專利名稱：清潔裝置及采用該清潔裝置的清潔方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于清潔工件的清潔裝置及采用該清潔裝置的清潔方法。
背景技術：
目前對于需要封裝的工件，如攝像模組，在封裝前需要對其進行清洗。一般采用清洗機噴射清洗液在攝像模組上，清除灰塵或者其他臟污，避免其影響攝像模組的性能。但是，經常會有清洗液殘留在工件上，影響產品的品質。

發(fā)明內容
鑒于上述內容，有必要提供一種清潔效果較佳的清潔裝置及其清潔方法。一種清潔裝置，用于清潔工件。清潔裝置包括清洗模組與承載工件并帶動工件轉動的旋轉臺。清洗模組噴出清洗液及氣體以清洗工件。一種工件的清潔方法，其包括如下步驟提供一種清潔裝置，該清潔裝置包括可噴出清潔液及氣體的清洗模組及承載該工件的旋轉臺；將工件置于旋轉臺上，旋轉臺帶動該工件旋轉，清洗模組噴出清潔液清洗工件；清洗模組噴出氣體進一步清潔工件并吹干工件。上述清潔裝置可以將工件在旋轉狀態(tài)下，先用清洗液清洗后，再利用氣體再次清潔并吹去殘留的清洗液，防止殘留的清洗液影響工件的品質，提高清潔效果。


圖1是本發(fā)明的清潔裝置的結構的示意圖。圖2是本發(fā)明清潔方法的流程圖。主要元件符號說明
權利要求
1.一種清潔裝置，用于清潔工件，該清潔裝置包括清洗模組，其特征在于該清潔裝置還包括承載工件并帶動工件轉動的旋轉臺，該清洗模組用于噴出清洗液及氣體以清洗工件。
2.如權利要求1所述的清潔裝置，其特征在于該清潔裝置還包括將工件輸送到旋轉臺上的輸料結構及將工件從旋轉臺上輸出的出料結構。
3.如權利要求2所述的清潔裝置，其特征在于該清潔裝置還包括設置在旋轉臺上、將工件輸送至出料機構的傳送機構。
4.如權利要求3所述的清潔裝置，其特征在于該輸料機構、傳送機構及出料機構均為導軌機構。
5.如權利要求2所述的清潔裝置，其特征在于該清潔裝置還包括罩設在該旋轉臺上的保護罩，該保護罩包括罩體、進料門及出料門，該罩體對應輸料機構開設有入料口，并對應出料機構開設有出料口，該進料門活動設置在該入料口上，以開閉該入料口，該出料門活動設置在該出料口上，以開閉該出料口。
6.如權利要求1所述的清潔裝置，其特征在于該清洗模組為液/氣復合清洗模組。
7.一種工件的清潔方法，其包括如下步驟提供一種清潔裝置，該清潔裝置包括可噴出清潔液及氣體的清洗模組及承載該工件的旋轉臺；將該工件置于該旋轉臺上，該旋轉臺帶動該工件旋轉，該清洗模組噴出清潔液清洗工件；該清洗模組噴出氣體進一步清潔該工件并吹干工件。
8.如權利要求7所述的清潔方法，其特征在于該清潔裝置還包括輸料機構，該清潔方法還包括通過該輸料機構將該工件輸送到該旋轉臺上的步驟。
9.如權利要求7所述的清潔方法，其特征在于該清潔裝置還包括出料機構，該清潔方法還包括通過該輸料機構將氣體清潔后的工件輸出的步驟。
10.如權利要求9所述的清潔方法，其特征在于該清潔裝置還包括傳送機構，該清潔方法還包括通過該傳送機構將氣體清潔后的工件傳送到該出料機構上的步驟。
全文摘要
一種清潔裝置，用于清潔工件。該清潔裝置包括清潔模組及承載工件并帶動工件轉動的旋轉臺。該清潔裝置用于噴出清洗液及氣體以清潔工件。上述清潔裝置可以將工件在旋轉狀態(tài)下，先用清洗液清洗后，再利用氣體再次清潔并吹去殘留的清洗液，防止殘留的清洗液影響工件的品質，提高清潔效果。本發(fā)明還提供了采用上述清潔裝置的清潔方法。
文檔編號F26B5/00GK102371255SQ20101025659
公開日2012年3月14日 申請日期2010年8月18日 優(yōu)先權日2010年8月18日
發(fā)明者鄧明育 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司