專利名稱：烤箱的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開涉及烤箱。
背景技術(shù)：
一般而言，烤箱是利用來自熱源的熱在腔室內(nèi)烹飪食物的裝置?？鞠浯篌w 上可分類為利用來自熱源的輻射熱烹飪食物的輻射烤箱和利用風(fēng)扇循環(huán)被加 熱的氣體來烹飪食物的對流烤箱。
對流烤箱包括限定烹飪間的腔室；加熱室，氣體從腔室提供到該加熱室； 設(shè)置在加熱室中的加熱器和風(fēng)扇；及旋轉(zhuǎn)風(fēng)扇的電動(dòng)機(jī)。
因此，當(dāng)風(fēng)扇旋轉(zhuǎn)時(shí)，腔室內(nèi)的氣體流入加熱室，被加熱室中的加熱器加 熱，并重新提供給腔室
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題
諸實(shí)施例提供能夠在腔室內(nèi)均勻地循環(huán)經(jīng)加熱器加熱的氣體的烤箱。 諸實(shí)施例還提供利用多個(gè)對流加熱器加熱氣體以加速食物烹飪的烤箱。 諸實(shí)施例還提供將經(jīng)加熱器加熱的氣體沿各個(gè)方向排入腔室從而實(shí)現(xiàn)適 當(dāng)?shù)氖澄锱腼兊目鞠洹?技術(shù)方案
在一個(gè)實(shí)施例中， 一種烤箱包括容納食物的腔室；多重設(shè)置的對流組件， 每個(gè)對流組件包括加熱食物的加熱器、和將加熱器加熱的氣體吹向食物的風(fēng) 扇；以及覆蓋風(fēng)扇中的至少一個(gè)的至少一個(gè)覆蓋構(gòu)件，其中風(fēng)扇具有距離腔室 的底面有不同高度的相應(yīng)軸心。
在另一個(gè)實(shí)施例中， 一種烤箱包括限定烹飪間的腔室；在腔室外側(cè)的多 個(gè)加熱器；將每個(gè)加熱器加熱的氣體吹向腔室的多個(gè)風(fēng)扇；在腔室中限定的多個(gè)吸入孔，使氣體能流向加熱器；以及靠近每個(gè)吸入孔限定的多個(gè)排放孔，以 將由加熱器加熱的氣體排放到腔室，其中吸入孔被限定在分別不同的高度。
在又一個(gè)實(shí)施例中， 一種烤箱包括限定烹飪間的腔室；腔室內(nèi)的多個(gè)加 熱器和多個(gè)風(fēng)扇；以及耦合到腔室的內(nèi)側(cè)且覆蓋加熱器中的至少一個(gè)和風(fēng)扇之 一的至少一個(gè)覆蓋構(gòu)件，其中覆蓋構(gòu)件限定至少一個(gè)吸入孔和至少一個(gè)排放 孔。
有益效果
根據(jù)所公開的實(shí)施例，因?yàn)槎鄠€(gè)加熱器和風(fēng)扇可獨(dú)立地操作，所以被加熱 的氣體可均勻分布在腔室內(nèi)。
同樣，因?yàn)槎鄠€(gè)加熱器和風(fēng)扇彼此上下設(shè)置，所以腔室內(nèi)的氣體能夠更均 勻地分布。
此外，經(jīng)多個(gè)加熱器加熱的氣體沿各個(gè)方向被排入腔室，所以可適當(dāng)加熱 很多類型的食物。
此外，因?yàn)槎鄠€(gè)加熱器和風(fēng)扇單獨(dú)設(shè)置在不同位置，當(dāng)多個(gè)加熱器和風(fēng)扇 同時(shí)操作時(shí)，能夠?qū)崿F(xiàn)快速烹飪。
附圖簡述


圖1是根據(jù)第一實(shí)施例的烤箱的示意性立體圖。
圖2是示出根據(jù)第一實(shí)施例的對流組件的結(jié)構(gòu)的橫截面圖。
圖3是示出根據(jù)第一實(shí)施例的多個(gè)對流組件之間的幾何關(guān)系的示圖。
圖4是根據(jù)第一實(shí)施例的覆蓋構(gòu)件的立體圖。
圖5是沿線I-I'截取的圖4的橫截面圖。
圖6是示出根據(jù)第一實(shí)施例的對流組件排放的氣流的示圖。
圖7是示出根據(jù)第二實(shí)施例的對流組件排放的氣流的示圖。
圖8是示出根據(jù)第三實(shí)施例的對流組件的結(jié)構(gòu)的橫截面圖。
圖9是根據(jù)第四實(shí)施例的烤箱的示意性立體圖。
圖10是示出根據(jù)第四實(shí)施例的對流組件的結(jié)構(gòu)的正視圖。
圖11是示出根據(jù)第四實(shí)施例的對流組件的結(jié)構(gòu)的橫截面圖。
圖12是示出根據(jù)第四實(shí)施例的烤箱內(nèi)的氣流的示圖。圖13是根據(jù)第五實(shí)施例的烤箱的示意圖。
圖14是根據(jù)第五實(shí)施例的覆蓋構(gòu)件的立體圖。
圖15是沿線n-n'截取的圖14的橫截面圖。
圖16是示出根據(jù)第六實(shí)施例的烤箱的示意結(jié)構(gòu)的示圖。
圖n是根據(jù)第六實(shí)施例的覆蓋構(gòu)件的立體圖。 圖is是沿線in-m'截取的圖17的橫截面圖。
圖19是根據(jù)第七實(shí)施例的覆蓋構(gòu)件的示圖。
圖20是根據(jù)第八實(shí)施例的烤箱的示意性立體圖。
圖21是沿線IV-IV'截取的圖20的橫截面圖。
圖22是示出根據(jù)第八實(shí)施例的對流組件的結(jié)構(gòu)的示圖。
圖23是示出根據(jù)第八實(shí)施例的烤箱內(nèi)的氣流的示圖。.
圖24是根據(jù)第九實(shí)施例的烤箱的示意性立體圖。
圖25是示出根據(jù)第九實(shí)施例的多個(gè)對流組件之間的幾何關(guān)系的示圖。
圖26是示出根據(jù)第九實(shí)施例的烤箱內(nèi)的氣流的圖。
本發(fā)明的實(shí)施方式
現(xiàn)在詳細(xì)參考在附圖中示出其示例的本公開的實(shí)施例。
圖1是根據(jù)第一實(shí)施例的烤箱的示意性立體圖，圖2是示出根據(jù)第一實(shí)施 例的對流組件的結(jié)構(gòu)的橫截面圖。
參照圖1，根據(jù)第一實(shí)施例的烤箱1包括構(gòu)成其外部的外殼10、設(shè)置在外 殼10內(nèi)用以限定烹飪間的腔室11、用于選擇性地打開或關(guān)閉腔室11的門14、 安裝在腔室11內(nèi)部的食物支承部分20用以將食物放置于其上、用于加熱放置 于食物支承部分20上的食物的多個(gè)加熱器、及設(shè)置在外殼10 —側(cè)上的控制面 板30用以使用戶能控制烤箱。
詳細(xì)地，頂部加熱器16設(shè)置在腔室11的頂部，且底部加熱器18設(shè)置在 腔室11的底部。多個(gè)對流組件100和200設(shè)置在腔室11的后部，以便將被加 熱的氣體排入腔室11。
每個(gè)對流加熱器100和200包括對流風(fēng)扇和電動(dòng)機(jī)，由每個(gè)加熱器加熱的 氣體通過相應(yīng)的風(fēng)扇排入腔室11。艮口，在本實(shí)施例中多重設(shè)置的各個(gè)對流組件100和200將被加熱氣體排入 腔室11。盡管在本實(shí)施例中對流組件100和200的結(jié)構(gòu)相同，但對流組件被分 別安裝在不同的位置，使得氣流是不同的。
以下將描述對流組件100和200的結(jié)構(gòu)，然后將描述對流組件100和200 之間的關(guān)系。
可將對流組件100和200分成左對流組件100和右對流組件200，在下文 中分別將它們稱為第一對流組件100和第二對流組件。
圖2描繪設(shè)置在左側(cè)的第一對流組件100，其同樣適用于設(shè)置在右側(cè)的第 二對流組件200。
參照圖2，根據(jù)第一實(shí)施例的對流組件100包括對流加熱器110、將對流 加熱器110加熱的氣體提供給腔室11的對流風(fēng)扇120、及驅(qū)動(dòng)對流風(fēng)扇120 的電動(dòng)機(jī)130。對流加熱器IIO和對流風(fēng)扇120被覆蓋構(gòu)件140覆蓋。
詳細(xì)地，覆蓋構(gòu)件140固定至腔室11內(nèi)的腔室11的腔室后壁lla。由覆 蓋構(gòu)件140和腔室后壁lla限定的(諸)空間包括設(shè)置于其中的對流加熱器110 和對流風(fēng)扇120。該空間是其中加熱氣體的加熱室。
艮P，對流加熱器110和對流風(fēng)扇120設(shè)置在腔室11中，且對流風(fēng)扇120 耦合到從腔室11的后部穿過并連接到電動(dòng)機(jī)130的軸心132。
覆蓋構(gòu)件140覆蓋對流加熱器110和對流風(fēng)扇120，以便在空間上將后者 與設(shè)置在同一腔室11中的另一個(gè)對流加熱器和對流風(fēng)扇分離。
同樣，因?yàn)楦采w構(gòu)件140空間上分離相應(yīng)的對流加熱器110和對流風(fēng)扇 120，所以每個(gè)對流組件100和200可相互獨(dú)立地操作。g卩， 一個(gè)對流組件的 對流加熱器和對流風(fēng)扇的操作將不會(huì)受到另一個(gè)對流組件的影響。
因?yàn)楦采w構(gòu)件140固定到腔室11的內(nèi)部，所以它以近似圓柱形狀從腔室 后壁lla向前凸出。
覆蓋構(gòu)件140的前表面限定吸入孔141，氣體通過該孔從腔室11被吸入 由覆蓋構(gòu)件140和腔室后壁lla限定的空間。覆蓋構(gòu)件140的外表面(或側(cè)面) 限定排放由對流加熱器110加熱的氣體的多個(gè)排放孔。當(dāng)排放孔如此形成在覆 蓋構(gòu)件140的側(cè)面時(shí)，通過排放孔排放的氣體向腔室11的兩側(cè)排放。
當(dāng)利用以上配置的烤箱開始烹飪時(shí)，對流組件100和200中的每個(gè)對流加熱器和對流風(fēng)扇操作。然后，腔室11內(nèi)的氣體通過每個(gè)吸入孔被吸入(諸) 空間。流入空間的氣體被對流加熱器加熱，且通過排放孔排回到腔室中，食物 通過排放的氣體烹飪。
下面，將詳細(xì)描述相應(yīng)的對流組件100和200之間的關(guān)系。
圖3是示出根據(jù)第一實(shí)施例的多個(gè)對流組件之間的幾何關(guān)系的示圖。
參照圖3，如上所述，多個(gè)對流風(fēng)扇(或?qū)α鹘M件)設(shè)置在腔室11的后
側(cè)，且在本實(shí)施例中，示例性提供一對?；趦蓚€(gè)幾何考慮來確定該對對流風(fēng)
扇中的每一個(gè)的位置，以便均勻地循環(huán)腔室ll內(nèi)被加熱的氣體。 具體地，該對對流風(fēng)扇包括左對流風(fēng)扇120和右對流風(fēng)扇220。 對流風(fēng)扇120和220設(shè)置在不同的高度。即，當(dāng)從前側(cè)觀察時(shí)，左對流風(fēng)
扇120的軸心的位置高于右對流風(fēng)扇220的軸心。在本實(shí)施例中，左對流風(fēng)扇
120的軸心可設(shè)置成高于右對流風(fēng)扇220的軸心，或者反之亦然。
艮P，對流風(fēng)扇120和220的軸心之間的假想第一線A的距離大于第一線A
的水平投影或(在從上向下觀察時(shí))連接軸心的第二線B的距離。
當(dāng)對流風(fēng)扇120和220的軸心如此設(shè)置在分別不同的高度時(shí)，從對流風(fēng)扇
120和220的每一個(gè)排放的氣體能夠擴(kuò)散到腔室11的整個(gè)內(nèi)部。
為了借助于對流風(fēng)扇120和220在腔室11內(nèi)均勻地?cái)U(kuò)散被加熱的氣體，
將對流風(fēng)扇120和220置于腔室的一個(gè)表面以形成近似點(diǎn)對稱。
艮P，當(dāng)腔體后壁lla被分成四個(gè)具有相同圓心角的相等象限時(shí)，左對流風(fēng)
扇120的軸心置于四個(gè)象限之一內(nèi)。這里，如果左對流風(fēng)扇120的軸心置于其
中的象限被稱為第一象限，則從第一象限逆時(shí)針前進(jìn)的象限分別被稱為第二象限、第三象限和第四象限。
右對流風(fēng)扇220的軸心位于與第一象限成對角的第三象限中。
在這里，如果左對流風(fēng)扇120的軸心位于第一象限中且右對流風(fēng)扇220
的軸心位于第二象限中，則將發(fā)生被加熱的氣體集中在腔室11的左部的限制；
且如果右對流風(fēng)扇220的軸心位于第四象限中，則將發(fā)生被加熱的氣體集中在
腔室11的上部的限制。
因此，為了在腔室11內(nèi)均勻地分布被加熱的氣體，右對流風(fēng)扇220的軸
心位于與左對流風(fēng)扇120的軸心所處象限成對角的象限中。當(dāng)考慮以上兩個(gè)因素定位對流風(fēng)扇120和220時(shí)，由對流加熱器110和 210加熱的氣體可均勻地分布在腔室11內(nèi)，從而能夠均勻加熱食物。
圖4是根據(jù)第一實(shí)施例的覆蓋構(gòu)件的立體圖，且圖5是沿線I-I'截取的圖 4的橫截面圖。
圖4和圖5中描繪的覆蓋構(gòu)件可同樣用作圖3的左側(cè)和右側(cè)中描繪的覆蓋 構(gòu)件。
參照圖4和5，覆蓋構(gòu)件140包括前部140a和沿近似垂直方向從前部140a 延伸以形成圓柱形狀的側(cè)部140b。
吸入孔141形成于前部140a的中心以使腔室11內(nèi)的氣體能被吸入空間， 且多個(gè)排放孔形成于側(cè)部140b中以使被對流加熱器110加熱的氣體能夠能被 排放回腔室ll。
詳細(xì)地，排放孔包括形成于覆蓋構(gòu)件140的右上端中的第一排放孔142 和形成于排放部分140的左下端中的第二排放孔143。排放孔142和143相對 于覆蓋構(gòu)件140的中心對稱。
因此，當(dāng)對流風(fēng)扇120旋轉(zhuǎn)時(shí)，被對流加熱器110加熱的氣體穿過覆蓋構(gòu) 件140的右上端和左下端并且進(jìn)入腔室11。
在以下烤箱操作的描述中，應(yīng)記住以上的排放孔的構(gòu)造和每個(gè)對流組件的 位置之間的關(guān)系。
圖6是示出根據(jù)第一實(shí)施例的對流組件排放的氣流的示圖。
參照圖6，當(dāng)用戶在腔室11中存儲(chǔ)食物并按下開始按鈕時(shí)，對流加熱器 110和210中的每一個(gè)都輻射熱，且對流風(fēng)扇120和220中的每一個(gè)都旋轉(zhuǎn)。
然后，腔室11內(nèi)的氣體通過每個(gè)吸入孔141和241被吸入相應(yīng)空間。被 吸入每個(gè)空間的氣體被每個(gè)對流加熱器110.和210加熱，并通過相應(yīng)排放孔被 重新引入腔室ll。
詳細(xì)地，因?yàn)榈诙欧趴?43接近腔室11的左壁，當(dāng)氣體通過左側(cè)覆蓋 構(gòu)件140的第二排放孔143排放時(shí)，它朝向腔室11的左壁排放，并撞擊腔室 ll的左壁，因此大部分氣體由左壁引導(dǎo)在左側(cè)向上流動(dòng)。
同樣，從左側(cè)覆蓋構(gòu)件140的第一排放孔142排放的氣體主要流到腔室 11的右上部。
10因?yàn)榈谝慌欧趴?42接近腔室11的右壁，當(dāng)通過右側(cè)覆蓋構(gòu)件240的第 一排放孔242排放氣體時(shí)，它朝向腔室11的右壁排放，并撞擊腔室11的右壁， 因此大部分氣體沿右壁向右下方引導(dǎo)。
同樣，從右側(cè)覆蓋構(gòu)件240的第二排放孔243排放的氣體流到腔室11的 左下部。
通過以上的實(shí)施例，由對流加熱器110和210加熱的氣體可均勻地分布在 腔室11內(nèi)。
盡管在本實(shí)施例中對流加熱器110和210及對流風(fēng)扇120和220被描述為 在開始烹飪食物時(shí)全部工作，但選擇地，可將相應(yīng)的對流加熱器110和210及 對流風(fēng)扇120和220配置成根據(jù)食物類型和烹飪階段交替地工作。
艮P，可重復(fù)將左對流組件100加熱的氣體排入腔室11然后將右對流組件 200加熱的氣體排入腔室11的過程。
在這種情形中，被加熱的氣體可交替地集中在腔室11的上部和下部，這 在烹飪周期的整個(gè)持續(xù)時(shí)間方面實(shí)現(xiàn)平均加熱。
圖7是示出根據(jù)第二實(shí)施例的對流組件排放的氣流的示圖。
參照圖7，本實(shí)施例的特征在于對流風(fēng)扇120和220沿相反方向旋轉(zhuǎn)。即， 例如左對流風(fēng)扇120沿順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)，且右對流風(fēng)扇220沿逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。
在這種情形中，通過每個(gè)覆蓋構(gòu)件的第一排放孔142和242排放的氣體可 均勻地混合使得被加熱的氣體可貫穿腔室11均勻地分布。
圖8是示出根據(jù)第三實(shí)施例的對流組件的結(jié)構(gòu)的橫截面圖。
參照圖8，在本實(shí)施例中，對流加熱器310和對流風(fēng)扇320由從腔室后壁 lla向前凸出的覆蓋部分340覆蓋。對流加熱器310和對流風(fēng)扇320安裝在腔 室11的后部。
同樣，用于保護(hù)對流加熱器310和對流風(fēng)扇320的保護(hù)構(gòu)件350設(shè)置在對 流風(fēng)扇320和對流加熱器310的后部。
詳細(xì)地，保護(hù)構(gòu)件350不僅保護(hù)對流加熱器310和對流風(fēng)扇320,還用于 固定對流加熱器310和對流風(fēng)扇320的位置。
同樣，用于耦合保護(hù)構(gòu)件350的中間構(gòu)件360進(jìn)一步設(shè)置在腔室后壁lla 和保護(hù)構(gòu)件350之間。在這里，可將中間構(gòu)件360焊接到腔體后壁lla，或者可將保護(hù)構(gòu)件350 用螺絲固定到中間構(gòu)件360。在這里，除焊接外，還可使用各種其它方法將中 間構(gòu)件360耦合到腔室11。
在本實(shí)施例中，除從使用多個(gè)對流組件得到的優(yōu)點(diǎn)外，通過將腔室ll和 覆蓋部分340形成一體，可實(shí)現(xiàn)腔室內(nèi)表面更清潔的修整。同樣，可防止在將 覆蓋構(gòu)件固定到腔室11的前表面時(shí)在覆蓋構(gòu)件和腔室的耦合部分形成的間隙 中的雜質(zhì)滲透。
圖9是根據(jù)第四實(shí)施例的烤箱的示意性立體圖，圖10是示出根據(jù)第四實(shí) 施例的對流組件的結(jié)構(gòu)的正視圖，且圖11是示出根據(jù)第四實(shí)施例的對流組件 的結(jié)構(gòu)的橫截面圖。
除對流組件和覆蓋構(gòu)件的位置外，本實(shí)施例在所有其它方面與第一實(shí)施例 相同。即，多個(gè)對流組件的相應(yīng)位置與第一實(shí)施例相同。因此，以下描述將僅 處理本實(shí)施例的特性方面，且應(yīng)認(rèn)為本實(shí)施例描述了與第一實(shí)施例相同的方 面。
參照圖9和11，根據(jù)本實(shí)施例的多個(gè)對流組件400和450置于腔室40的 后部。吸入孔41和44及排放孔42、 43、 45和46形成于腔室40的后壁40a 中以使氣體能借助于每個(gè)對流組件400和450流動(dòng)。
詳細(xì)地，多個(gè)對流組件400和450包括第一對流組件400和第二對流組件
450。
第一對流組件400包括第一對流加熱器410、第二對流風(fēng)扇和固定到腔室 40的外部的第一覆蓋構(gòu)件440。第二對流組件450包括第二對流加熱器460、 第二對流風(fēng)扇470和固定到腔室40的外部的第二覆蓋構(gòu)件480。
下面，將參考圖9描述第一對流組件400的結(jié)構(gòu)。然而，將從(第一)對 流組件400的描述中省略"第一"。
詳細(xì)地，覆蓋構(gòu)件440固定至腔室40后部的腔室40的后壁40a。因此， 作為氣體在其中被加熱的空間的加熱室442由腔室40的后壁40a和覆蓋構(gòu)件 440限定。
同樣，對流加熱器410和對流風(fēng)扇420置于加熱室442中。
艮P，對流加熱器410和對流風(fēng)扇420置于腔室40的外部，且對流風(fēng)扇420
12通過從覆蓋構(gòu)件440的后部穿過的軸心432耦合到電動(dòng)機(jī)430。
吸入孔41形成于蓋子的后壁40a中，通過該孔從烹飪室吸入氣體，且上 部和下部排放孔42和43形成在吸入孔41的上部和下部，從而將加熱室442 中加熱的氣體排放到烹飪室中。
因此，烹飪室和加熱室通過吸入孔和排放孔連通，且在加熱室內(nèi)加熱的氣 體可在烹飪室和加熱室內(nèi)循環(huán)。
圖12是示出根據(jù)第四實(shí)施例的烤箱內(nèi)的氣流的示圖。
參照圖9至12，腔室后壁lla限定用于將氣體吸入每個(gè)加熱室的吸入孔 和用于將每個(gè)加熱室中加熱的氣體排放到烹飪室內(nèi)的排放孔。
詳細(xì)地，吸入孔包括通過它將氣體吸入第一加熱室442的第一吸入孔41 和通過它將氣體吸入第二加熱室'482的第二吸入孔45。在這里，對流風(fēng)扇420 和470的安裝高度是不同的，因此，相應(yīng)的吸入孔41和45的位置是顯著不同 的。
排放孔包括 形成于第一吸入孔41之上的第一排放孔42、形成于第一吸入 孔41之下的第二排放孔43、形成于第二吸入孔45之上的第三排放孔46、和 形成于第二吸入孔45之下的第四排放孔47。
第一排放孔42和第二排放孔43關(guān)于第一對流風(fēng)扇420的軸心點(diǎn)對稱地設(shè) 置，且第三排放孔46和第四排放孔47關(guān)于第二對流風(fēng)扇470的軸心點(diǎn)對稱地 設(shè)置。
第一排放孔42的位置高于第三排放孔46的位置，且第二排放孔43的位 置高于第四排放孔47的位置。
在下文中，將描述烤箱的操作。
當(dāng)用戶將食物放置在腔室40內(nèi)并按下開始按鈕時(shí)，每個(gè)對流加熱器410 和460輻射熱，且每個(gè)對流風(fēng)扇420和470旋轉(zhuǎn)。
然后，腔室40內(nèi)的氣體通過每個(gè)吸入孔41和46被吸入相應(yīng)的加熱室442 和482。被吸入相應(yīng)的加熱室442和482中的氣體在每個(gè)加熱室410和460中 被加熱，且通過排放孔42、 43、 46和47被重新引入腔室40。
當(dāng)氣體如此通過相應(yīng)的對流組件循環(huán)時(shí)，在烹飪室內(nèi)形成分層氣流。
艮P，分層氣流包括上層氣流51和下層氣流55。上層氣流51包括第一環(huán)路51和第二環(huán)路53，且下層氣流55包括第三環(huán)路56和第四環(huán)路57。
更詳細(xì)地，第一環(huán)路52由通過第一排放孔42排入腔室40、沿腔室40的 頂部流動(dòng)并撞擊門14、并且改變方向以通過第一吸入孔41流入第一加熱室442 的氣體形成。
第二環(huán)路53由通過第三排放孔45排入腔室40、沿腔室40的頂部流動(dòng)并 撞擊門14、并且改變方向以通過第二吸入孔46流入第二加熱室482的氣體形 成。
第三環(huán)路62由通過第二排放孔43排入腔室40、沿腔室40的底部流動(dòng)并 撞擊門14、并且改變方向以通過第一吸入孔41流入第一加熱室442的氣體形 成。
第四環(huán)路57由通過第四排放孔47排入腔室40、沿腔室40的底部流動(dòng)并 撞擊門14、并且改變方向以通過第二吸入孔45流入第二加熱室482的氣體形 成。
在這里，通過第一排放孔42和第三排放孔46之間的位置差異以及第一吸 入孔41和第二吸入孔46之間的位置差異分別給予第一環(huán)路52和第二環(huán)路53 不同的氣流流譜。
通過第二排放孔43和第四排放孔47之間的位置差異以及第一吸入孔41 和第二吸入孔46之間的位置差異分別給予第三環(huán)路56和第四環(huán)路57不同的 氣流流譜。
艮P，在本實(shí)施例中，可以說每個(gè)環(huán)路具有不同的氣流流譜，且這些分別不 同的氣流流譜形成分層氣流。結(jié)果，在烹飪室內(nèi)具有分別不同流譜的分層氣流 使烹飪室內(nèi)的氣體能均勻地分布于其中。
類似地，在本實(shí)施例中，由每個(gè)對流加熱器410和460加熱的氣體可均勻 地排放到腔室40中。
圖13是根據(jù)第五實(shí)施例的烤箱的示意圖，圖14是根據(jù)第五實(shí)施例的覆蓋 構(gòu)件的立體圖，且圖15是沿線II-II'截取的圖14的橫截面圖。
除覆蓋構(gòu)件的形成外，本實(shí)施例在所有方面與第一實(shí)施例相同。即，將僅 描述表征本實(shí)施例的差異的描述，且將省略與第一實(shí)施例相同的各方面的描 述，并認(rèn)為由第一實(shí)施例進(jìn)行了描述。
14首先，參照圖13，根據(jù)本實(shí)施例的烤箱包括一對對流組件600和650。覆 蓋構(gòu)件610和650耦合到腔室60的后部以分別覆蓋一起形成對流組件的對流 加熱器和對流風(fēng)扇。
參照圖14和15，以下將提供覆蓋構(gòu)件610和650的結(jié)構(gòu)的詳細(xì)描述。在 本實(shí)施例中，同樣地形成該對覆蓋構(gòu)件中的每一個(gè)，因此將僅給出左側(cè)的覆蓋 構(gòu)件610的描述。
覆蓋構(gòu)件610包括方形前部611、從前部611垂直向后延伸的外部及緊固 到腔室60的后壁的緊固部分616。
詳細(xì)地，外部包括從前部611的任一側(cè)延伸的一對側(cè)部612和613、及從 前部611的頂和底延伸的頂部614和底部615。
在這里，側(cè)部612和613相互面對且基本平行。同樣，頂部614和底部 615相互面對且基本平行。
吸入孔621形成于前部611的中心以將氣體從腔室60內(nèi)吸入加熱室620。 在這里，加熱室620是由腔室60和覆蓋構(gòu)件610限定的空間。
排放孔形成于側(cè)部612和613的每一個(gè)中以將由對流加熱器加熱的氣體排 入腔室60的內(nèi)部。
詳細(xì)地，排放孔包括在覆蓋構(gòu)件610的右部612的上端限定的第一排放孔 617和在覆蓋構(gòu)件610的左部613的下端限定的第二排放孔618。
排放孔617和618關(guān)于覆蓋構(gòu)件610的中心點(diǎn)對稱。排放孔617和618 分別以垂直伸長的方式形成。
因此，當(dāng)對流風(fēng)扇旋轉(zhuǎn)時(shí)，被對流加熱器加熱的氣體在覆蓋構(gòu)件610的右 上端和左下端排入腔室60。
在這里，第一排放孔617被限定在覆蓋構(gòu)件610的右上端，且第二排放孔 618被限定在覆蓋構(gòu)件610的左下端，使得由對流加熱器加熱的氣體沿與對流 風(fēng)扇基本相切的方向排放。
同樣，防止在加熱室620內(nèi)的氣流中發(fā)生渦流并使氣體從排放孔617和 618順利地排放的排放導(dǎo)管619形成在覆蓋構(gòu)件610上。
圖16是示出根據(jù)第六實(shí)施例的烤箱的示意結(jié)構(gòu)的示圖，圖17是根據(jù)第六 實(shí)施例的覆蓋構(gòu)件的立體圖，且圖18是沿線ni-III'截取的圖17的橫截面圖。除覆蓋構(gòu)件的結(jié)構(gòu)外，本實(shí)施例在所有方面與第一實(shí)施例相同。即，將僅 描述表征本實(shí)施例的差異的描述，且將省略與第一實(shí)施例相同的各方面的描 述，并認(rèn)為由第一實(shí)施例進(jìn)行了描述。
參照圖16至18，在本實(shí)施例中， 一個(gè)覆蓋構(gòu)件700同時(shí)覆蓋一對對流加
熱器和一對對流風(fēng)扇。
艮口，對流構(gòu)件700包括前部701、從前部701向后垂直延伸的外部702及 從外部702延伸以便緊固到腔室70的緊固部分703。
分隔部分719形成于覆蓋構(gòu)件700上，使得覆蓋構(gòu)件700與腔室70的后 壁結(jié)合限定第一和第二加熱室717和718。每個(gè)加熱室717和718包括對流加 熱器和對流風(fēng)扇。
當(dāng)兩個(gè)加熱室717和718由腔室和覆蓋構(gòu)件700之間的分隔部分719形成 時(shí)，由分別位于加熱室中的對流加熱器加熱的氣體分別借助于各自的對流風(fēng)扇 流動(dòng)。
前部701包括用于將腔室內(nèi)的氣體吸入第一加熱室717的第一吸入孔711 和用于將腔室內(nèi)的氣體吸入第二加熱室718的第二吸入孔712。
排放孔被限定在外部702中以將對流加熱器加熱的氣體排放到腔室70中。
艮P，排放孔包括形成于第一加熱室717的右上端的第一排放孔713、形成 于第一加熱室717的左下端的第二排放孔714、形成于第二加熱室718的右上 端的第三排放孔715、及形成于第二加熱室718的左下端的第四排放孔716。
第一排放孔713和第二排放孔715關(guān)于第一加熱室717的中心點(diǎn)對稱，且 每個(gè)排放孔713和714垂直伸長。
第三排放孔715和第四排放孔716關(guān)于第二加熱室718的中心點(diǎn)對稱，且 每個(gè)排放孔715和716垂直伸長。
當(dāng)整體觀察時(shí)，覆蓋構(gòu)件700具有在其右側(cè)的不同高度形成的兩個(gè)排放孔 713和715、以及在其左側(cè)的不同高度形成的兩個(gè)排放孔714和716。排放孔 713、 714、 715和716分別具有不同高度。
因此，當(dāng)每個(gè)對流加熱器和對流風(fēng)扇工作時(shí)，由相應(yīng)對流加熱器加熱的氣 體在分別不同的高度排放到腔室70中，使得腔室內(nèi)的氣體可均勻地分布。
圖19是根據(jù)第七實(shí)施例的覆蓋構(gòu)件的示圖。除覆蓋構(gòu)件的耦合位置和結(jié)構(gòu)外，本實(shí)施例在所有方面與第六實(shí)施例相 同。因此，將描述表征本實(shí)施例的差別的描述。同樣，烤箱除覆蓋構(gòu)件以外的 結(jié)構(gòu)與圖9所示的第四實(shí)施例相同。
參照圖9至19，覆蓋構(gòu)件760在腔室730的外部耦合到腔室730。 分隔部分764形成于覆蓋構(gòu)件760上以在覆蓋構(gòu)件760和腔室730之間限 定第一和第二加熱室761和762。第一加熱室761中包括第一對流加熱器740 和第一對流風(fēng)扇750，且第二加熱室762中包括第二對流加熱器770和第二對 流風(fēng)扇780。
圖20是根據(jù)第八實(shí)施例的烤箱的示意性立體圖，圖21是沿線IV-IV'截取 的圖20的橫截面圖，且圖22是示出根據(jù)第八實(shí)施例的對流組件的結(jié)構(gòu)的示圖。
除排放孔的位置外，本實(shí)施例在所有方面與第四實(shí)施例相同。因此，將描 述表征本實(shí)施例的差別的描述。
參照圖20，根據(jù)本實(shí)施例的烤箱從腔室80的后部和側(cè)面排放被加熱的氣體。
詳細(xì)地，第一和第二吸入孔81和86及第一至第四排放孔82、 83、 87和 89形成于腔室80的后壁80a中，以使氣體能借助于設(shè)置于腔室80的后部的一 對對流組件800和850流動(dòng)。
由每個(gè)對流加熱器810和860加熱的氣體通過分別限定在腔室80的任一 側(cè)80b和80c中的第一和第二側(cè)面排放孔84和89排放。在這里，第一側(cè)面排 放孔84排放由一個(gè)對流組件800加熱的氣體，而第二側(cè)面排放孔89排放由另 一個(gè)對流組件850加熱的氣體。
更具體地，與使氣體能流到第一側(cè)面排放孔84的左導(dǎo)流管85連通的第一 連通孔844被限定在第一覆蓋構(gòu)件840的左上端中。與使氣體能流到第二側(cè)面 排放孔89的右導(dǎo)流管90連通的第二連通孔884被限定在第二覆蓋構(gòu)件880的 右下部中。
因此，由每個(gè)加熱室842和882吸入并加熱的一部分氣體穿過每個(gè)后部排 放孔82、 83、 87和88從而被排放到腔室80中。另一部分氣體穿過相應(yīng)的連 通孔844和884從而被排放到相應(yīng)的導(dǎo)流管85和90中，其后該部分氣體通過 側(cè)面排放孔84和89被排放到腔室80中。因此，由加熱室842和882吸入并加熱的一部分氣體通過相應(yīng)的后部排放 孔82、 83、 87和88被排放到腔室80中。另一部分氣體分別通過連通孔844 和884被排放到相應(yīng)的導(dǎo)流管85和90中，其后通過相應(yīng)的側(cè)面排放孔84和 89被排放到腔室80中。第一吸入孔81的形成位置高于第二吸入孔86。同樣，第一后部排放孔82 形成于第一吸入孔81之上，且第二后部排放孔83形成于第一吸入孔81之下。第三后部排放孔87形成于第二吸入孔86之上，且第四后部排放孔88形 成于第二吸入孔86之下。第一后部排放孔82的形成位置高于第三后部排放孔87，且第二后部排放 孔83的形成位置低于第四后部排放孔89。第一側(cè)面排放孔85形成于腔室80的左上端中，且第二側(cè)面排放孔89形 成于腔室80的右上端中。第一側(cè)面排放孔85形成在與第一后部排放孔82相 對應(yīng)的位置中，以使由第一對流加熱器810加熱的氣體流動(dòng)的氣流通道最小化。 即，第一側(cè)面排放孔85和第一后部排放孔82形成在同一高度上。同樣，第二側(cè)面排放孔89形成在與第四后部排放孔88相對應(yīng)的位置中， 以使由第二對流加熱器860加熱的氣體流動(dòng)的氣流通道最小化。g卩，第二側(cè)面 排放孔89和第四后部排放孔88形成在同一高度上。圖23是示出根據(jù)第八實(shí)施例的烤箱內(nèi)的氣流的示圖。參照圖20至23，當(dāng)用戶將食物放入腔室80并按下開始按鈕時(shí)，每個(gè)對 流加熱器810和860都生成熱，且每個(gè)對流風(fēng)扇820和870都旋轉(zhuǎn)。然后，腔室80內(nèi)部的氣體通過每個(gè)吸入孔81和86被吸入每個(gè)加熱室842 和882中，由每個(gè)對流加熱器810和860加熱，然后通過每個(gè)后部排放孔82、 83、 87和88及每個(gè)側(cè)面排放孔84和89被排放到腔室80的內(nèi)部。在這里，在通過每個(gè)吸入孔81和86吸入的氣體被加熱之后，該氣體在一 系列的循環(huán)過程中通過后部排放孔82、 83、 87和88被排放到腔室80中以在 腔室80內(nèi)形成分層氣流。在第四實(shí)施例中已經(jīng)描述了分層氣流，因此將不會(huì)再次描述。圖24是根據(jù)第九實(shí)施例的烤箱的示意性立體圖，且圖25是示出根據(jù)第九 實(shí)施例的多個(gè)對流組件之間的幾何關(guān)系的示圖，其中圖25中的左壁和后壁共18享同一表面。除對流組件的位置外，本實(shí)施例在所有方面與第四實(shí)施例相同。因此，將 描述表征本實(shí)施例的差別的描述。.參照圖24和25，在本實(shí)施例中，第一對流組件1100設(shè)置在腔室1000的 后部，且第二對流組件1200設(shè)置在腔室1000的一側(cè)。盡管在本實(shí)施例中將第二對流組件描述為設(shè)置在腔室1000的左側(cè)，但不 限于此，且第二對流組件相反可設(shè)置在腔室1000的右側(cè)。因此，由第一對流組件1100加熱的氣體從腔室的后壁1000a排放，且由 第二對流組件1200加熱的氣體從腔室的側(cè)壁1000b排放。艮P，腔室的后壁1000a包括使氣體能流向第一對流組件的第一吸入孔1001 及第一和第二后部排放孔1002和1003。同樣，例如可在腔室1000的側(cè)壁中形成使氣體能流向第二對流組件1200 的第二吸入孔1011及第一和第二側(cè)面排放孔1012和1013。第一對流組件1100包括第一對流風(fēng)扇1110，且第二對流組件1200包括 第二對流風(fēng)扇1210。第一對流風(fēng)扇1110的軸心和第二對流風(fēng)扇1210的軸心設(shè) 置在不同的高度上。艮P，從腔室1000的底面看，第一對流風(fēng)扇1110的軸心低于第二對流風(fēng)扇 1210的軸心。更詳細(xì)地，第一對流風(fēng)扇1110的軸心設(shè)置在將腔室1000分成兩 等份的假想水平中心線A之下，而第二對流風(fēng)扇的軸心設(shè)置在中心線A之上。第一對流風(fēng)扇1110的軸心被設(shè)置成更接近腔室的右壁1000c。如果第一對流風(fēng)扇1110的軸心被設(shè)置成更接近腔室的左壁1000b，則通 過側(cè)面排放孔1012和1013排放的氣體將立即撞擊通過后部排放孔1002和 1003排放的氣體，從而形成渦流。在這種情形中，盡管并未不合需地形成渦流， 通過側(cè)面排放孔1012和1013排放的氣體實(shí)際上也不能容易地流向腔室的右壁 1000c。艮口，在本實(shí)施例中，第一對流風(fēng)扇1110的軸心被設(shè)置成更接近右壁1000c， 以使從側(cè)面排放孔1012和1013排放的氣體能容易地流向腔室的右壁。 第二吸入孔1011形成得高于第一吸入孔1001。后部排放孔包括形成于第一吸入孔1001之上的第一后部排放孔1002和形19成于第一吸入孔1001之下的第二后部排放孔1003。側(cè)面排放孔包括形成于第二吸入孔1011之上的第一側(cè)面排放孔1012和形成于第二吸入孔1011之下的 第二側(cè)面排放孔1013。第一后部排放孔1002和第二后部排放孔1003相對于第一對流風(fēng)扇1110 的軸心點(diǎn)對稱，且第一側(cè)面排放孔1012和第二側(cè)面排放孔1013相對于第二對 流風(fēng)扇1210點(diǎn)對稱。第一側(cè)面排放孔1012高于第一后部排放孔1002，且第二側(cè)面排放孔1012 高于第二后部排放孔1003。圖26是示出根據(jù)第九實(shí)施例的烤箱內(nèi)的氣流的示圖。參照圖24至26，當(dāng)用戶將食物放入腔室1000并按下開始按鈕時(shí)，每個(gè) 對流加熱器1120和1220都生成熱，且每個(gè)對流風(fēng)扇1110和1210都旋轉(zhuǎn)。然 后，腔室1000內(nèi)的氣體通過相應(yīng)的吸入孔1001和1011被吸入相應(yīng)的加熱室 1130和1230。被吸入加熱室1130和1230的氣體被對流加熱器1120和1220 加熱，然后通過后部排放孔1002和1003及側(cè)面排放孔1012和1013被排放回 腔室1000中。詳細(xì)地，通過第一側(cè)面排放孔1011排放的氣體在其流向腔室的頂部時(shí)撞 擊腔室的右壁1000c，并改變方向且通過第二吸入孔1011被吸入第二加熱室 1230中。通過第一側(cè)面排放孔1002排放的氣體沿腔室的頂部流動(dòng)并撞擊門14，由 此被改變方向從而通過第一吸入孔1001被吸入第一加熱室1130中。通過第二側(cè)面排放孔1013排放的氣體沿腔室的底部流動(dòng)并撞擊腔室的右 壁1000c，由此被改變方向從而通過第二吸入孔1011被吸入第二加熱室1230 中。通過第二后部排放孔1003排放的氣體沿腔室的底部流動(dòng)并撞擊門14，由 此被改變方向從而通過第一吸入孔1001被吸入第一加熱室1130中。在這里，通過側(cè)面排放孔1012和1013排放的氣體流向腔室1000的右壁， 且通過后部排放孔1002和1003排放的氣體流向門14。通過側(cè)面排放孔1012 和1013排放的氣體的流動(dòng)方向和通過后部排放孔1002和1003排放的氣體的 流動(dòng)方向是垂直的。然而，因?yàn)橄鄳?yīng)的側(cè)面排放孔1012和1013形成得高于相應(yīng)的后部排放孔 1002和1003，所以通過側(cè)面排放孔1012和1013排放的氣流和通過后部排放 孔1002和1003排放的氣流在它們改變方向之前實(shí)際上不會(huì)相遇。這些排放孔 的氣流方向僅在它們改變方向之后相遇，從而形成渦流。在這種情形中，通過相應(yīng)的排放孔1002、 1003、 1012和1013排放的氣體 維持其相應(yīng)的流向從而在氣體改變方向之前加熱食物，隨后通過碰撞形成渦 流，.使得它可均勻地烹飪食物。
權(quán)利要求
1.一種烤箱，包括容納食物的腔室；多重設(shè)置的對流組件，每個(gè)對流組件包括加熱食物的加熱器、和將所述加熱器加熱的氣體吹向食物的風(fēng)扇；以及覆蓋所述風(fēng)扇中的至少一個(gè)的至少一個(gè)覆蓋構(gòu)件，其中所述風(fēng)扇具有距離所述腔室的底面有不同高度的相應(yīng)軸心。
2. 如權(quán)利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述覆蓋構(gòu)件同時(shí)覆蓋所述加 熱器和所述風(fēng)扇。
3. 如權(quán)利要求2所述的烤箱，其特征在于，所述覆蓋構(gòu)件和所述腔室限定其中氣體被所述加熱器加熱的加熱室，以及 所述覆蓋構(gòu)件包括將所述加熱室分成多個(gè)加熱室的分隔部分。
4. 如權(quán)利要求3所述的烤箱，其特征在于，所述覆蓋構(gòu)件在其一側(cè)中限定 多個(gè)排放孔。
5. 如權(quán)利要求1所述的烤箱，其特征在于，多重設(shè)置所述覆蓋構(gòu)件，且每 個(gè)覆蓋構(gòu)件覆蓋所述加熱器之一和所述風(fēng)扇之一。
6. 如權(quán)利要求5所述的烤箱，其特征在于， 每個(gè)所述覆蓋構(gòu)件在所述腔室內(nèi)耦合到所述腔室，以及 每個(gè)所述覆蓋構(gòu)件限定吸入孔和排放孔。
7. 如權(quán)利要求5所述的烤箱，其特征在于，每個(gè)所述覆蓋構(gòu)件在所述腔室外部耦合到所述腔室，以及 所述腔室限定吸入孔和排放孔。
8. 如權(quán)利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述風(fēng)扇之一的軸心設(shè)置在將 所述腔室分成相等的上半部和下半部的假想水平中心線之下，而另一個(gè)風(fēng)扇的 軸心設(shè)置在所述假想水平中心線之上。
9. 如權(quán)利要求1所述的烤箱，其特征在于， 所述對流組件之一設(shè)置在所述腔室的后部，以及 所述對流組件中的另一個(gè)設(shè)置在所述腔室的側(cè)面。
10. 如權(quán)利要求1所述的烤箱，其特征在于，由所述風(fēng)扇之一排放的被加 熱的氣體從所述腔室的后部向前流動(dòng)，且由另一個(gè)風(fēng)扇排放的被加熱的氣體從 所述腔室的一側(cè)流向所述腔室的另 一側(cè)。
11. 一種烤箱，包括 限定烹飪間的腔室； 在所述腔室外側(cè)的多個(gè)加熱器；將每個(gè)加熱器加熱的氣體吹向所述腔室的多個(gè)風(fēng)扇； 在所述腔室中限定的多個(gè)吸入孔，使氣體能流向所述加熱器；以及 靠近每個(gè)吸入孔限定的多個(gè)排放孔，以將由所述加熱器加熱的氣體排放到 所述腔室，其中所述吸入孔被限定在分別不同的高度。
12. 如權(quán)利要求11所述的烤箱，其特征在于，所述排放孔被限定在分別不 同的高度。
13. 如權(quán)利要求11所述的烤箱，其特征在于，還包括同時(shí)覆蓋所述加熱器 和所述風(fēng)扇的覆蓋構(gòu)件。
14. 如權(quán)利要求11所述的烤箱，其特征在于，還包括多個(gè)覆蓋構(gòu)件，每個(gè) 所述覆蓋構(gòu)件覆蓋一個(gè)加熱器和一個(gè)風(fēng)扇。
15. 如權(quán)利要求11所述的烤箱，其特征在于，所述吸入孔包括 限定在所述腔室的后壁中的第一吸入孔，以及 限定在所述腔室的側(cè)壁中的第二吸入孔。
16. 如權(quán)利要求11所述的烤箱，其特征在于，所述加熱器包括設(shè)置在所述腔室的后部的第一加熱器；以及 設(shè)置在所述腔室的側(cè)面的第二加熱器。
17. 如權(quán)利要求11所述的烤箱，其特征在于， 所述吸入孔限定在所述腔室的后壁中，以及 所述排放孔中的至少一個(gè)限定在所述腔室的側(cè)壁中。
18. —種烤箱，包括 限定烹飪間的腔室；所述腔室內(nèi)的多個(gè)加熱器和多個(gè)風(fēng)扇；以及耦合到所述腔室的內(nèi)側(cè)且覆蓋所述加熱器中的至少一個(gè)和風(fēng)扇之一的至 少一個(gè)覆蓋構(gòu)件，其中所述覆蓋構(gòu)件限定至少一個(gè)吸入孔和至少一個(gè)排放孔。
19. 如權(quán)利要求18所述的烤箱，其特征在于，所述覆蓋構(gòu)件同時(shí)覆蓋所述 加熱器和所述風(fēng)扇。
20. 如權(quán)利要求19所述的烤箱，其特征在于，所述覆蓋構(gòu)件和所述腔室一起限定其中氣體被所述加熱器加熱的加熱室，以及所述覆蓋構(gòu)件包括將所述加熱室分成多個(gè)加熱室的分隔部分。
21. 如權(quán)利要求20所述的烤箱，其特征在于，所述覆蓋構(gòu)件限定多個(gè)吸入孔。
22. 如權(quán)利要求18所述的烤箱，其特征在于，所述風(fēng)扇具有分別距離所述 腔室的底面有不同高度的相應(yīng)軸心。
23. 如權(quán)利要求18所述的烤箱，其特征在于，多重設(shè)置所述覆蓋構(gòu)件，且 每個(gè)覆蓋構(gòu)件覆蓋所述加熱器之一和所述風(fēng)扇之一。
24. 如權(quán)利要求23所述的烤箱，其特征在于，每個(gè)覆蓋構(gòu)件限定吸入孔之 一和多個(gè)排放孔。
全文摘要
本實(shí)施例提供一種烤箱。該烤箱包括容納食物的腔室；多重設(shè)置的對流組件，每個(gè)對流組件包括加熱食物的加熱器、和將加熱器加熱的氣體吹向食物的風(fēng)扇；以及覆蓋風(fēng)扇中的至少一個(gè)的至少一個(gè)覆蓋構(gòu)件，其中風(fēng)扇具有距離腔室的底面有不同高度的相應(yīng)軸心。
文檔編號(hào)F24C7/04GK101583826SQ200780050032
公開日2009年11月18日 申請日期2007年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月17日
發(fā)明者李守哲, 鄭義碩 申請人:Lg電子株式會(huì)社