加熱烹調(diào)器的制造方法
【專利摘要】在加熱烹調(diào)器中，具有：殼體，其在內(nèi)側(cè)形成有前面被開口的加熱室；烹調(diào)盤支撐部，其被設(shè)置于加熱室的彼此面對的內(nèi)壁面上，在上下方向的多層的支撐位置處支撐烹調(diào)盤的兩端；蒸汽產(chǎn)生部，其產(chǎn)生蒸汽；以及蒸汽噴出部，其具有設(shè)置于加熱室的內(nèi)壁面上的一個排出口、和將蒸汽產(chǎn)生部產(chǎn)生的蒸汽引導(dǎo)至排出口的蒸汽通道，經(jīng)由排出口向加熱室內(nèi)噴出蒸汽。一個排出口被設(shè)置于與如下空間相面對的一個內(nèi)壁面上，所述空間是被支撐在烹調(diào)盤支撐部的最上層的支撐位置處的烹調(diào)盤與加熱室的頂面之間的空間。由此，能夠在加熱室內(nèi)以短時間得到烹調(diào)所要求的蒸汽濃度的烹調(diào)區(qū)域。
【專利說明】加熱烹調(diào)器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及具有蒸汽產(chǎn)生部的加熱烹調(diào)器，該蒸汽產(chǎn)生部產(chǎn)生提供到加熱室內(nèi)的蒸汽。

【背景技術(shù)】
[0002]以往公知有如下的加熱烹調(diào)裝置:向在加熱室內(nèi)循環(huán)的高溫氣流供給飽和水蒸汽，利用了食品表面的水蒸汽的冷凝傳熱作用帶來的加熱的高速性、和抑制維生素、礦物質(zhì)以及美味成分等的流出的優(yōu)點(參照專利文獻I等)。
[0003]這里，圖7的㈧示出了以往的加熱烹調(diào)裝置100的主視圖，圖7的⑶示出了從側(cè)方展示以往的加熱烹調(diào)裝置100的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的剖視圖。如圖7的(A)、(B)所示，該以往的加熱烹調(diào)裝置100在加熱室101的左內(nèi)壁面和右內(nèi)壁面上形成有沿前后方向延伸的上導(dǎo)軌102。在各個上導(dǎo)軌102上可拆裝地載置上烹調(diào)盤103。在加熱室101的左內(nèi)壁面和右內(nèi)壁面上形成有沿前后方向延伸的下導(dǎo)軌104。在各個下導(dǎo)軌104上可拆裝地載置下烹調(diào)盤 105。
[0004]在加熱室101的后表面形成有上排出口 106和下排出口 107。此外，在加熱室101的后表面形成有吸入口 108。由吸入口 108吸入加熱室101內(nèi)的空氣，在所吸入的空氣被加熱器加熱后，加熱后的空氣經(jīng)由上排出口 106和下排出口 107被排出到加熱室101。
[0005]在加熱室101的左內(nèi)壁面的上導(dǎo)軌102與下導(dǎo)軌104之間固定有蒸汽引導(dǎo)裝置109，在蒸汽引導(dǎo)裝置109上形成有多個引導(dǎo)部110。這些引導(dǎo)部110與未圖示的蒸汽生成單元的蒸汽口連接，具有在左右方向上水平延伸的圓筒狀。引導(dǎo)部110引導(dǎo)從蒸汽生成單元的蒸汽口供給的蒸汽的流通方向。從蒸汽口供給的蒸汽沿著引導(dǎo)部110的內(nèi)周面被引導(dǎo)，以在上導(dǎo)軌102與下導(dǎo)軌104之間的高度范圍內(nèi)在水平方向上筆直流過的方式，被供給到加熱室101內(nèi)。
[0006]現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0007]專利文獻
[0008]專利文獻1:日本特開2007-3090號公報


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]發(fā)明所要解決的課題
[0010]在具有這樣的結(jié)構(gòu)的以往的加熱烹調(diào)裝置100中，在上導(dǎo)軌102與下導(dǎo)軌104之間設(shè)置有蒸汽引導(dǎo)裝置109。因此，從蒸汽引導(dǎo)裝置109的引導(dǎo)部110被吹出到加熱室101內(nèi)的蒸汽的一部分朝上導(dǎo)軌102所支撐的上烹調(diào)盤103的上方流出。其結(jié)果，上烹調(diào)盤103的下表面與下烹調(diào)盤105的上表面之間的空間內(nèi)的蒸汽濃度容易降低。為了使該空間成為期望的蒸汽濃度，需要耗費與蒸汽朝上方流出相應(yīng)的時間。此外，為了在短時間內(nèi)使得下烹調(diào)盤105上方的這樣的空間成為期望的蒸汽濃度，需要增大蒸汽生成單元的功耗。此外，蒸汽引導(dǎo)裝置109由形成為圓筒狀的多個引導(dǎo)部110構(gòu)成，因此部件個數(shù)、組裝工時增加，從而產(chǎn)品成本增大。
[0011]本發(fā)明是鑒于上述狀況而完成的，其目的在于提供一種能夠在抑制產(chǎn)品成本增大和功耗增大的同時，在加熱室內(nèi)以短時間得到烹調(diào)所要求的蒸汽濃度的烹調(diào)區(qū)域的加熱烹調(diào)器。
[0012]用于解決課題的手段
[0013]本發(fā)明的加熱烹調(diào)器具有:殼體，其在內(nèi)側(cè)形成有前面被開口的加熱室；烹調(diào)盤支撐部，其被設(shè)置于加熱室的彼此面對的內(nèi)壁面上，在上下方向的多層的支撐位置處支撐烹調(diào)盤的兩端；蒸汽產(chǎn)生部，其產(chǎn)生蒸汽；以及蒸汽噴出部，其具有設(shè)置于加熱室的內(nèi)壁面上的一個排出口、和將蒸汽產(chǎn)生部產(chǎn)生的蒸汽引導(dǎo)至排出口的蒸汽通道，經(jīng)由排出口向加熱室內(nèi)噴出蒸汽，一個排出口被設(shè)置于與如下空間相面對的一個內(nèi)壁面上，所述空間是被支撐在烹調(diào)盤支撐部的最上層的支撐位置處的烹調(diào)盤與加熱室的頂面之間的空間。
[0014]發(fā)明效果
[0015]根據(jù)本發(fā)明的加熱烹調(diào)器，能夠在抑制產(chǎn)品成本增大和功耗增大的同時，在加熱室內(nèi)以短時間得到烹調(diào)所要求的蒸汽濃度的烹調(diào)區(qū)域。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1是表示本發(fā)明的一個實施方式的加熱烹調(diào)器的門被打開后的狀態(tài)的立體圖。
[0017]圖2是圖1的本實施方式的加熱烹調(diào)器的拆掉外箱而從蒸汽產(chǎn)生部側(cè)觀察到的立體圖。
[0018]圖3是圖2的本實施方式的加熱烹調(diào)器的打開門后的狀態(tài)的立體圖。
[0019]圖4是圖3的本實施方式的加熱烹調(diào)器中的蒸汽產(chǎn)生部的放大圖。
[0020]圖5是圖1的本實施方式的加熱烹調(diào)器中的蒸汽噴出部的放大圖。
[0021]圖6是本實施方式的加熱烹調(diào)器中的烹調(diào)盤被安裝到了中層位置的狀態(tài)的立體圖。
[0022]圖7的㈧是以往的加熱烹調(diào)裝置的主視圖，圖7的(B)是從側(cè)方示出以往的加熱烹調(diào)裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的剖視圖。

【具體實施方式】
[0023]第I發(fā)明的加熱烹調(diào)器具有:殼體，其在內(nèi)側(cè)形成有前面被開口的加熱室；烹調(diào)盤支撐部，其被設(shè)置于加熱室的彼此面對的內(nèi)壁面上，在上下方向的多層的支撐位置處支撐烹調(diào)盤的兩端；蒸汽產(chǎn)生部，其產(chǎn)生蒸汽；以及蒸汽噴出部，其具有設(shè)置于加熱室的內(nèi)壁面上的一個排出口、和將蒸汽產(chǎn)生部產(chǎn)生的蒸汽引導(dǎo)至排出口的蒸汽通道，經(jīng)由排出口向加熱室內(nèi)噴出蒸汽，一個排出口被設(shè)置于與如下空間相面對的一個內(nèi)壁面上，所述空間是被支撐在烹調(diào)盤支撐部的最上層的支撐位置處的烹調(diào)盤與加熱室的頂面之間的空間。
[0024]通過設(shè)為這樣的結(jié)構(gòu)，能夠經(jīng)由蒸汽噴出部的排出口，對被支撐于烹調(diào)盤支撐部的最上層的支撐位置處的烹調(diào)盤與加熱室的頂面之間的空間供給蒸汽，所供給的蒸汽也不會向上方逃散。因此，能夠在抑制與蒸汽的產(chǎn)生相伴的功耗增大的同時，在加熱室內(nèi)以短時間得到烹調(diào)所要求的蒸汽濃度的烹調(diào)區(qū)域。此外，蒸汽噴出部能夠通過具有I個排出口這樣的簡單結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)，因此還能夠抑制產(chǎn)品成本的增大。
[0025]第2發(fā)明的加熱烹調(diào)器是在第I發(fā)明的加熱烹調(diào)器中，蒸汽噴出部具有的蒸汽通道是一端與蒸汽產(chǎn)生部連接、另一端與一個排出口連接的一根管。通過設(shè)為這樣的結(jié)構(gòu)，能夠使蒸汽噴出部的結(jié)構(gòu)成為簡單的結(jié)構(gòu)，能夠抑制產(chǎn)品成本的增大。
[0026]以下，參照附圖來說明本發(fā)明的實施方式。另外，本發(fā)明不受該實施方式限定。
[0027](實施方式)
[0028]圖1是示出本發(fā)明實施方式的加熱烹調(diào)器的門被打開后的狀態(tài)的立體圖，圖2是圖1的加熱烹調(diào)器的在拆掉殼體的外箱的狀態(tài)下從蒸汽產(chǎn)生部側(cè)觀察加熱烹調(diào)器的立體圖，圖3是示出圖2的加熱烹調(diào)器的門被打開后的狀態(tài)的立體圖。
[0029]如圖1所示，本實施方式的加熱烹調(diào)器10具有矩形箱狀的殼體13，殼體13在前表面11上具有開口部12。殼體13具有在內(nèi)側(cè)形成加熱室14的內(nèi)箱15、和覆蓋內(nèi)箱15的外側(cè)的外箱16。經(jīng)由開口部12，針對形成于殼體13的內(nèi)側(cè)的加熱室14，取出、放入烹調(diào)物等加熱對象物。
[0030]如圖2所示，在殼體13中，在加熱室14的上方設(shè)置有上部電氣室17，在加熱室14的下方設(shè)置有下部電氣室18。在殼體13的開口部12的下方，以水平方向的旋轉(zhuǎn)中心開閉自如地安裝有門19。通過以成為垂直狀態(tài)的方式對門19進行旋轉(zhuǎn)操作來關(guān)閉加熱室14，通過以成為水平狀態(tài)的方式對門19進行旋轉(zhuǎn)操作來打開加熱室14。
[0031]在正面觀察的門19的一側(cè)配置有顯示部20和操作部21。操作部21以正面觀察時，操作部21的一部分與加熱室14的內(nèi)部空間重疊的方式，被配置在門19上。操作部21中設(shè)有用于操作加熱烹調(diào)器10的烹調(diào)動作的各種操作開關(guān)22和烹調(diào)開關(guān)23。
[0032]下部電氣室18中設(shè)置有產(chǎn)生微波的磁控管(未圖示)、向該磁控管供給電力的磁控管驅(qū)動電源(未圖示)、和進行微波產(chǎn)生動作的控制等的控制部等(未圖示)。
[0033]在加熱室14的里表面24(參照圖1)與外箱16之間，設(shè)置有作為熱源的加熱器(對流加熱器(未圖示))。對流加熱器被配置在由被加熱室14的里表面24與外箱16夾著的收納空間中。在對流加熱器的中央側(cè)設(shè)置有循環(huán)風(fēng)扇(未圖示)。在加熱室14的里表面24上形成有進氣孔25和排氣孔26，通過對循環(huán)風(fēng)扇進行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，加熱室14的空氣從進氣孔25被抽吸，由對流加熱器加熱并從排氣孔26再次返回到加熱室14。由此，對烹調(diào)物均勻地進行高溫加熱。
[0034]另外，可以在加熱室14的上表面?zhèn)茸芳釉O(shè)置上部加熱器作為熱源。上部加熱器通過發(fā)熱，利用輻射熱對加熱室14的烹調(diào)物進行加熱處理。
[0035]在殼體13的內(nèi)箱15中的彼此面對的內(nèi)壁面上，設(shè)置有烹調(diào)盤支撐部，該烹調(diào)盤支撐部在上下方向的多層的支撐位置處支撐烹調(diào)盤的兩端。具體而言，如圖1和圖3所示，在內(nèi)箱15的夾著加熱室14的開口部12的、一對平行的內(nèi)壁面即左側(cè)內(nèi)壁面27(參照圖1)和右側(cè)內(nèi)壁面28(參照圖3)上，設(shè)置有沿前后方向延伸的上層導(dǎo)軌29、中層導(dǎo)軌30、下層導(dǎo)軌31，作為烹調(diào)盤支撐部。在上層導(dǎo)軌29、下層導(dǎo)軌31、中層導(dǎo)軌30各自之上，以可拆裝的方式載置烹調(diào)盤32的兩端。S卩，烹調(diào)盤32的兩端借助導(dǎo)軌被支撐到左側(cè)內(nèi)壁面27和右側(cè)內(nèi)壁面28上，由此可以將烹調(diào)盤32支撐到加熱室14中的上下多層支撐位置(上層、中層、下層支撐位置)中的任意層(任意的支撐位置)處。在加熱烹調(diào)器10中具有至少一個烹調(diào)盤32，也可以是具有多個烹調(diào)盤32的情況。
[0036]在加熱烹調(diào)器10中，作為用于向加熱室14內(nèi)供給蒸汽的結(jié)構(gòu)，具有以下部分:收納水的水箱33 ;使用從水箱33供給的水生成蒸汽的蒸汽產(chǎn)生部34 ;以及蒸汽噴出部35，其向加熱室14內(nèi)噴出并供給由蒸汽產(chǎn)生部34生成的蒸汽。
[0037]如圖2所示，水箱33被設(shè)置在下部電氣室18的下方。蒸汽產(chǎn)生部34被設(shè)置于殼體13的內(nèi)箱15與外箱16之間，通過泵馬達(未圖示)將水箱33的水供給到蒸汽產(chǎn)生部34，通過蒸汽產(chǎn)生部34生成蒸汽。蒸汽噴出部35具有:作為連接蒸汽產(chǎn)生部34和加熱室14的蒸汽通道的蒸汽連接管36 ;以及排出口 35A，其作為開口孔而被設(shè)置在加熱室14的左側(cè)內(nèi)壁面27上，該排出口 35A與蒸汽連接管36的一端連接。蒸汽產(chǎn)生部34生成的蒸汽經(jīng)由蒸汽連接管36，從排出口 35A噴出而供給到加熱室14內(nèi)。由此，進行對烹調(diào)物的蒸汽加熱。
[0038]在下部電氣室18的控制部中設(shè)置了具有CPU、ROM、RAM的控制電路，控制電路進行烹調(diào)控制和注水控制。與該控制電路連接著檢測加熱室14內(nèi)的溫度的倉內(nèi)溫度傳感器(未圖示)、和檢測蒸汽產(chǎn)生部34生成的蒸汽溫度的蒸汽溫度傳感器(未圖示)。控制電路根據(jù)來自倉內(nèi)溫度傳感器的輸出信號檢測加熱室14的倉內(nèi)溫度，并根據(jù)來自蒸汽溫度傳感器的輸出信號檢測蒸汽產(chǎn)生部34的溫度。此外，與控制電路連接著上述操作開關(guān)22和烹調(diào)開關(guān)23。這多個開關(guān)是供使用者輸入烹調(diào)菜單、烹調(diào)溫度、有無預(yù)熱等烹調(diào)信息的開關(guān)?？刂齐娐肪哂腥缦鹿δ?根據(jù)多個開關(guān)的操作內(nèi)容，檢測烹調(diào)菜單、烹調(diào)溫度、有無預(yù)熱等烹調(diào)信息。
[0039]此外，控制電路具有如下功能:根據(jù)烹調(diào)信息的檢測結(jié)果，對循環(huán)風(fēng)扇、對流加熱器、上部加熱器、磁控管、循環(huán)風(fēng)扇、泵馬達(均未圖示)獨立地進行驅(qū)動控制。并且，從與商用電源連接的主電源部向控制電路供給電力，控制電路以不讓磁控管、對流加熱器、上部加熱器、蒸汽產(chǎn)生部34等的加熱電力超過允許電力值的方式，控制對這各個部分的電力分配。
[0040]圖4是圖3所示的蒸汽產(chǎn)生部34的放大圖，圖5是圖1所示的蒸汽噴出部35的放大圖，圖6是將烹調(diào)盤32安裝于中層支撐位置的狀態(tài)的加熱烹調(diào)器10的立體圖。
[0041]蒸汽產(chǎn)生部34具有輕量且導(dǎo)熱性高的鋁壓鑄制造的蒸汽鍋爐37。在蒸汽鍋爐37上，連接有從水箱33供給水的供水管38、和排出蒸汽鍋爐37內(nèi)的水的虹吸式排水管39。此夕卜，在蒸汽鍋爐37上設(shè)置有供給所生成的蒸汽的一個供給口 37A，與該供給口 37A連接著蒸汽噴出部35的蒸汽連接管36的另一端。如圖4所示，在蒸汽鍋爐37的內(nèi)側(cè)設(shè)置有蒸汽生成用加熱器37B，蒸汽生成用加熱器37B使得由供水管38供給的水沸騰，并經(jīng)由供給口 37A將體積膨脹后的蒸汽(例如飽和蒸汽)送出到蒸汽連接管36。
[0042]在蒸汽噴出部35中，蒸汽連接管36的末端與排出口 35A連接。如圖1所示，蒸汽噴出部35的排出口 35A被設(shè)置于面向處于如下狀態(tài)的烹調(diào)盤32與加熱室14的頂面41之間的空間的一個內(nèi)壁面(左側(cè)內(nèi)壁面27)上，即，所述烹調(diào)盤32處于被支撐于烹調(diào)盤支撐部中的上層導(dǎo)軌29、即上下多層支撐位置中的最上層40的支撐位置處的狀態(tài)。蒸汽噴出部35的排出口 35A通過一個供給口 37A和一根蒸汽連接管36，與蒸汽產(chǎn)生部34連接，從而被供給所生成的蒸汽。如圖5所示，蒸汽噴出部35的排出口 35A被設(shè)置于加熱室14的左側(cè)內(nèi)壁面27的一個部位。此外,如圖5所不,排出口 35A可以在一個蒸汽導(dǎo)出路徑的末端被開口成十字孔43。此外，也可以替代十字孔43而設(shè)為格子孔。通過這樣地將排出口 35A設(shè)為十字孔43或格子孔，能夠防止異物進入到噴出孔35A內(nèi)，并且還能夠得到噴出蒸汽的適度的擴散作用。
[0043]接著，對具有上述那樣的結(jié)構(gòu)的本實施方式的加熱烹調(diào)器10的作用進行說明。
[0044]在加熱烹調(diào)器10中，為了在進行蒸汽加熱的同時進行烘烤加熱，首先打開門19，在加熱室14中安裝烹調(diào)盤32，并將烹調(diào)物載置到烹調(diào)盤32上。接著，關(guān)閉門19，在對操作開關(guān)22進行操作而設(shè)定了期望的加熱模式后，對烹調(diào)開關(guān)23進行操作。
[0045]由磁控管產(chǎn)生高頻，擴散地供給到加熱室14。烹調(diào)盤32的高頻吸收膜發(fā)熱，對高頻發(fā)熱體進行加熱，其熱量經(jīng)由金屬板傳播到烹調(diào)物。此外，所產(chǎn)生的高頻的一部分穿過加熱室14的內(nèi)壁面與烹調(diào)盤32之間的間隙而進入到烹調(diào)盤32的上方空間，對烹調(diào)物進行高頻加熱。此外，通過使上部加熱器發(fā)熱，利用輻射熱對烹調(diào)盤32的烹調(diào)物進行加熱處理。
[0046]通過泵馬達，從水箱33向蒸汽產(chǎn)生部34供給水。蒸汽產(chǎn)生部34利用蒸汽生成用加熱器37B使得供給的水沸騰，從而產(chǎn)生蒸汽(例如飽和蒸汽)。所產(chǎn)生的蒸汽經(jīng)由蒸汽連接管36，從I個排出口 35A被供給到加熱室14的上方空間。該蒸汽接觸烹調(diào)物、并進行熱交換，由此對烹調(diào)物進行蒸制，并且利用蒸汽進行加熱。
[0047]在加熱烹調(diào)器10中，將可被支撐到上下多層位置中的任意層的烹調(diào)盤32支撐到最上層40的支撐位置處，在加熱室14中隔開地形成有較小的烹調(diào)區(qū)域44 (參照圖5)，該較小的烹調(diào)區(qū)域44是該烹調(diào)盤32與加熱室14的頂面41之間的空間。即，烹調(diào)盤32的上方空間被頂面41封閉了上方，因此將該空間(即烹調(diào)區(qū)域44)有效用作上升的高溫空氣的儲存空間。由蒸汽產(chǎn)生部34產(chǎn)生的蒸汽經(jīng)由一根蒸汽連接管36，從設(shè)置于該烹調(diào)區(qū)域44的一個內(nèi)壁面(左側(cè)內(nèi)壁面27)的一個排出口 35A被噴出。所噴出的蒸汽充滿較小的烹調(diào)區(qū)域44。因此，與在最上層40以外的其他層支撐烹調(diào)盤32的情況、以及不使用烹調(diào)盤32的情況相比，烹調(diào)區(qū)域44可在短時間內(nèi)被蒸汽充滿。這是因為，在要噴出的蒸汽量相同的情況下，被噴出區(qū)域的空氣量越小，蒸汽和空氣的混合氣體的蒸汽濃度越高。
[0048]此外，蒸汽產(chǎn)生部34通過一個供給口 37A、一根蒸汽連接管36與一個排出口 35連接，由此與設(shè)置有多個供給口和排出口的情況相比，蒸汽的噴出壓力變高。
[0049]通過將蒸汽噴出部35的排出口 35A設(shè)置到加熱室14的內(nèi)壁面的上側(cè)(特別是比最上層40的支撐位置更靠上側(cè))，由此，在由烹調(diào)盤32隔出的烹調(diào)區(qū)域44中，溫度、蒸汽濃度的上升也較快，能夠迅速地蒸制或加熱烹調(diào)物。該情況下，在烹調(diào)盤32處于圖1所示的最上層40的支撐位置(被上層導(dǎo)軌29支撐的狀態(tài))時，烹調(diào)物被最快地蒸制，其次是圖6所示的中層的支撐位置(被中層導(dǎo)軌30支撐的狀態(tài))。
[0050]并且，在加熱烹調(diào)器10中，從一個部位(即，從一個排出口 35A)以較高的噴出壓力向烹調(diào)區(qū)域44噴出蒸汽。由此，容易生成蒸汽和空氣的混合氣體的單方向的強制對流，能夠利用較少的部件(蒸汽連接管36等蒸汽噴出部35的結(jié)構(gòu)部件)實現(xiàn)烹調(diào)區(qū)域44的高效的環(huán)境攪拌。此外，在加熱烹調(diào)器中，大多采用了正面寬度距離比進深距離大的加熱室。在這種方式的加熱室14中，通過從一個內(nèi)壁面(側(cè)面)噴出蒸汽，與從加熱室14的里表面24噴出蒸汽的情況相比，流入烹調(diào)區(qū)域44的蒸汽噴流的距離增長。由此，與在加熱室14的里表面24上設(shè)置有蒸汽噴出部35的排出口 35A的構(gòu)造相比，進一步提高了環(huán)境的攪拌效率。
[0051]因此，根據(jù)本實施方式的加熱烹調(diào)器10，能夠經(jīng)由蒸汽噴出部35的排出口 35A，對被支撐于烹調(diào)盤支撐部的最上層40的支撐位置處的烹調(diào)盤32與加熱室14的頂面41之間的空間供給蒸汽，所供給的蒸汽也不會向上方逃散。因此，能夠在抑制蒸汽生成用加熱器37B的功耗增大的同時，短時間地使得形成在加熱室14內(nèi)的烹調(diào)區(qū)域44成為烹調(diào)所要求的蒸汽濃度。此外，蒸汽噴出部35能夠通過具有I個排出口 35A、1根蒸汽連接管36這樣的簡單結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)，因此還能夠抑制產(chǎn)品成本的增大。
[0052]另外，通過適當(dāng)組合上述各種實施方式中的任意實施方式，能夠起到各個實施方式具有的效果。
[0053]參照附圖與優(yōu)選實施方式相關(guān)聯(lián)地對本發(fā)明進行了充分的記載，但是熟悉該技術(shù)的人員明白各種變形和修正。這種變形和修正只要不脫離所附權(quán)利要求定義的本發(fā)明的范圍，則應(yīng)當(dāng)理解為被包含在本發(fā)明中。
[0054]產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0055]本發(fā)明適合應(yīng)用到具有蒸汽產(chǎn)生部的加熱烹調(diào)器。
[0056]標(biāo)號說明
[0057]10:加熱烹調(diào)器
[0058]12:開口部
[0059]13:殼體
[0060]14:加熱室
[0061]15:內(nèi)箱
[0062]16:外箱
[0063]27:左側(cè)內(nèi)壁面(內(nèi)壁面)
[0064]28:右側(cè)內(nèi)壁面(內(nèi)壁面)
[0065]32:烹調(diào)盤
[0066]34:蒸汽產(chǎn)生部
[0067]35:蒸汽噴出部
[0068]35A:排出口
[0069]36:蒸汽連接管
[0070]37:蒸汽鍋爐
[0071]37A:供給口
[0072]40:最上層
[0073]41:頂面
【權(quán)利要求】
1.一種加熱烹調(diào)器，該加熱烹調(diào)器具有: 殼體，其在內(nèi)側(cè)形成有前面被開口的加熱室； 烹調(diào)盤支撐部，其被設(shè)置于所述加熱室的彼此面對的內(nèi)壁面上，在上下方向的多層的支撐位置處支撐烹調(diào)盤的兩端； 蒸汽產(chǎn)生部，其產(chǎn)生蒸汽；以及 蒸汽噴出部，其具有設(shè)置于所述加熱室的內(nèi)壁面上的一個排出口、和將所述蒸汽產(chǎn)生部產(chǎn)生的蒸汽引導(dǎo)至所述排出口的蒸汽通道，經(jīng)由所述排出口向所述加熱室內(nèi)噴出蒸汽，所述一個排出口被設(shè)置于與如下空間相面對的一個內(nèi)壁面上，所述空間是被支撐在所述烹調(diào)盤支撐部的最上層的支撐位置處的烹調(diào)盤與所述加熱室的頂面之間的空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱烹調(diào)器，其中， 所述蒸汽噴出部具有的所述蒸汽通道是一端與所述蒸汽產(chǎn)生部連接，另一端與所述一個排出口連接的一根管。
【文檔編號】F24C1/00GK104246374SQ201380014796
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年3月15日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月19日
【發(fā)明者】阿部邦昭, 早川雄二, 澀谷昌樹 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社