專利名稱：一種溫度均勻的低溫設備的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種溫度均勻的低溫設備。
背景技術：
現(xiàn)有低溫設備存在的技術問題1)在低溫處理室內(nèi)易存在液氮，并且低溫室內(nèi)溫度梯度大；2)聚胺脂發(fā)泡的堆積絕熱方式保溫。

實用新型內(nèi)容本實用新型提供一種溫度均勻的低溫設備，解決目前在低溫處理設備中存在的溫度不均勻性，液氮消耗大的問題。一種溫度均勻的低溫設備，包括噴塑箱體出)，噴塑箱體出)內(nèi)部為高真空多層絕熱處理室(I)，高真空多層絕熱處理室(I)采用真空、多層絕熱結構；高真空多層絕熱處理室(I)上蓋安裝將液氮分散汽化的循環(huán)系統(tǒng)(2)。所述的溫度均勻的低溫設備，還包括提籃(7)，提籃(7)放置在高真空多層絕熱處理室(I)內(nèi)。通過安裝在處理室上蓋上的循環(huán)系統(tǒng)，將液氮分散汽化，讓工件始終處于氣態(tài)環(huán)境中，避免液氮直接沖擊工件，提籃使取放工件更加方便，整個處理室的溫度均勻，溫度梯度在2°C內(nèi)。

圖1為本實用新型結構示意圖；I高真空多層絕熱處理室，2循環(huán)系統(tǒng)，3泄壓口，4制冷管，5升溫管，6噴塑箱體，7提籃，8傳感器，9制冷升溫系統(tǒng)，10金屬軟管，11自增壓低溫容器。
具體實施方式
以下結合具體實施例，對本實用新型進行詳細說明。參考圖1，溫度均勻的低溫設備包括噴塑箱體6，噴塑箱體6內(nèi)部為高真空多層絕熱處理室1，高真空多層絕熱處理室I采用真空、多層絕熱結構，保溫效果好，消耗液氮量最少；高真空多層絕熱處理室I內(nèi)設置泄壓口 3、制冷管4、升溫管5和傳感器8，提籃7放置在高真空多層絕熱處理室I內(nèi)，用于盛放工件，高真空多層絕熱處理室I上蓋安裝循環(huán)系統(tǒng)2，用于將液氮分散汽化；自增壓低溫容器11里的液氮通過金屬軟管10和制冷管4均勻噴射進高真空多層絕熱處理室1，通過安裝在處理室上蓋上的循環(huán)系統(tǒng)2，將液氮分散汽化，讓工件始終處于氣態(tài)環(huán)境中，避免液氮直接沖擊工件，提籃7使取放工件更加方便，整個處理室的溫度均勻，溫度梯度在2 °C內(nèi)。制冷升溫系統(tǒng)9控制整個裝置的制冷和升溫過程，升溫時可采用電阻加熱升溫管5的方式將溫度升到室溫，實驗結束以后，通過泄壓口 3排出氣體，卸除內(nèi)部氣體壓力。[0012]應當理解的是，對本領域普通技術人員來說，可以根據(jù)上述說明加以改進或變換，而所有這些改進和變換都應屬于本實用新型所附權利要求的保護范圍。
權利要求1.一種溫度均勻的低溫設備，包括噴塑箱體￠)，其特征在于，噴塑箱體￠)內(nèi)部為高真空多層絕熱處理室(I)，高真空多層絕熱處理室(I)采用真空、多層絕熱結構；高真空多層絕熱處理室(I)上蓋安裝將液氮分散汽化的循環(huán)系統(tǒng)(2)。
2.根據(jù)權利要求1所述的溫度均勻的低溫設備，其特征在于，還包括提籃(7)，提籃(7)放置在高真空多層絕熱處理室(I)內(nèi)。
專利摘要本實用新型公開了一種溫度均勻的低溫設備，包括噴塑箱體(6)，噴塑箱體(6)內(nèi)部為高真空多層絕熱處理室(1)，高真空多層絕熱處理室(1)采用真空、多層絕熱結構；高真空多層絕熱處理室(1)上蓋安裝將液氮分散汽化的循環(huán)系統(tǒng)(2)。通過安裝在處理室上蓋上的循環(huán)系統(tǒng)，將液氮分散汽化，讓工件始終處于氣態(tài)環(huán)境中，避免液氮直接沖擊工件，整個處理室的溫度均，溫度梯度在2℃內(nèi)。
文檔編號F25B19/04GK202902685SQ20122045952
公開日2013年4月24日 申請日期2012年9月11日 優(yōu)先權日2012年9月11日
發(fā)明者李國繼, 汪學其, 董立新, 周友龍, 李文杰 申請人:李國繼