專利名稱：改進的氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
實用新型是關(guān)于對污水處理氧化溝用曝氣轉(zhuǎn)盤的改進，尤其涉及轉(zhuǎn)盤表面凸塊構(gòu)造及排列的改進。
污水氧化溝處理工藝，由于具有處理工藝流程簡單，凈化效率高且穩(wěn)定，剩余活性污泥少，抗沖擊負荷能力強，能承受水質(zhì)及水量沖擊負荷，而且兼具除磷脫氮功能，管理維護方便，運行費用低，因而被廣泛用于污水生化處理?，F(xiàn)有的氧化溝工藝中使用的曝氣轉(zhuǎn)盤，如中國專利90224217、92206155和96229046公開的曝氣用轉(zhuǎn)盤，其圓形盤片由兩片或多片扇面拼裝而成，盤片兩表面凸塊呈放射狀規(guī)則直線排列，凸塊行間相間分布有眾多凹圓，盤片表面的凸塊有呈楔形的三角形、梯形構(gòu)造，凸塊底面為平面結(jié)構(gòu)。這種轉(zhuǎn)盤雖具有有較好的充氧效果，但充氧能力仍不夠高，還有值得改進的地方，如轉(zhuǎn)盤表面凸塊構(gòu)造、形狀及排列方式。
實用新型的目的在于提供一種改進的，具有更高充氧能力和動力效率的氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤。
實用新型目的實現(xiàn)，其主要改進是將轉(zhuǎn)盤表面凸塊底面由平面改為內(nèi)凹曲面，從而增大凸塊與水的接觸面積和拋水效果，提高轉(zhuǎn)盤運轉(zhuǎn)的充氧能力。具體說，實用新型氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，由兩片以上扇面拼裝成圓形盤片，所說盤片表面排列有凸塊行，凸塊行間分布有凹坑，其特征在于所說凸塊行凸塊底面呈內(nèi)凹曲面。大家知道，曝氣轉(zhuǎn)盤作用，主要依靠轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時表面凸塊攪動水層推動水流向前，并在混合污水同時將水拋出水面形成液膜，拋出的水珠與大氣接觸將空氣中的氧攜入水中達到充氧目的。本實用新型曝氣轉(zhuǎn)盤由于盤片表面眾多的凸塊底面呈內(nèi)凹曲面，所以它有比平的底面有更大的表面積，由此與水接觸面積就大，對水的推力也大，拋起水量多且拋水高，形成的水珠也更細小，與空氣接觸就多，水珠的攜氧也就多，從而提高了充氧能力。另外由于內(nèi)凹的曲面在拍入水面時，與水面的接觸首先是兩個弧形邊角，然后才逐漸是曲面，這樣反而減少了盤片凸塊底面轉(zhuǎn)入水面時的阻力，對提高轉(zhuǎn)盤動力效率是有利的。
實用新型所說凸塊，可以是通常的三角形凸塊、梯形凸塊、梯形斜棱柱、四棱錐形等多種幾何體，其中尤以四棱錐形為優(yōu)。所說凸塊底面內(nèi)凹曲面，可以是各種幾何曲面，一種較好的方式采用圓弧面。所說盤體上凹坑，一種較好方式可采用圓形凹坑。
為進一步提高轉(zhuǎn)盤的充氧能力，實用新型還可將轉(zhuǎn)盤表面呈放射狀直線排列的凸塊行和相間的凹圓行改為曲線排列，這樣一可增加凸塊和凹圓的數(shù)量，二對水流推動及拋水也有積極作用。所說凸塊行的曲線彎曲，一種較好的方式為向轉(zhuǎn)盤通常旋轉(zhuǎn)方向(凸塊長邊亦稱底邊方向)彎曲，所說曲線可以采用圓弧形曲線，其較好的曲率半徑為大于轉(zhuǎn)盤半徑，小于轉(zhuǎn)盤直徑，曲線還可以是其他類型的如雙曲線型、漸開線型等，視曝氣充氧要求而定。
除此，實用新型還采取加大凸塊，以及加大凹圓直徑和深度，以及在轉(zhuǎn)盤兩側(cè)的凸塊外側(cè)面加工有凹坑，以更進一步提高轉(zhuǎn)盤的充氧能力。實用新型盤片可以采用塑料模壓、也可以是玻璃鋼的。
以下結(jié)合二個非限定性實施例的描述，進一步說明實用新型構(gòu)思及優(yōu)點，實施例不應(yīng)理解為對實用新型的限定。


圖1為凸塊與凹圓呈射線排列半圓轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為凸塊立體示意圖。
圖3為凸塊剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為凸塊與凹圓呈圓弧形曲線排列半圓盤片結(jié)構(gòu)示意圖。
實施例1參見
圖1、2、3，圓形曝氣轉(zhuǎn)盤由對稱的兩個半圓盤片1對接而成，轉(zhuǎn)盤直徑為1380mm，盤片表面放射狀排列有凸塊行2和凹圓3。凸塊構(gòu)造呈四棱錐形，寬25mm，底邊厚度h為18mm，底邊側(cè)面(厚度方向)倒角有一小平面7，可有效防止凸塊在運轉(zhuǎn)中因沖擊造成錐角破損，凸塊底面有直徑為14mm，深6mm，內(nèi)凹圓弧面8，側(cè)面有凹圓9。盤片上凹圓直徑12mm，深5mm。前后行凸塊及凹圓互相錯位，軸孔4內(nèi)有與轉(zhuǎn)軸固定定位的螺紋，為減輕盤片重量又保證盤片有足夠的強度，在盤片近軸心處設(shè)有若干條加強筋6，靠軸孔處開有若干減輕自重的窗口5，盤片軸心區(qū)域加厚自圓心向外減薄呈過渡狀。盤片采用玻璃鋼或塑料(例如BMC塑料)經(jīng)高溫高壓壓制成型。
實施例2參見圖4，如實施例1所述，轉(zhuǎn)盤兩側(cè)的凸塊行和凹圓呈圓弧曲線向凸塊底邊方向彎曲，凸塊行的曲率半徑為900～1100mm，同一圓弧曲線行兩端凸塊夾角α為6-8度。盤片表面共有凸塊1050個，凹圓4868個，凸塊和凹圓分別較相近似規(guī)格盤片增加8-10％和50-100％。
實用新型由于將轉(zhuǎn)盤表面凸塊底面由平面改為內(nèi)凹曲面，僅此可使盤片凸塊與水接觸面積提高約10％以上，輔以凸塊曲線排列，及在凸塊側(cè)面增加凹坑，加大凸塊體積和加大凹坑體積，不僅對水流顯著提高了推力和拋出水量，而且使相同規(guī)格盤片的凸塊和凹圓數(shù)分別較原來增加8-10％和50-100％以上，轉(zhuǎn)盤工作拋起的狹氣水珠比一般盤片多又高，形成較寬的水幕環(huán)，增加了拋起水珠與空氣接觸時間和接觸面積，使水珠能裹狹吸收更多的空氣，從而顯著增加了帶進水中的氧氣量，其次轉(zhuǎn)盤上凹圓數(shù)量增加，也顯著提高凹坑(圓)帶入空氣量，因而顯著提高了轉(zhuǎn)盤充氧效率。凸塊底面呈內(nèi)凹曲面，使轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)壓水阻力下降，明顯提高了動力效率。實用新型曝氣轉(zhuǎn)盤，單盤充氧能力可較常規(guī)轉(zhuǎn)盤提高30％以上，動力效率可提高20％以上。由于轉(zhuǎn)盤對水的推力提高，可使轉(zhuǎn)盤更適合深氧化溝工藝，氧化溝水深可提高到5M以上，提高水深又節(jié)約了占地和工程造價，同時還擴大了氧化溝的使用范圍。實用新型曝氣轉(zhuǎn)盤采用高溫高壓成型工藝，使盤片密實度也顯著提高，表面微細氣孔少，耐高溫、抗沖擊、耐老化、不變形，提高了轉(zhuǎn)盤的使用壽命。
權(quán)利要求1．一種氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，由兩片以上扇面拼裝成圓形盤片，所說盤片表面排列有凸塊行，凸塊行間分布有凹坑，其特征在于所說凸塊底面呈內(nèi)凹曲面。
2．根據(jù)權(quán)利要求1所述氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，其特征在于所說凸塊行和凹圓呈曲線排列。
3．根據(jù)權(quán)利要求2所述氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，其特征在于所說曲線向凸塊底邊方向彎曲。
4．根據(jù)權(quán)利要求3所述氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，其特征在于所說曲線為圓弧曲線。
5．根據(jù)權(quán)利要求4所述氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，其特征在于所說圓弧曲線的曲率半徑大于轉(zhuǎn)盤半徑，小于轉(zhuǎn)盤直徑。
6．根據(jù)權(quán)利要求1所述氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，其特征在于所說凸塊呈四棱錐形。
7．根據(jù)權(quán)利要求6所述氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，其特征在于所說凸塊寬25mm，底邊厚18mm。
8．根據(jù)權(quán)利要求1所述氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，其特征在于所說凸塊底面內(nèi)凹曲面為圓弧曲面。
9．根據(jù)權(quán)利要求8所述氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，其特征在于所說圓弧曲面直徑為14mm，深6mm。
10．根據(jù)權(quán)利要求1或2所述氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤，其特征在于所說凸塊外側(cè)面有凹坑。
專利摘要實用新型是關(guān)于對氧化溝曝氣轉(zhuǎn)盤的改進,尤其是對轉(zhuǎn)盤表面凸塊構(gòu)造及排列的改進,其特征是將轉(zhuǎn)盤表面凸塊底面由平面改為內(nèi)凹曲面,并且使凸塊行及凹坑呈曲線排列。不僅增加了盤片表面凸塊與水的接觸面積,而且凸塊和凹圓數(shù)也有大增加。實用新型曝氣轉(zhuǎn)盤對水流推力大、拋水多,顯著提高了轉(zhuǎn)盤的充氧能力和動力效率,更適用于水深較深的氧化溝曝氣。
文檔編號C02FGK2425085SQ0022029
公開日2001年3月28日 申請日期2000年5月16日 優(yōu)先權(quán)日2000年5月16日
發(fā)明者李伯平, 王介平 申請人:宜興市振宇水處理環(huán)保廠, 無錫振宇電力輔機有限公司