專利名稱：一種防電磁輻射的電磁爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電磁爐，特別涉及一種防電磁輻射的電磁爐。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中電磁爐為了達(dá)到降低輻射的技術(shù)效果，通常采用的方法有在電磁爐 的外殼和電磁爐線圈托盤的外表面覆設(shè)磁屏蔽層、或是在電磁線盤外圍安裝一個(gè)可降低輻 射的金屬環(huán)等方式。但采用涂層方式漏磁吸收有限，防磁輻射效果不是很理想，而采用金屬 環(huán)雖然能有效降低電磁輻射，但對(duì)于電磁爐的熱效率卻有影響。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種防電磁輻射的電磁爐，其可實(shí)現(xiàn)防電磁輻射的同 時(shí)又提升了電磁爐的熱效率。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型為一種防電磁輻射的電磁爐，包括電磁線盤和線 盤支架，所述電磁線盤外側(cè)設(shè)置有降低電磁輻射的金屬環(huán)，其中金屬環(huán)為圓周呈凸凹過渡 的波狀環(huán)。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型中金屬環(huán)為波狀環(huán)，且呈正弦波、三角波、方波或花 瓣形的連續(xù)或斷續(xù)波狀，該金屬環(huán)通過形狀的改變以增大整體的周長，從而達(dá)到提升電磁 爐熱效率的效果。在實(shí)際測試中，周長較長的比周長短的金屬環(huán)對(duì)電磁爐熱效率影響可減 少至少0. 2% -0. 3%，同時(shí)，防磁輻射的效果卻并未受到影響，甚至更好。本實(shí)用新型防電磁輻射的電磁爐還包括將金屬環(huán)固持于線盤支架的扣持裝置，該 扣持裝置由設(shè)于金屬環(huán)內(nèi)徑或外徑的可彎折的扣持片、以及線盤支架上開設(shè)的收容扣持片 的配合孔構(gòu)成，前述扣持裝置不僅結(jié)構(gòu)簡單、使得金屬環(huán)的安裝方便，且可實(shí)現(xiàn)使金屬環(huán)與 線盤支架的緊密固持。

圖1為本實(shí)用新型防電磁輻射的電磁爐中電磁線盤、線盤支架及金屬環(huán)的立體 圖。圖2為本實(shí)用新型安裝了金屬環(huán)及電磁線盤的線盤支架的正視圖。圖3為本實(shí)用新型中方波狀的金屬環(huán)的立體圖。圖4為本實(shí)用新型中花瓣形的斷續(xù)波狀的金屬環(huán)的立體圖。圖5為圖2所示安裝了金屬環(huán)及電磁線盤的線盤支架的剖視圖。圖6為本實(shí)用新型第二實(shí)施例中安裝了金屬環(huán)及電磁線盤的線盤支架的剖視圖。主要元件標(biāo)號(hào)線盤支架 1 電磁線盤3配合孔 11 限位裝置 12固定柱 13 固定帽 131[0017]金屬環(huán) 4 扣持片 41通孔4具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案。如圖1所示，本實(shí)用新型一種防電磁輻射的電磁爐(未標(biāo)號(hào))包括電磁線盤3、支 撐電磁線盤3的線盤支架1、以及環(huán)設(shè)于線盤支架1外側(cè)的金屬環(huán)4。線盤支架1對(duì)應(yīng)金屬環(huán)4設(shè)置有環(huán)狀限位裝置12，前述金屬環(huán)4抵靠于限位裝置 12安裝。如圖1-4所示，金屬環(huán)4的材料為純鋁、合金鋁或其他低導(dǎo)磁性金屬制成，其可呈 正弦波狀(圖1-2所示)、方波狀(圖3所示)、三角波(未所示)、或花瓣形的連續(xù)或斷續(xù) 波狀(圖4所示)、及其它不規(guī)則波狀。金屬環(huán)4內(nèi)徑與外徑間的距離為0. 5-1. 2mm，且內(nèi) 徑距離線圈3的最小間距大于1mm。因?yàn)榻饘侪h(huán)4具有吸收磁輻射的作用，當(dāng)金屬環(huán)4距離 電磁線盤3越近且金屬環(huán)4截面積越大對(duì)于吸收磁輻射的效果越佳，但同時(shí)對(duì)于電磁爐熱 效率的影響也越大，距離與面積兩者是相互影響的關(guān)系。在經(jīng)過理論計(jì)算和實(shí)際測試所得， 波狀金屬環(huán)4的周長等同于將等截面的金屬環(huán)的半徑加大，相當(dāng)于將金屬環(huán)4與電磁線盤3 的間距加大，減少了對(duì)電磁爐熱效率的損失，在驗(yàn)證測試中，周長較長的比周長短的金屬環(huán) 4對(duì)電磁爐熱效率影響可減少至少0. 2% -0. 3%，同時(shí)降低磁輻射的效果并未受到影響。如圖5所示，防電磁輻射的電磁爐還包括將金屬環(huán)4固持于線盤支架1的扣持裝 置，扣持裝置由自金屬環(huán)4內(nèi)徑面上凸伸出的扣持片41、以及線盤支架1開設(shè)的配合孔11 構(gòu)成。前述扣持片41穿出配合孔11且彎折扣持于線盤支架1的下表面上。如圖6所示為扣持裝置的第二實(shí)施例，扣持裝置由設(shè)置于金屬環(huán)4的通孔42、以 及自線盤支架1凸伸且固持于通孔42中的固定柱13構(gòu)成。固定柱13由一加熱設(shè)備(未 圖示)將凸露出金屬環(huán)4的上面部分軟化并加壓形成螺絲帽狀的固定帽131，該固定帽131 卡扣于金屬環(huán)4的上表面，以將金屬環(huán)4緊密的固持于線盤支架1。根據(jù)本實(shí)用新型的原理，對(duì)方案中金屬環(huán)4的形狀做變化以改善電磁爐的加熱效 果，均應(yīng)落在本實(shí)用新型的權(quán)利要求所要求的范圍。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，以上的實(shí)施例僅是用來說 明本實(shí)用新型，而并非用作為對(duì)本實(shí)用新型的限定，只要在本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)精神范圍內(nèi)， 對(duì)以上所述實(shí)施例的變化、變型都將落在本實(shí)用新型的權(quán)利要求書范圍內(nèi)。
權(quán)利要求一種防電磁輻射的電磁爐，包括電磁線盤和線盤支架，所述電磁線盤外側(cè)設(shè)置有降低電磁輻射的金屬環(huán)，其特征在于所述金屬環(huán)為圓周呈凸凹過渡的波狀環(huán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防電磁輻射的電磁爐，其特征在于所述波狀環(huán)呈正弦 波、三角波、方波或花瓣形的連續(xù)或斷續(xù)波狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的一種防電磁輻射的電磁爐，其特征在于所述金屬 環(huán)內(nèi)徑與外徑間的距離為0. 5-1. 2mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-2任一項(xiàng)所述的一種防電磁輻射的電磁爐，其特征在于所述防電 磁輻射的電磁爐還包括將金屬環(huán)固持于線盤支架的扣持裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種防電磁輻射的電磁爐，其特征在于所述扣持裝置為設(shè) 于金屬環(huán)內(nèi)徑或外徑的可彎折的扣持片、以及線盤支架開設(shè)的收容扣持片的配合孔構(gòu)成。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種防電磁輻射的電磁爐，其特征在于所述扣持裝置為設(shè) 置于金屬環(huán)的通孔、以及自線盤支架凸伸且固持于金屬環(huán)通孔中的固定柱構(gòu)成。
7.根根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種防電磁輻射的電磁爐，其特征在于所述固定柱包括 螺絲帽狀的固定帽。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種防電磁輻射的電磁爐，包括電磁線盤和線盤支架，所述電磁線盤外側(cè)設(shè)置有降低電磁輻射的金屬環(huán)，其中金屬環(huán)為圓周呈凸凹過渡的波狀環(huán)，用以增大金屬環(huán)整體的周長，從而達(dá)到提升電磁爐熱效率的效果。
文檔編號(hào)F24C7/00GK201628269SQ20102001511
公開日2010年11月10日 申請日期2010年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月13日
發(fā)明者喬中義, 朱澤春, 許立特 申請人:九陽股份有限公司