耗損臭氧層，但皆為強效溫室氣體，其高全球溫暖化潛勢指數(shù)值(Global Waring Potental or GWP)高過二氧化碳千倍，能停留在大氣層中相當(dāng)長時間，具極長的生命期，在大氣中的累積效應(yīng)為不可逆的。近年來半導(dǎo)體制程(如在干蝕刻化學(xué)氣相沉積的清腔程序等)廣泛地使用CF4、C2F6、C3F8、NF3等氟化物(Perfluorocompounds or PFCs)做為制程氣體，而這些氣體僅少部分在制程中真正被使用掉，剩余的大部分如化學(xué)氣相沉積制程中(ChemicalVapor Deposition；CVD)約剩余90％則當(dāng)作廢氣排放，造成溫室效應(yīng)的重要來源。由于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)達的各國已有共同認知及協(xié)議未來將制定法規(guī)減少PFCs氣體的排放，臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)亦將受到此協(xié)議的約束。但目前半導(dǎo)體設(shè)備元件的制造技術(shù)中全氟化物的使用量隨著半導(dǎo)體制程的進步與日俱增，因此需要管制與處理避免環(huán)境公害的產(chǎn)生，以及采用新的PFCs廢氣處理系統(tǒng)，以因應(yīng)未來更加嚴苛的廢氣排放標(biāo)準(zhǔn)。
目前毒性氣體廢氣處理裝置，以高溫裂解及洗滌除害的設(shè)計原理為主的裝置擁有最佳的效能，是使用電漿方式(plasma)進行高溫裂解。如圖1所示，其特征在于引入廢氣與電漿直接作用，再進入反應(yīng)腔內(nèi)處理，并于反應(yīng)腔出口處設(shè)置一噴水器組，廢氣經(jīng)過噴水器組降溫后，再引入一濕式洗滌塔處理后予以排放，此一濕式洗滌塔的循環(huán)用水設(shè)有一水槽供應(yīng)。
其運作如下反應(yīng)器110包括廢氣進口111、電漿火炬112、反應(yīng)腔113三個部分，其中該反應(yīng)腔內(nèi)部是以耐火斷熱材料構(gòu)筑而成。電漿火炬112經(jīng)所生的極高溫束流與由廢氣進口111進入的毒性氣體廢氣，在反應(yīng)腔113中毒性氣體廢氣瞬間被熱解、原子化或離子化，形成如氫(H2)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)和氟化氫(HF)等的產(chǎn)物。接續(xù)，在反應(yīng)器110的反應(yīng)腔113出口處，設(shè)置一噴水器組120，由此噴出的水霧吸收熱量使產(chǎn)物迅速降溫，并溶解產(chǎn)物中的部分氟化氫(HF)。而其余落下于水槽表面的產(chǎn)物，水槽再以底部排水方式將廢水排出。因高溫影響氣體的溶解度，所以在產(chǎn)物經(jīng)噴霧冷卻后，通過一過濾器140過濾雜質(zhì)及固體物，再將廢氣引入一濕式洗滌塔150內(nèi)部填有高表面積填充物。毒性氣體廢氣在經(jīng)過此一濕式洗滌塔150時，其夾帶的固體物，例如，含硅粉末等，可以被洗凈濾除，同時氟化氫在此也被吸收，于處理氟化氫產(chǎn)物時，噴出的水霧可加鹼液中和氟化氫酸性。但依現(xiàn)況而言，在科學(xué)園區(qū)設(shè)有廢水處理場，通常含氟廢水可由廢水處理場處理，因此，水槽的儲水可做批次排放或連續(xù)排放至廢水處理場即可。當(dāng)廢氣來源所提供的氣流靜壓不足時，濕式洗滌塔150后端可加置一風(fēng)車160以補足靜壓，順利排出設(shè)計的風(fēng)量值。
惟現(xiàn)有技術(shù)中，為增進毒性氣體廢氣處理效率，由半導(dǎo)體及其他工業(yè)制程所產(chǎn)生的有害廢氣，例如C2F6、SiH4、CF4、NF3、CHF3等往往同時于反應(yīng)器中處理反應(yīng)。其反應(yīng)方程序如下
其中所有廢氣反應(yīng)的產(chǎn)物皆為氣體，除SiH裂解后所生的SiO2固體容易吸附于反應(yīng)器內(nèi)壁，為維持反應(yīng)器效能，需更頻繁的清洗內(nèi)壁，故有降低設(shè)備壽命及提高企業(yè)成本的缺點。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于一種旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理裝置及方法，在不需外力的狀況下即可將氣體引入反應(yīng)腔中，在進行反應(yīng)的同時刷洗反應(yīng)器的內(nèi)壁面吸附的小分子固體。
本發(fā)明的另一目的在于一種旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理裝置及方法，利用反應(yīng)的氣體氣體造成速度場所生的力洗刷內(nèi)壁面吸附的小分子固體。
本發(fā)明的另一目的在于一種旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理裝置，在第一水槽與第二水槽設(shè)有連接水管，有效的將小分子由第一水槽帶出。
本發(fā)明的技術(shù)方案是本發(fā)明一種旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，包含(a)廢氣通過火炬進入反應(yīng)腔，其所述廢氣在所述反應(yīng)腔瞬間被熱解形成廢氣產(chǎn)物，其所述的廢氣產(chǎn)物為氣態(tài)分子和固體小分子的組成；(b)由所述的反應(yīng)腔的一反應(yīng)腔氣體入口引入氣體，由其引入氣體的速度場所生的力洗刷所述反應(yīng)腔內(nèi)壁，將附著在所述反應(yīng)腔內(nèi)壁的所述固體小分子清除；(c)所述氣態(tài)分子經(jīng)由一水槽組溶解所述氣態(tài)分子中部分氟化氫并帶走漂浮在所述水槽組水表面的所述固體小分子；和(d)濕式洗滌塔處理剩余的所述氣態(tài)分子和固體小分子。
其中所述的反應(yīng)腔是包含廢氣進口、一火炬、一反應(yīng)腔、一反應(yīng)腔空氣入口。
其中所述的火炬是為電漿方式、電熱方式和瓦斯方式其中之一形成。
其中所述的反應(yīng)腔氣體入口數(shù)目可為復(fù)數(shù)。
其中所述的反應(yīng)腔與所述的反應(yīng)腔氣體入口成垂直，使所述氣體是以切線方向進入所述反應(yīng)腔。
其中所述氣體是為惰性氣體如氮氣。
其中所述水槽組包含一個水槽，與所述反應(yīng)腔相連。
其中所述水槽組包含有第一、第二水槽，其中與反應(yīng)腔間的位置關(guān)系，由上至下依序是反應(yīng)腔、第一水槽和與第二水槽，其中所述第一水槽與所述第二水槽間由一連接器連接。
其中連接器上端開口在其連接的上水槽內(nèi)突出底部，接近但低于正常水面處，其下端開口則在其連接的下水槽內(nèi)部，用以帶走步驟(c)中漂浮于水表面所述的固體小分子。
本發(fā)明一種旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，包含(a)廢氣經(jīng)由廢氣進口引入反應(yīng)腔中，由火炬提供高熱讓所述廢氣進行裂解形成的由氣態(tài)分子和固體小分子組成的廢氣產(chǎn)物，其中所述廢氣進口與所述反應(yīng)腔成垂直；(b)所述氣態(tài)分子經(jīng)由一水槽組溶解所述氣態(tài)分子中部分氟化氫并帶走漂浮在所述水槽組水表面的所述固體小分子；和(c)濕式洗滌塔處理剩余的所述廢氣產(chǎn)物。
其中所述的反應(yīng)腔是包含廢氣進口、一火炬、一反應(yīng)腔。
其中所述的火炬是為電漿方式、電熱方式和瓦斯方式其中之一形成。
其中所述的廢氣進口數(shù)目可為復(fù)數(shù)。
其中所述的廢氣進口由于所述反應(yīng)腔垂直，其當(dāng)引入所述廢氣產(chǎn)生的速度場所生的力可洗刷所述反應(yīng)腔內(nèi)壁。
其中所述的水槽組包含一個水槽，與所述反應(yīng)腔相連。
其中所述的水槽組包含有第一、第二水槽，其中與反應(yīng)腔間的位置關(guān)系，由上至下依序是反應(yīng)腔、第一水槽和與第二水槽，其中所述第一水槽與所述第二水槽間由一連接器連接。
其中所述的連接器，上端開口在其連接的上水槽內(nèi)突出底部，接近但低于正常水面處，其下端開口則在其連接的下水槽內(nèi)部，用以帶走步驟(b)中漂浮于水表面所述的固體小分子。
本發(fā)明一種旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，包含一反應(yīng)腔；一反應(yīng)腔氣體入口，位于所述反應(yīng)腔上并與所述的反應(yīng)腔成垂直，使氣體是以切線方向進入所述的反應(yīng)腔；一水槽組，其中所述的水槽組與所述反應(yīng)腔相連接；以及一濕式洗滌塔，其中所述的水槽組與所述的濕式洗滌塔相連；其中廢氣與火炬直接混合進入所述反應(yīng)腔內(nèi)反應(yīng)，在反應(yīng)中外來氣體將被引入所述反應(yīng)腔氣體入口用以帶走吸附于所述反應(yīng)腔內(nèi)壁的反應(yīng)后固體小分子；而后，反應(yīng)后部份產(chǎn)物落于所述水槽組后經(jīng)過分離及沉淀過程后排放，其余部分再引入所述濕式洗滌塔處理后予以排出。
其中的反應(yīng)腔包含至少一廢氣進口組和所述火炬所組成。
其中所述反應(yīng)腔氣體入口可為復(fù)數(shù)個。
其中所述的火炬是為電漿方式、電熱方式和瓦斯方式中其中之一形成。
其中所述的反應(yīng)腔的氣體進口數(shù)目可為復(fù)數(shù)。
其中所述的外來的氣體由于與所述反應(yīng)腔垂直，其當(dāng)引入所述氣體產(chǎn)生的速度場所生之力可洗刷所述反應(yīng)腔內(nèi)壁。
其中所述的外來氣體是為惰性氣體如氮氣。
其中所述的水槽組包含有第一、第二水槽，其中與所述反應(yīng)腔間的位置關(guān)系，由上至下依序是反應(yīng)腔、第一水槽和與第二水槽，其中所述第一水槽與所述第二水槽間由一連接器連接。
本發(fā)明一種旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，包含一反應(yīng)腔，其中一廢氣進口位于所述反應(yīng)腔上且與所述的反應(yīng)腔成垂直，使廢氣是以切線方向進入所述的反應(yīng)腔；一水槽組，其中所述的水槽組與所述反應(yīng)腔相連接；以及一濕式洗滌塔，其中所述的水槽組與所述的濕式洗滌塔相連；其中廢氣由所述廢氣進口與火炬直接混合進入所述反應(yīng)腔內(nèi)反應(yīng)，并同時帶定吸附于所述反應(yīng)腔內(nèi)壁上反應(yīng)后的固體小分子；而后反應(yīng)產(chǎn)物落于所述水槽組后經(jīng)過分離及沉淀過程后排放，其余部分再引入所述濕式洗滌塔處理后予以排出。
其中的反應(yīng)腔包含至少所述廢氣進口組和火炬所組成。
其中所述廢氣進口可為復(fù)數(shù)個。
其中所述的火炬是為電漿方式、電熱方式和瓦斯方式中其中之一。
其中所述水槽組包含一個水槽，與所述反應(yīng)腔相連。
其中所述水槽組包含有第一、第二水槽，其中與所述反應(yīng)腔間的位置關(guān)系，由上至下依序是反應(yīng)腔、第一水槽和與第二水槽，其中所述第一水槽與所述第二水槽間由一連接器連接。


為進一步說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容，以下結(jié)合實施例及附圖詳細說明如后，其中圖1是現(xiàn)有技術(shù)毒性氣體廢氣處理裝置。
圖2是本發(fā)明實施例毒性氣體廢氣燃燒爐焚化處理裝置。
圖3A和B是本發(fā)明的制程排氣口上下游，正面剖面速度場的模擬圖。
具體實施例方式
本發(fā)明可運用在工廠為處理全氟化物(PFCs)的廢氣時，引入氣體形成旋渦氣流用以清洗在燃燒全氟化物(PFCs)過程中會附著于反應(yīng)腔內(nèi)壁的產(chǎn)物。
請參閱圖2，為本發(fā)明毒性氣體廢氣燃燒爐焚化處理裝置。與一般廢氣燃燒爐焚化處理相同是先引入廢氣與電漿直接混合，再進入反應(yīng)腔內(nèi)處理，再于反應(yīng)腔出口處設(shè)置一噴水器組，將廢氣及其所攜帶的固體小分子經(jīng)過噴水器組降溫后，引入一濕式洗滌塔處理后予以排放，且此一濕式洗滌塔的循環(huán)用水設(shè)有一水槽供應(yīng)的。不同的是處理過程中本發(fā)明的處理裝置引入氣體，由其氣體產(chǎn)生的速度場所生的力洗刷反應(yīng)器的內(nèi)壁吸附的固體小分子。其運作方式如下電漿反應(yīng)器310包括一廢氣進口311、一電漿火炬312、一反應(yīng)腔313、一反應(yīng)腔氣體入口314四個部分，其中反應(yīng)腔內(nèi)部是以耐火斷熱材料構(gòu)筑而成，在電漿火炬加熱下，可形成高溫環(huán)境。毒性氣體廢氣由廢氣進口311進入反應(yīng)腔313，通過電漿火炬312的極高溫(10,000℃)電漿束流，毒性氣體廢氣在反應(yīng)腔313中，瞬間被熱解、原子化或離子化，其化學(xué)鍵因而被瓦解摧毀，形成一些簡單易于處理的分子或原子如氫、一氧化碳、二氧化碳和氟化氫等，并產(chǎn)生易吸附于內(nèi)腔表面的固體小分子如二氧化硅等含硅粉末。
為了清除內(nèi)腔表面的固體分子，本發(fā)明是在反應(yīng)腔313本體制作出一個以上與腔體垂直的反應(yīng)腔氣體入口314用以引入氣體，使氣體入口方向是以切線方向進入反應(yīng)腔，由其引入氣體的速度場所生的力洗刷反應(yīng)器及其隨后通道的內(nèi)壁。由于，在進行燃燒廢氣過程中，其反應(yīng)腔313內(nèi)為負壓狀態(tài)。因此，不需任何外力協(xié)助即可將氣體由反應(yīng)腔氣體入口314引入反應(yīng)腔313中，其所述引入的氣體以不參與反應(yīng)的惰性氣體為主如氮氣。
為達到清除反應(yīng)腔中固體小分子的目的，若不想在反應(yīng)腔313形成反應(yīng)腔氣體入口314，亦可在引入廢氣的廢氣進口311做類似的設(shè)計。也就是說，廢氣進口311設(shè)計與反應(yīng)腔313垂直，如此，其進入的廢氣亦會有速度場所生的力用來洗刷反應(yīng)器及其隨后通道的內(nèi)壁。本實施例亦做出制程設(shè)備相關(guān)速度場的模擬圖，以四個廢氣進口為例進氣量為50LPM，如圖3A和B所示，可證實所引入的氣體確實可達到刷洗內(nèi)壁的功用。
燃燒反應(yīng)后廢氣產(chǎn)物落入第一水槽330，其內(nèi)的一噴水器組320噴出水霧，由此水吸收熱量使產(chǎn)物迅速降溫，并溶解廢氣產(chǎn)物中部分氟化氫(HF)，但由于高溫影響產(chǎn)物的溶解度，所以在廢氣產(chǎn)物經(jīng)噴霧冷卻后，經(jīng)過第一水槽330及用一過濾器340過濾雜質(zhì)及固體物，再將廢氣產(chǎn)物引入一濕式洗滌塔350內(nèi)部填有高表面積填充物。廢氣產(chǎn)物在經(jīng)過此一濕式洗滌塔350時，其夾帶的固體物，例如，含硅粉末等，可以被洗凈濾除，同時氣化氫在此也被吸收，于處理氣化氫產(chǎn)物時，噴出的水霧可加鹼液中和氣化氫酸性。
因高溫影響所以廢氣產(chǎn)物中的固體小分子落下懸浮在第一水槽330水面表面，不易由傳統(tǒng)的底部排水方式將這些固體小分子帶離水槽，將影響濕式洗滌塔吸收的效能。因此將第一水槽330中由固體小分子和水組成的溶液，透過開口突出至接近上水槽水面的一連接水管332，將第一水槽330水表面的小分子由水流帶到第二水槽331進行沉淀；如此經(jīng)適當(dāng)時間后，小分子會沉淀至第二水槽331底部，此時再透過底部排水方式，便能有效的將小分子全部帶出。其余未溶解的廢氣產(chǎn)物及其夾帶的固體物，例如，含硅粉末等，再經(jīng)過濾器340被引入一濕式洗滌塔350，完成后續(xù)處理動作，最后由風(fēng)車360將符合環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的氣體排出。當(dāng)廢氣來源所提供的氣流靜壓不足時，濕式洗滌塔350后端可加置一風(fēng)車360以補足靜壓，順利排出設(shè)計的風(fēng)量值。
本發(fā)明的實施例中是以電漿作為實施例以解說的，但本發(fā)明亦可運用于其他的燃燒方式如瓦斯或電熱方式。其使用瓦斯或電熱方式亦會在燃燒過程中遇到相同的問題，運用本發(fā)明可解決。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，不應(yīng)用于局限本發(fā)明的可實施范圍，凡根據(jù)本發(fā)明的內(nèi)容所作的部份修改，而未違背本發(fā)明的精神時，皆應(yīng)屬本發(fā)明的范圍。
此外，本發(fā)明于申請前并未曾見于任何公開場合或刊物上，因此本案深具“實用性、新穎性及創(chuàng)造性”的發(fā)明專利條件，故依法提出發(fā)明專利的申請。
權(quán)利要求
1.一種旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，包含(a)廢氣通過火炬進入反應(yīng)腔，其所述廢氣在所述反應(yīng)腔瞬間被熱解形成廢氣產(chǎn)物，其所述的廢氣產(chǎn)物為氣態(tài)分子和固體小分子的組成；(b)由所述的反應(yīng)腔的一反應(yīng)腔氣體入口引入氣體，由其引入氣體的速度場所生的力洗刷所述反應(yīng)腔內(nèi)壁，將附著在所述反應(yīng)腔內(nèi)壁的所述固體小分子清除；(c)所述氣態(tài)分子經(jīng)由一水槽組溶解所述氣態(tài)分子中部分氟化氫并帶走漂浮在所述水槽組水表面的所述固體小分子；和(d)濕式洗滌塔處理剩余的所述氣態(tài)分子和固體小分子。
2.如權(quán)利要求1所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的反應(yīng)腔是包含廢氣進口、一火炬、一反應(yīng)腔、一反應(yīng)腔空氣入口。
3.如權(quán)利要求1所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的火炬是為電漿方式、電熱方式和瓦斯方式其中之一形成。
4.如權(quán)利要求1所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的反應(yīng)腔氣體入口數(shù)目可為復(fù)數(shù)。
5.如權(quán)利要求1所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的反應(yīng)腔與所述的反應(yīng)腔氣體入口成垂直，使所述氣體是以切線方向進入所述反應(yīng)腔。
6.如權(quán)利要求1所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述氣體是為惰性氣體如氮氣。
7.如權(quán)利要求1所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述水槽組包含一個水槽，與所述反應(yīng)腔相連。
8.如權(quán)利要求1所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述水槽組包含有第一、第二水槽，其中與反應(yīng)腔間的位置關(guān)系，由上至下依序是反應(yīng)腔、第一水槽和與第二水槽，其中所述第一水槽與所述第二水槽間由一連接器連接。
9.如權(quán)利要求7所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中連接器上端開口在其連接的上水槽內(nèi)突出底部，接近但低于正常水面處，其下端開口則在其連接的下水槽內(nèi)部，用以帶走步驟(c)中漂浮于水表面所述的固體小分子。
10.一種旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，包含(a)廢氣經(jīng)由廢氣進口引入反應(yīng)腔中，由火炬提供高熱讓所述廢氣進行裂解形成的由氣態(tài)分子和固體小分子組成的廢氣產(chǎn)物，其中所述廢氣進口與所述反應(yīng)腔成垂直；(b)所述氣態(tài)分子經(jīng)由一水槽組溶解所述氣態(tài)分子中部分氟化氫并帶走漂浮在所述水槽組水表面的所述固體小分子；和(c)濕式洗滌塔處理剩余的所述廢氣產(chǎn)物。
11.如權(quán)利要求10所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的反應(yīng)腔是包含廢氣進口、一火炬、一反應(yīng)腔。
12.如權(quán)利要求10所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的火炬是為電漿方式、電熱方式和瓦斯方式其中之一形成。
13.如權(quán)利要求10所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的廢氣進口數(shù)目可為復(fù)數(shù)。
14.如權(quán)利要求10所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的廢氣進口由于所述反應(yīng)腔垂直，其當(dāng)引入所述廢氣產(chǎn)生的速度場所生的力可洗刷所述反應(yīng)腔內(nèi)壁。
15.如權(quán)利要求10所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的水槽組包含一個水槽，與所述反應(yīng)腔相連。
16.如權(quán)利要求10所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的水槽組包含有第一、第二水槽，其中與反應(yīng)腔間的位置關(guān)系，由上至下依序是反應(yīng)腔、第一水槽和與第二水槽，其中所述第一水槽與所述第二水槽間由一連接器連接。
17.權(quán)利要求16所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的連接器，上端開口在其連接的上水槽內(nèi)突出底部，接近但低于正常水面處，其下端開口則在其連接的下水槽內(nèi)部，用以帶走步驟(b)中漂浮于水表面所述的固體小分子。
18.一種旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，包含一反應(yīng)腔；一反應(yīng)腔氣體入口，位于所述反應(yīng)腔上并與所述的反應(yīng)腔成垂直，使氣體是以切線方向進入所述的反應(yīng)腔；一水槽組，其中所述的水槽組與所述反應(yīng)腔相連接；以及一濕式洗滌塔，其中所述的水槽組與所述的濕式洗滌塔相連；其中廢氣與火炬直接混合進入所述反應(yīng)腔內(nèi)反應(yīng)，在反應(yīng)中外來氣體將被引入所述反應(yīng)腔氣體入口用以帶走吸附于所述反應(yīng)腔內(nèi)壁的反應(yīng)后固體小分子；而后，反應(yīng)后部份產(chǎn)物落于所述水槽組后經(jīng)過分離及沉淀過程后排放，其余部分再引入所述濕式洗滌塔處理后予以排出。
19.如權(quán)利要求18所述的旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中的反應(yīng)腔包含至少一廢氣進口組和所述火炬所組成。
20，如權(quán)利要求18所述的旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中所述反應(yīng)腔氣體入口可為復(fù)數(shù)個。
21.如權(quán)利要求18所述的漩渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中所述的火炬是為電漿方式、電熱方式和瓦斯方式中其中之一形成。
22.如權(quán)利要求18所述的漩渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中所述的反應(yīng)腔的氣體進口數(shù)目可為復(fù)數(shù)。
23，如權(quán)利要求18所述的旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中所述的外來的氣體由于與所述反應(yīng)腔垂直，其當(dāng)引入所述氣體產(chǎn)生的速度場所生之力可洗刷所述反應(yīng)腔內(nèi)壁。
24.如權(quán)利要求18所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的外來氣體是為惰性氣體如氮氣。
25.如權(quán)利要求18所述的旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理方法，其特征在于，其中所述的水槽組包含有第一、第二水槽，其中與所述反應(yīng)腔間的位置關(guān)系，由上至下依序是反應(yīng)腔、第一水槽和與第二水槽，其中所述第一水槽與所述第二水槽間由一連接器連接。
26.一種旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，包含一反應(yīng)腔，其中一廢氣進口位于所述反應(yīng)腔上且與所述的反應(yīng)腔成垂直，使廢氣是以切線方向進入所述的反應(yīng)腔；一水槽組，其中所述的水槽組與所述反應(yīng)腔相連接；以及一濕式洗滌塔，其中所述的水槽組與所述的濕式洗滌塔相連；其中廢氣由所述廢氣進口與火炬直接混合進入所述反應(yīng)腔內(nèi)反應(yīng)，并同時帶定吸附于所述反應(yīng)腔內(nèi)壁上反應(yīng)后的固體小分子；而后反應(yīng)產(chǎn)物落于所述水槽組后經(jīng)過分離及沉淀過程后排放，其余部分再引入所述濕式洗滌塔處理后予以排出。
27.如權(quán)利要求26所述的旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中的反應(yīng)腔包含至少所述廢氣進口組和火炬所組成。
28.如權(quán)利要求26所述的旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中所述廢氣進口可為復(fù)數(shù)個。
29.如權(quán)利要求28所述的旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中所述的火炬是為電漿方式、電熱方式和瓦斯方式中其中之一。
30.如權(quán)利要求26所述的漩渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中所述水槽組包含一個水槽，與所述反應(yīng)腔相連。
31.如權(quán)利要求26所述的旋渦式反應(yīng)腔處理毒性氣體裝置，其特征在于，其中所述水槽組包含有第一、第二水槽，其中與所述反應(yīng)腔間的位置關(guān)系，由上至下依序是反應(yīng)腔、第一水槽和與第二水槽，其中所述第一水槽與所述第二水槽間由一連接器連接。
全文摘要
本發(fā)明是提供一種旋渦式反應(yīng)腔毒性氣體處理裝置及方法，使進入反應(yīng)腔的氣體是以切線方向進入反應(yīng)腔，如此由其產(chǎn)生速度場的分布，具有將反應(yīng)器及其隨后通道的內(nèi)壁面洗刷的功能，減少毒性氣體于裂解過程中所生的小分子固體堆積于反應(yīng)器內(nèi)壁，進而延長反應(yīng)器需做定期清洗的時間；此外，本發(fā)明為使氣體將反應(yīng)腔內(nèi)壁所刷洗下來的小分子固體能被更有效的處理，更將后續(xù)的水槽組依功能區(qū)分為第一水槽及第二水槽兩大部分，可有效將水槽組內(nèi)懸浮于水面表面小分子全部帶出。
文檔編號F23G7/08GK1580636SQ0315265
公開日2005年2月16日 申請日期2003年8月4日 優(yōu)先權(quán)日2003年8月4日
發(fā)明者鄭石治 申請人:華懋科技股份有限公司