一種腔室清潔裝置及其控制方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種腔室清潔裝置及其控制方法。
【背景技術】
[0002]TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶體管-液晶顯示器)作為一種平板顯示裝置，因其具有體積小、功耗低、無輻射以及制作成本相對較低等特點，而越來越多地被應用于高性能顯示領域當中。
[0003]TFT-1XD由陣列基板和彩膜基板構成?，F(xiàn)有TFT-1XD的制造工藝主要包括四個階段，分別為彩色濾光片制備、Array(陣列基板制造)工藝、Cell (液晶盒制備)工藝以及Module (模塊組裝)工藝。作為TFT-1XD生產(chǎn)的一個重要環(huán)節(jié)，Array工藝通常是在一張玻璃基板上形成獨立的TFT陣列電路，每個陣列電路分別對應一個顯示像素。具體的，可以先在上述玻璃基板上形成一層薄膜層，并在薄膜層的表面涂覆一層光刻膠，然后通過掩膜曝光、顯影以及刻蝕工藝對上述薄膜層進行圖案化處理。
[0004]其中，掩膜曝光工藝是將形成有薄膜層和光刻膠的基板置于曝光機中，將掩模板置于上述基板靠近光源的一側，光源通過掩模板對光刻膠進行區(qū)域化曝光。然而在實際生產(chǎn)過程中，會因為曝光機內(nèi)部清潔度不夠，而導致掩模板污染。由于掩模板的圖案是按照1:1的比例轉寫到基板上，掩模板上的缺陷在曝光轉寫后很容易引起薄膜圖案的缺陷，從而影響產(chǎn)品的可靠性或者導致產(chǎn)品的優(yōu)良率下降。
[0005]現(xiàn)有技術中，一般采用人工對曝光機腔室內(nèi)部進行清潔維護。這樣一來，工作人員進入曝光機腔室內(nèi)部的同時，其自身會將一些微粒帶入曝光機中，從而降低了清潔效果。并且人工清潔維護的效率低，降低了產(chǎn)品的稼動率。此外，還可以采用吸塵設備對曝光機腔室內(nèi)部進行清潔。然而，由于吸塵設備的除塵原理是通過較強的氣流波動來實現(xiàn)，因此會影響到曝光機內(nèi)部的環(huán)境因素，例如氣壓或溫度。這樣一來，當曝光機腔室內(nèi)部的溫度發(fā)生變化時，會導致玻璃基板產(chǎn)生伸縮變形，從而使得玻璃基板上已形成的陣列電路發(fā)生變形；而當曝光機腔室內(nèi)部的氣壓發(fā)生改變時，會影響機械部件對玻璃基板進行吸附定位的精度，導致曝光對位準而引起的構圖缺陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的實施例提供一種腔室清潔裝置及其控制方法，能夠解決清潔技術中，曝光機的腔室內(nèi)部環(huán)境因素改變和清潔效率低的問題。
[0007]為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術方案:
[0008]本發(fā)明實施例的一方面，提供一種腔室清潔裝置，用于對腔室進行清潔，包括用于提供控制信號的控制器、供給設備，以及設置于所述腔室內(nèi)部的清潔軌道；
[0009]所述供給設備通過輸送入口與所述清潔軌道的起始端相連接，并通過輸送出口與所述清潔軌道的末端相連接；
[0010]所述供給設備設置有第一工位和第二工位，所述第一工位與所述輸送入口相對應，所述第二工位與所述輸送出口相對應；
[0011]所述供給設備包括至少兩個卷軸，以及部分位于所述清潔軌道上的清潔布，位于所述第一工位的卷軸與清潔布的一端相連接，用于將所述清潔布從所述輸送入口傳送至所述清潔軌道上，位于所述第二工位的卷軸與清潔布的另一端相連接，用于將穿過所述輸送出口的清潔布進行收集。
[0012]本發(fā)明實施例的另一方面，提供一種腔室清潔裝置的控制方法，用于控制如上所述的任意一種腔室清潔裝置的方法，所述方法包括:
[0013]將第一卷軸位于第一工位，第二卷軸位于第二工位；
[0014]將所述第一卷軸上的第一清潔布的起始端與所述第二卷軸相連接；其中，所述第一清潔布的末端與所述第一卷軸相連接；
[0015]所述第一卷軸進行旋轉，將所述第一清潔布從輸送入口傳送至清潔軌道上；
[0016]所述清潔軌道將所述第一清潔布展開，所述第一清潔布沿所述清潔軌道對腔室進行清潔；
[0017]所述第二卷軸進行旋轉，將所述第一清潔布進行收集。
[0018]本發(fā)明提供一種腔室清潔裝置及其控制方法，其中所述腔室清潔裝置包括:用于提供控制信號的控制器、供給設備，以及設置于所述腔室內(nèi)部的清潔軌道。供給設備通過輸送入口與清潔軌道的起始端相連接，并通過輸送出口與清潔軌道的末端相連接；供給設備設置有第一工位和第二工位，第一工位與輸送入口相對應，第二工位與輸送出口相對應。該供給設備包括至少兩個卷軸，以及部分位于所述清潔軌道上的清潔布，位于第一工位的卷軸與清潔布的一端相連接，位于第二工位的卷軸與清潔布的另一端相連接。這樣一來，當位于第一工位的卷軸在控制器的控制下進行旋轉時，可以將清潔布從輸送入口傳送至清潔軌道上，清潔布在清潔軌道上呈展開的狀態(tài)，通過對腔室內(nèi)顆粒物的吸附，達到清潔的作用。在清潔一定時間后，位于第二工位上的卷軸可以在控制器的控制下進行旋轉，可以在輸送出口處對清潔后的清潔布進行收集。綜上所述，在這個清潔過程中，通過卷軸的旋轉帶動清潔布出入腔室，因此避免了現(xiàn)有技術中采用吸塵器清潔時產(chǎn)生的氣流波動對曝光機內(nèi)部環(huán)境因素的影響。此外整個清潔過程有控制器操控完成，因此相對于人工清潔而言，生產(chǎn)效率尚O
【附圖說明】
[0019]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0020]圖1為本發(fā)明實施例提供的一種腔室清潔裝置的結構示意圖；
[0021]圖2為圖1中供給設備和還原設備的詳細結構示意圖；
[0022]圖3為圖2中C向局部視圖；
[0023]圖4為圖1中清潔軌道的預設軌跡示意圖；
[0024]圖5為圖4中位置調(diào)節(jié)器40的詳細結構示意圖；
[0025]圖6為圖5中水平調(diào)節(jié)部件和豎直調(diào)節(jié)部件的具體結構示意圖；
[0026]圖7為本發(fā)明實施例提供的一種腔室清潔裝置控制方法的流程圖；
[0027]圖8為本發(fā)明實施例提供的一種設置卷軸更換過程的腔室清潔裝置控制方法的流程圖；
[0028]圖9為本發(fā)明實施例提供的一種涉及檢測報警過程的腔室清潔裝置控制方法的流程圖；
[0029]圖10為本發(fā)明實施例提供的一種位置調(diào)節(jié)器的調(diào)節(jié)方法流程圖。
[0030]附圖標記:
[0031]01-腔室；02_清潔軌道；10-控制器；20_供給設備；201_位于第一工位的卷軸；202-位于第二工位的卷軸；2001_第一卷軸；2002_第二卷軸；2003_第三卷軸；210_清潔布；2100_第一清潔布；2101_第二清潔布；211-第一鏈接扣；212_第二鏈接扣；220_供給導軌；221-限位區(qū)；230_卷軸驅(qū)動部件；240_第一連接器；241_第二連接器；30_傳輸入口 ；31_傳輸出口 ；32_還原設備；301-還原入口 ；302_還原出口 ；310_還原導軌；40-位置調(diào)節(jié)器；401-豎直調(diào)節(jié)部件；402_水平調(diào)節(jié)部件；403_導向部件；404_第一轉軸；405_第二轉軸；A-第一工位；B-第二工位；D-預設位置。
【具體實施方式】
[0032]下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0033]本發(fā)明實施例提供一種腔室清潔裝置，用于對腔室進行清潔，如圖1所示，可以包括用于提供控制信號的控制器10、供給設備20，以及設置于腔室01內(nèi)部的清潔軌道02。
[0034]其中，供給設備20通過輸送入口 30與清潔軌道02的起始端相連接，并通過輸送出口 31與清潔軌道02的末端相連接。
[0035]供給設備20設置有第一工位A和第二工位B，其中，第一工位A與輸送入口 30相對應，第二工位B與輸送出口處31相對應。
[0036]供給設備20可以包括至少兩個卷軸，以及部分位于清潔軌道02上的清潔布210。具體的，位于第一工位A的卷軸201與清潔布210的一端相連接，可以在控制器10的控制下進行旋轉，將清潔布210從輸送入口 30傳送至清潔軌道02上。位于第二工位B的卷軸202與清潔布210的另一端相連接，可以在控制器10的控制下進行旋轉，將穿過輸送出口的清潔后的清潔布210進行收集。
[0037]需要說明的是，第一、上述控制器10可以是PC(Personal Computer，個人計算機)。這樣一來，工作人員可以根據(jù)