臭氧深度氧化裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及曝氣式接觸氧化裝置，具體涉及一種臭氧深度氧化曝氣裝置，曝氣式接觸氧化池池口密封，兩端的側(cè)壁分別設(shè)有進(jìn)水口和出水口，內(nèi)部設(shè)有上擋板和下?lián)醢?，上擋板和下?lián)醢褰惶媾帕校瑥亩谄貧馐浇佑|氧化池進(jìn)口和出口間內(nèi)形成迂回的通路，所述的上擋板與池體上部固定連接，下?lián)醢迮c池體下部固定連接，池體頂部開(kāi)設(shè)分配口、尾氣排放口和呼吸口，臭氧出口連接投加分配裝置，投加分配裝置出口連接分配管進(jìn)口，分配管出口穿過(guò)分配口設(shè)置在池體的下部，分配管的出口上設(shè)有曝氣盤，所述的尾氣排放口連接尾氣排放裝置進(jìn)口，呼吸口與呼吸閥進(jìn)口連接。本實(shí)用新型相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言，曝氣式接觸氧化池的曝氣接觸時(shí)間更長(zhǎng)，曝氣氧化反應(yīng)效果更好。
【專利說(shuō)明】臭氧深度氧化裝置
[【技術(shù)領(lǐng)域】]
[0001]本實(shí)用新型涉及曝氣式接觸氧化裝置，具體涉及一種臭氧深度氧化曝氣裝置。
[【背景技術(shù)】]
[0002]臭氧氧化工藝已大范圍用于水處理工程中，其性能的發(fā)揮受臭氧溶于水的投加方式所限。常用的臭氧投加方式有曝氣式，曝氣式又分為直接曝氣或氧化塔式。
[0003]在大型水處理中通常采用曝氣式接觸氧化池，底部通常采用陶瓷曝氣盤，但是一般的曝氣接觸氧化池的曝氣效果由于流體流動(dòng)方式的問(wèn)題，效果不理想，需要對(duì)設(shè)備進(jìn)一步改進(jìn)，增加曝氣接觸氧化的時(shí)間。
[
【發(fā)明內(nèi)容】
]
[0004]為了彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)中的不足和缺陷，本實(shí)用新型提供了一種臭氧深度氧化曝氣裝置。
[0005]一種臭氧深度氧化設(shè)備，包括臭氧發(fā)生裝置、尾氣排放裝置、呼吸閥和投加分配裝置，臭氧發(fā)生裝置包括臭氧出口，其特征在還包括一曝氣式接觸氧化池，曝氣式接觸氧化池池口密封，在所述的曝氣式接觸氧化池的兩端的側(cè)壁分別設(shè)有進(jìn)水口和出水口，曝氣式接觸氧化池內(nèi)部設(shè)有上擋板和下?lián)醢?，上擋板和下?lián)醢褰惶媾帕?，從而在曝氣式接觸氧化池進(jìn)口和出口間內(nèi)形成迂回的通路，所述的上擋板與池體上部固定連接，下?lián)醢迮c池體下部固定連接，池體頂部開(kāi)設(shè)分配口、尾氣排放口和呼吸口，所述的臭氧出口連接投加分配裝置，所述的投加分配裝置出口連接分配管進(jìn)口，分配管出口穿過(guò)分配口設(shè)置在池體的下部，分配管的出口上設(shè)有曝氣盤，所述的尾氣排放口連接尾氣排放裝置進(jìn)口，呼吸口與呼吸閥進(jìn)口連接。
[0006]所述的臭氧發(fā)生裝置由空氣壓縮機(jī)、儲(chǔ)氣罐、冷凍干燥機(jī)、吸附干燥機(jī)、發(fā)生室的進(jìn)、出口通過(guò)管道依次串聯(lián)連接。
[0007]所述的池體內(nèi)進(jìn)出口附近設(shè)有溢流板。
[0008]所述的曝氣盤間隔設(shè)置在上下?lián)醢逯g。
[0009]所述的曝氣式接觸氧化池頂設(shè)置人孔。
[0010]本實(shí)用新型相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言，曝氣式接觸氧化池的曝氣接觸時(shí)間更長(zhǎng)，曝氣氧化反應(yīng)效果更好。
[【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】]
[0011]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖中1.空氣壓縮機(jī)2.儲(chǔ)氣罐3.過(guò)濾器4.冷凍干燥機(jī)5.除油水過(guò)濾器6.吸附干燥機(jī)7.除塵過(guò)濾器8.臭氧發(fā)生室9.冷卻水泵10.膨脹罐11.板式換熱器12.尾氣排放裝置13.呼吸閥14.投加分配裝置15.進(jìn)水口 16.出水口 17.曝氣式接觸氧化池。[【具體實(shí)施方式】]
[0013]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0014]實(shí)施例一
[0015]如圖1所示，臭氧發(fā)生裝置由空氣壓縮機(jī)、儲(chǔ)氣罐、冷凍干燥機(jī)、吸附干燥機(jī)、發(fā)生室的進(jìn)、出口通過(guò)管道依次串聯(lián)連接，儲(chǔ)氣罐和冷凍干燥機(jī)之間設(shè)置第一過(guò)濾器，冷凍干燥機(jī)和吸附干燥機(jī)之間設(shè)置第二過(guò)濾器，吸附干燥機(jī)與發(fā)生室之間設(shè)置第三過(guò)濾器
[0016]曝氣式接觸氧化池池口密封，在所述的曝氣式接觸氧化池的兩端的側(cè)壁分別設(shè)有進(jìn)水口和出水口，進(jìn)、出口附近設(shè)有溢流板,曝氣式接觸氧化池內(nèi)部設(shè)有上擋板和下?lián)醢澹蠐醢搴拖聯(lián)醢褰惶媾帕?，從而在曝氣式接觸氧化池進(jìn)口和出口間內(nèi)形成迂回的通路，所述的上擋板與池體上部固定連接，下?lián)醢迮c池體下部固定連接，池體頂部開(kāi)設(shè)分配口、尾氣排放口和呼吸口，所述的臭氧出口連接投加分配裝置，所述的投加分配裝置出口連接分配管進(jìn)口，分配管出口穿過(guò)分配口設(shè)置在池體的下部，分配管的出口上設(shè)有曝氣盤，所述的尾氣排放口連接尾氣排放裝置進(jìn)口，呼吸口與呼吸閥進(jìn)口連接。所述的曝氣盤間隔設(shè)置在上下?lián)醢逯g。所述的曝氣式接觸氧化池頂設(shè)置人孔。
[0017]其設(shè)備參數(shù)和使用方法如下:
[0018]臭氧發(fā)生裝置 技術(shù)參數(shù)
[0019]
[0020]
【權(quán)利要求】
1.一種臭氧深度氧化設(shè)備，包括臭氧發(fā)生裝置、尾氣排放裝置、呼吸閥和投加分配裝置，臭氧發(fā)生裝置包括臭氧出口，其特征在還包括一曝氣式接觸氧化池，曝氣式接觸氧化池池口密封，在所述的曝氣式接觸氧化池的兩端的側(cè)壁上分別設(shè)有進(jìn)水口和出水口，曝氣式接觸氧化池內(nèi)部設(shè)有上擋板和下?lián)醢澹蠐醢搴拖聯(lián)醢褰惶媾帕?，從而在曝氣式接觸氧化池進(jìn)口和出口間內(nèi)形成迂回的通路，所述的上擋板與池體上部固定連接，下?lián)醢迮c池體下部固定連接，池體頂部開(kāi)設(shè)分配口、尾氣排放口和呼吸口，所述的臭氧出口連接投加分配裝置，所述的投加分配裝置出口連接分配管進(jìn)口，分配管出口穿過(guò)分配口設(shè)置在池體的下部，分配管的出口上設(shè)有曝氣盤，所述的尾氣排放口連接尾氣排放裝置進(jìn)口，呼吸口與呼吸閥進(jìn)口連接。
2.如權(quán)利要求1所述的臭氧深度氧化設(shè)備，其特征在于所述的臭氧發(fā)生裝置由空氣壓縮機(jī)、儲(chǔ)氣罐、冷凍干燥機(jī)、吸附干燥機(jī)、臭氧發(fā)生室之間的進(jìn)、出口通過(guò)管道依次串聯(lián)連接。
3.如權(quán)利要求1所述的臭氧深度氧化設(shè)備，其特征在于所述的池體內(nèi)進(jìn)、出口附近設(shè)有溢流板。
4.如權(quán)利要求1所述的臭氧深度氧化設(shè)備，其特征在于所述的曝氣盤間隔設(shè)置在上下?lián)醢逯g。
5.如權(quán)利要求1所述的臭氧深度氧化設(shè)備，其特征在于所述的曝氣式接觸氧化池頂設(shè)置人孔。
【文檔編號(hào)】C02F1/78GK203461871SQ201320570998
【公開(kāi)日】2014年3月5日 申請(qǐng)日期:2013年9月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月13日
【發(fā)明者】張振滿 申請(qǐng)人:上海濟(jì)意環(huán)保科技工程有限公司