一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及光學(xué)鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著軍事和民用技術(shù)的迅速發(fā)展，在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，光學(xué)元件的需求尺寸越來(lái)越大，特別是大尺寸的平板元件使用越來(lái)越多，這就給光學(xué)元件的表面清潔帶來(lái)極大的困難。一般小尺寸的光學(xué)元件都采用手持擦拭的方式進(jìn)行，一手托持，一手擦拭。但光學(xué)元件直徑超過(guò)120_時(shí)，用單手托持就不太合適，目前常用的方法是采取一手扶持一手擦拭的方式，但在反復(fù)擦拭和檢查過(guò)程中很容易造成邊緣二次玷污，影響光學(xué)元件擦拭清潔的效率。同時(shí)大尺寸光學(xué)元件質(zhì)量較重，容易手滑造成光學(xué)元件損壞。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為了解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的是提供一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其可以在擦拭清潔光學(xué)元件表面時(shí)供大尺寸平面光學(xué)元件托放固定，有助于快速、安全、有效的清潔光學(xué)元件。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采取以下技術(shù)方案:
[0005]一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，它包括上部用于托放光學(xué)元件的托盤(pán)及設(shè)于該托盤(pán)下部的支座；該托盤(pán)上表面周緣具有環(huán)形的第一凸緣，該第一凸緣上具有環(huán)形的第二凸緣，該托盤(pán)上表面、該第一凸緣上表面與該第二凸緣的上表面形成臺(tái)階狀；該支座內(nèi)部具有負(fù)壓腔室，頂部為帶若干氣孔的平面；該支座具有抽氣閥門(mén)及進(jìn)氣閥門(mén)，均與該負(fù)壓腔室連通。
[0006]進(jìn)一步的，所述支座頂部的平面與所述托盤(pán)的下表面之間設(shè)有密封圈，所述氣孔位于所述密封圈內(nèi)部。
[0007]進(jìn)一步的，所述支座頂部的平面設(shè)有下凹的環(huán)槽，形狀與所述密封圈對(duì)應(yīng)，所述密封圈設(shè)于該環(huán)槽中。
[0008]優(yōu)選的，所述密封圈為氟橡膠密封圈。
[0009]進(jìn)一步的，所述第二凸緣的高度小于所述光學(xué)元件的厚度。
[0010]進(jìn)一步的，所述托盤(pán)為圓形或方形。
[0011]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型在光學(xué)元件的擦拭清潔過(guò)程中，可以實(shí)現(xiàn)非人工托持，可以有效提高擦拭清潔效率，并且能夠保護(hù)其光學(xué)表面。
【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2是本實(shí)用新型的支座的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]以下將以具體實(shí)施實(shí)例結(jié)合附圖來(lái)說(shuō)明本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)和所能達(dá)到的技術(shù)效果，但所選用的實(shí)例僅用于說(shuō)明解釋?zhuān)⒎窍拗票緦?shí)用新型的范圍。
[0015]如圖1和圖2所示，本實(shí)用新型提供一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，它包括托盤(pán)I及設(shè)于該托盤(pán)I下部的支座2。該托盤(pán)I尺寸按照所需擦拭的光學(xué)元件尺寸進(jìn)行制作，可以為圓形或方形，其上表面周緣具有環(huán)形的第一凸緣11，該第一凸緣11上具有環(huán)形的第二凸緣12，該托盤(pán)I上表面、該第一凸緣11上表面與該第二凸緣12的上表面形成臺(tái)階狀，而該第一凸緣11與該托盤(pán)I上表面之間形成凹坑。該第一凸緣11上表面即用于托放光學(xué)元件3，該第二凸緣12用于阻擋光學(xué)元件3滑動(dòng)。該第一凸緣11上表面的寬度需根據(jù)凹坑尺寸確定，而凹坑尺寸需要根據(jù)光學(xué)元件3鍍膜后所要求的通光孔徑設(shè)計(jì)。另外，該第二凸緣12的高度最好小于該光學(xué)元件3的厚度，使得光學(xué)元件3放置到托盤(pán)I上后，要保證光學(xué)元件3上表面高于該第二凸緣12上表面，使得光學(xué)元件3待清潔的一面可以得到完全徹底地清洗擦拭。
[0016]如圖1、圖2所示，該支座2內(nèi)部具有負(fù)壓腔室21，頂部為帶若干氣孔22的平面。該支座2具有抽氣閥門(mén)4及進(jìn)氣閥門(mén)5，均與該負(fù)壓腔室21連通。抽氣設(shè)備和該抽氣閥門(mén)4連接后使得該負(fù)壓腔室21內(nèi)呈負(fù)壓，進(jìn)而吸緊上部的托盤(pán)I。為了更好地吸緊該托盤(pán)1，該支座2頂部的平面與該托盤(pán)I的下表面之間設(shè)有密封圈6，該氣孔22位于該密封圈6內(nèi)部。通過(guò)密封圈6的密封作用，負(fù)壓腔室21和托盤(pán)I之間可以形成密閉的真空腔體。而該支座2頂部的平面設(shè)有下凹的環(huán)槽23，形狀與該密封圈6對(duì)應(yīng)，該密封圈6設(shè)于該環(huán)槽23中。優(yōu)選的，該密封圈6為氟橡膠密封圈。進(jìn)氣閥門(mén)5可以實(shí)現(xiàn)鍍膜光學(xué)元件3擦拭完畢后進(jìn)氣消除負(fù)壓，取下托盤(pán)I和其上的待鍍膜光學(xué)元件3。
[0017]本實(shí)用新型鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置在使用和操作時(shí)，首先將待擦拭鍍膜的光學(xué)元件3放置在托盤(pán)I上，然后將托盤(pán)I放置在支座2上方，放置時(shí)確認(rèn)環(huán)形密封圈6四周高度一致，保證密封效果，通過(guò)抽氣閥門(mén)4對(duì)負(fù)壓腔室21進(jìn)行抽真空，用手晃動(dòng)托盤(pán)I確定其吸牢后，根據(jù)既有的窗口擦拭工藝對(duì)帶鍍膜光學(xué)元件3進(jìn)行清潔。清潔完畢后，關(guān)閉真空泵，一手扶穩(wěn)托盤(pán)1，一手打開(kāi)進(jìn)氣閥門(mén)5，待負(fù)壓腔室21壓力恢復(fù)大氣壓后，將托盤(pán)I取下并取下待鍍膜光學(xué)元件3。
[0018]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:
[0019]1.避免了手持擦拭和檢查過(guò)程中光學(xué)元件的邊緣二次玷污。
[0020]2.減少了人工手持光學(xué)元件的時(shí)間，對(duì)于較重的大尺寸光學(xué)元件，降低了勞動(dòng)強(qiáng)度；
[0021]3.采用真空吸附的方式，可以通過(guò)開(kāi)閉閥門(mén)，快速取放托盤(pán)及光學(xué)元件；
[0022]4.手持擦拭過(guò)程中會(huì)存在光學(xué)元件受力不均，會(huì)影響光學(xué)元件的擦拭效率，而本實(shí)用新型采用平面真空吸附固定的方式，保證擦拭過(guò)程中整個(gè)面上受力均勻，提高了大尺寸光學(xué)元件的擦拭清潔效率。
[0023]需要指出的是，上述實(shí)施方式僅僅是可能的實(shí)施例，是為了清楚地理解本實(shí)用新型的原理而提出的?？梢栽诓槐畴x本實(shí)用新型原理和范圍的情況下對(duì)上述本實(shí)用新型的實(shí)施方式進(jìn)行許多變化和修改。所有這些修改和變化都包括在本實(shí)用新型揭示的范圍中，并且受到所附權(quán)利要求的保護(hù)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于，它包括上部用于托放光學(xué)元件的托盤(pán)及設(shè)于該托盤(pán)下部的支座；該托盤(pán)上表面周緣具有環(huán)形的第一凸緣，該第一凸緣上具有環(huán)形的第二凸緣，該托盤(pán)上表面、該第一凸緣上表面與該第二凸緣的上表面形成臺(tái)階狀；該支座內(nèi)部具有負(fù)壓腔室，頂部為帶若干氣孔的平面；該支座具有抽氣閥門(mén)及進(jìn)氣閥門(mén)，均與該負(fù)壓腔室連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述支座頂部的平面與所述托盤(pán)的下表面之間設(shè)有密封圈，所述氣孔位于所述密封圈內(nèi)部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述支座頂部的平面設(shè)有下凹的環(huán)槽，形狀與所述密封圈對(duì)應(yīng)，所述密封圈設(shè)于該環(huán)槽中。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述密封圈為氟橡膠密封圈。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述第二凸緣的高度小于所述光學(xué)元件的厚度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，其特征在于:所述托盤(pán)為圓形或方形。
【專(zhuān)利摘要】一種鍍膜光學(xué)元件擦拭固定裝置，它包括上部用于托放光學(xué)元件的托盤(pán)及設(shè)于該托盤(pán)下部的支座；該托盤(pán)上表面周緣具有環(huán)形的第一凸緣，該第一凸緣上具有環(huán)形的第二凸緣，該托盤(pán)上表面、該第一凸緣上表面與該第二凸緣的上表面形成臺(tái)階狀；該支座內(nèi)部具有負(fù)壓腔室，頂部為帶若干氣孔的平面；該支座具有抽氣閥門(mén)及進(jìn)氣閥門(mén)，均與該負(fù)壓腔室連通。本實(shí)用新型在光學(xué)元件的擦拭清潔過(guò)程中，可以實(shí)現(xiàn)非人工托持，可以有效提高擦拭清潔效率，并且能夠保護(hù)其光學(xué)表面。
【IPC分類(lèi)】B08B1-00, B08B11-02
【公開(kāi)號(hào)】CN204365679
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420806861
【發(fā)明人】劉偉, 許寧, 張曉濤
【申請(qǐng)人】北京國(guó)晶輝紅外光學(xué)科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年6月3日
【申請(qǐng)日】2014年12月17日