專利名稱：氧化溝盤式曝氣裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種對污水進行生化處理的曝氣設(shè)備，特別適用于氧化溝專用曝氣設(shè)備。
目前，氧化溝的曝氣設(shè)備多數(shù)采用倒傘形表曝機或曝氣轉(zhuǎn)刷，這就使得氧化溝占地面積較大，氧化溝的深度一般只能在3.0～3.5米，使氧化溝工藝的推廣應(yīng)用受到一定的限制。
本實用新型的目的是設(shè)計一種新型的氧化溝盤式曝氣裝置，其結(jié)構(gòu)簡單，用于氧化溝工藝能耗省、水平推力大及充氧量大。
本實用新型的氧化溝盤式曝氣裝置，由兩個半圓盤體和圓盤軸心組成，盤體上設(shè)有加強肋，加強肋間設(shè)有減輕自重的缺口，其特征是在圓盤體上呈放射狀規(guī)則地密布排列梯形斜棱柱錐體凸起小塊，各排梯形小塊之間設(shè)有大量的圓形小凹，梯形小塊的頂面設(shè)有小圓凹。
所述的梯形斜棱柱錐體小塊的最佳尺寸為24×20毫米，圓形小凹的深度為3～6毫米。
本實用新型的氧化溝盤式曝氣裝置的工作原理是，曝氣轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時，主要依靠梯形斜棱柱錐體凸起塊推動水流向前，同時將水揚出水面形成液膜，水珠與大氣接觸將空氣中的氧溶入水中，同時所有圓形小凹內(nèi)的空氣，也將其所含的氧傳輸?shù)剿惺怪溲酢ＴO(shè)置在梯形小凸塊頂面上的小圓凹增加揚水液膜，水珠的溶氧，提高了傳氧效率本實用新型的氧化溝盤式曝氣裝置，由于轉(zhuǎn)盤直徑大，梯形斜棱柱錐體凸起小塊構(gòu)造尺寸與現(xiàn)有轉(zhuǎn)盤不同，與設(shè)置在氧化溝內(nèi)的淹沒導(dǎo)流板配套使用，可改變水流流速的豎同分布，因而可較大的提高對水的推力，就可將氧化溝的水深由3.0米提高到5.0米；提高水深可以節(jié)約占地和工程造價，同時還擴大了氧化溝的使用范圍由于圓形小凹采用了較一般轉(zhuǎn)盤大的深度，又特別在梯形小凸塊頂面增設(shè)了小圓凹，提高了傳氧效率，無論是單個盤的充氧能力，還是充氧效率(單位電能充氧量)均已超過國外先進的同類產(chǎn)品。
本實用新型的氧化溝盤式曝氣裝置的主要技術(shù)性能為充氧能力1.65KG/H，最高充氧效率2.38KGO2/KW.H轉(zhuǎn)速N＝49～60轉(zhuǎn)分節(jié)電25％。
本實用新型的氧化溝盤式曝氣裝置，適用對污水進行生化處理的曝氣設(shè)備。
以下結(jié)合附圖及實施例對氧化溝盤式曝氣裝置做進一步描述。


圖1為氧化溝盤式曝氣裝置的結(jié)構(gòu)圖圖2為
圖1的A-A剖面圖圖3為氧化溝盤式曝氣裝置局部放大圖如圖所示，一種氧化溝盤式曝氣裝置，由兩個半圓盤體1和圓盤軸心2組成，盤體上設(shè)有加強肋3，加強肋間設(shè)有減輕自重的缺口4，其特征是在圓盤體上呈放射狀規(guī)則地密布排列梯形斜棱柱錐體凸起小塊5，各排梯形小塊之間設(shè)有大量的圓形小凹6，梯形小塊的頂面設(shè)有小圓凹7所述的梯形斜棱柱錐體凸起小塊的尺寸為24×20毫米，圓形小凹的深度為4毫米。
權(quán)利要求1.一種氧化溝盤式曝氣裝置，由兩個半圓盤體和圓盤軸心組成，盤體上設(shè)有加強肋，加強肋間設(shè)有減輕自重的缺口，其特征是在圓盤體上呈放射狀規(guī)則地密布排列梯形斜棱柱錐體凸起小塊，各排梯形小塊之間設(shè)有大量的圓形小凹，梯形斜棱柱錐體小塊的頂面設(shè)有小圓凹。
2.如權(quán)利要求1所述的氧化溝盤式曝氣裝置，其特征是所述的梯形斜棱柱錐體凸起小塊的最佳尺寸為24×20毫米，圓形小凹的深度為3～6毫米。
專利摘要一種氧化溝盤式曝氣裝置，由兩個半圓盤體和圓盤軸心組成，其特征是在圓盤體上呈放射狀規(guī)則地密布排列梯形斜棱柱錐體凸起小塊，各排梯形小塊之間設(shè)有大量的圓形小凹，梯形小塊的頂面設(shè)有小圓凹。本實用新型與設(shè)置在氧化溝內(nèi)的淹沒導(dǎo)流板配套使用，可改變小流流速的豎向分布，氧化溝的水深由3.0米提高到5.0米；傳氧效率可超過國外先進的同類產(chǎn)品。本實用新型的氧化溝盤式曝氣裝置，適用對污水進行生化處理的曝氣設(shè)備。
文檔編號C02F3/08GK2230316SQ9520120
公開日1996年7月3日 申請日期1995年1月20日 優(yōu)先權(quán)日1995年1月20日
發(fā)明者許澤美, 朱瑞麟 申請人:中國市政工程西北設(shè)計研究院, 北京中聯(lián)水工業(yè)工程咨詢開發(fā)公司