一種硅片清洗搖動裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及單晶硅片清洗過程中用到的輔助清洗裝置，具體為一種硅片清洗搖動裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]單晶硅片在拋光前后均需要對硅片進(jìn)行清洗，拋光前的清洗可以使硅片表面更加干凈，蠟層附著更均勻，拋出的硅片有更好的表面質(zhì)量；拋光后的清洗，可以除去拋光后粘附在硅片表面的有機(jī)物和無機(jī)物，使拋光硅片更好的滿足工藝的要求。
[0003]現(xiàn)有的硅片清洗過程通常是在硅片清洗機(jī)上進(jìn)行，清洗時(shí)將裝有硅片的片盒放置在清洗機(jī)的化學(xué)液清洗槽內(nèi)，通過循環(huán)栗對清洗槽內(nèi)的清洗液進(jìn)行循環(huán)流動，并輔以兆聲/超聲作用來對硅片進(jìn)行清洗。此種清洗方式，硅片在清洗過程中靜止不動，僅依靠循環(huán)栗產(chǎn)生化學(xué)液流動來清洗，清洗效率過低，加之由于硅片之間的間隙很小，兆聲/超聲的作用有限，只能把硅片表面的異物疏松，并不能將其更好地剝落到化學(xué)液里。硅片表面或者硅片靠近片盒的邊緣也容易殘留化學(xué)液及其它顆粒等異物，造成清洗時(shí)間過長，返洗率高，影響生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種硅片清洗搖動裝置，以使硅片在清洗過程中能夠上下運(yùn)動，并在娃片表面廣生流動的清洗水流，從而提尚娃片的清洗效率和清洗能力。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種硅片清洗搖動裝置，包括一個(gè)氣缸、升降架和硅片承載架，升降架由水平設(shè)置的連接軸和豎直設(shè)置在連接軸兩端的立桿組成，連接軸與氣缸活塞桿的伸縮端連接，以使升降架在氣缸驅(qū)動下做往復(fù)升降運(yùn)動，與兩個(gè)立桿相對應(yīng)的位置分別設(shè)有一個(gè)導(dǎo)向柱，立桿通過其側(cè)部設(shè)置的滑塊滑動設(shè)置在導(dǎo)向柱的導(dǎo)槽內(nèi)，硅片承載架包括一個(gè)底板，底板上設(shè)有多個(gè)凸起塊，多個(gè)凸起塊與底板之間形成用于放置硅片清洗籃的卡槽，底板上分布有多個(gè)透水孔，底板的兩側(cè)各設(shè)有兩個(gè)連接桿，同一側(cè)的兩個(gè)連接桿的頂端由一個(gè)耳板連接，兩個(gè)耳板分別與升降架的兩個(gè)立桿的頂端連接，以使硅片承載架在升降架帶動下能夠在硅片清洗機(jī)的清洗槽內(nèi)上下運(yùn)動。
[0006]有益效果:本實(shí)用新型通過氣缸驅(qū)動升降架運(yùn)動，進(jìn)而通過硅片承載架帶動裝載有硅片的清洗籃在清洗槽內(nèi)做往復(fù)升降運(yùn)動，從而通過硅片表面產(chǎn)生的流動清洗水流對硅片進(jìn)行清洗，有效提高了硅片的清洗能力和清洗效率，返洗率低、產(chǎn)品質(zhì)量好。本實(shí)用新型的運(yùn)動由氣缸驅(qū)動控制，容易調(diào)節(jié)硅片承載架的運(yùn)動幅度和頻率，便于與現(xiàn)有的硅片清洗機(jī)組合使用。
【附圖說明】
[0007]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0008]圖2為娃片承載架的主視圖。
[0009]圖3為硅片承載架的俯視圖。
[0010]圖中標(biāo)記:1、電磁閥，2、壓空管道，3、氣缸，4、連接軸，5、導(dǎo)向柱，6、立桿，7、硅片承載架，71、底板，72、連接桿，73、耳板，74、透水孔，75、凸起塊，8、硅片清洗籃。
【具體實(shí)施方式】
[0011]如圖所示，一種硅片清洗搖動裝置，包括一個(gè)氣缸3、升降架和硅片承載架7，升降架由水平設(shè)置的連接軸4和豎直設(shè)置在連接軸4兩端的立桿6組成，連接軸4與氣缸活塞桿的伸縮端連接，以使升降架在氣缸3驅(qū)動下做往復(fù)升降運(yùn)動，與兩個(gè)立桿6相對應(yīng)的位置分別設(shè)有一個(gè)導(dǎo)向柱5，立桿6通過其側(cè)部設(shè)置的滑塊滑動設(shè)置在導(dǎo)向柱5的導(dǎo)槽內(nèi)，導(dǎo)向柱5的設(shè)置使升降架的升降運(yùn)動更加平穩(wěn)，硅片承載架7包括一個(gè)底板71，底板71上設(shè)有多個(gè)凸起塊75，多個(gè)凸起塊75與底板71之間形成用于放置硅片清洗籃8的卡槽，底板71上分布有多個(gè)透水孔74，底板71的兩側(cè)各設(shè)有兩個(gè)連接桿72，同一側(cè)的兩個(gè)連接桿72的頂端由一個(gè)耳板73連接，兩個(gè)耳板73分別與升降架的兩個(gè)立桿6的頂端連接，以使硅片承載架7在升降架帶動下能夠在硅片清洗機(jī)的清洗槽內(nèi)上下運(yùn)動，待清洗的硅片放置在硅片清洗籃8內(nèi)，隨硅片承載架7在清洗槽內(nèi)上下往復(fù)運(yùn)動，從而通過硅片與清洗液水流之間的相互摩擦運(yùn)動將硅片表面疏松的顆粒物等異物沖洗掉，清洗效果明顯了得到提高。硅片承載架7的底板71為耐腐蝕且不產(chǎn)生顆粒的石英材料，連接桿72為四氟塑料等材料，耳板73為表面涂有防腐的四氟涂層。氣缸驅(qū)動氣體-壓縮空氣經(jīng)兩位四通電磁閥1、壓空管道2送至氣缸3內(nèi)，驅(qū)動氣缸活塞桿做往復(fù)運(yùn)動。
[0012]進(jìn)一步地，所述硅片承載架7的底板71上方設(shè)有多層硅片載板，硅片載板與底板71兩側(cè)設(shè)置的連接桿72連接，硅片載板的結(jié)構(gòu)可設(shè)計(jì)為與底板71結(jié)構(gòu)相同。硅片載板的設(shè)置可增加裝置的清洗量。硅片承載架7的底板71上還可以設(shè)置轉(zhuǎn)動裝置用于使硅片清洗籃8在升降過程中同時(shí)在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)，使硅片清洗無死角。
[0013]本實(shí)用新型還可以通過設(shè)置兩個(gè)氣缸來直接同步驅(qū)動硅片承載架7做往復(fù)升降運(yùn)動，即硅片承載架7兩側(cè)的兩個(gè)耳板73分別與兩個(gè)氣缸的活塞桿連接，兩個(gè)氣缸同步運(yùn)動共同驅(qū)動硅片承載架7上下運(yùn)動。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種硅片清洗搖動裝置，其特征在于:包括一個(gè)氣缸(3)、升降架和硅片承載架(7)，升降架由水平設(shè)置的連接軸(4)和豎直設(shè)置在連接軸(4)兩端的立桿(6)組成，連接軸(4)與氣缸活塞桿的伸縮端連接，以使升降架在氣缸(3)驅(qū)動下做往復(fù)升降運(yùn)動，與兩個(gè)立桿(6)相對應(yīng)的位置分別設(shè)有一個(gè)導(dǎo)向柱(5)，立桿(6)通過其側(cè)部設(shè)置的滑塊滑動設(shè)置在導(dǎo)向柱(5)的導(dǎo)槽內(nèi)，硅片承載架(7)包括一個(gè)底板(71)，底板(71)上設(shè)有多個(gè)凸起塊(75)，多個(gè)凸起塊(75)與底板(71)之間形成用于放置硅片清洗籃(8)的卡槽，底板(71)上分布有多個(gè)透水孔(74)，底板(71)的兩側(cè)各設(shè)有兩個(gè)連接桿(72)，同一側(cè)的兩個(gè)連接桿(72)的頂端由一個(gè)耳板(73)連接，兩個(gè)耳板(73)分別與升降架的兩個(gè)立桿(6)的頂端連接，以使硅片承載架(7)在升降架帶動下能夠在硅片清洗機(jī)的清洗槽內(nèi)上下運(yùn)動。
【專利摘要】一種硅片清洗搖動裝置，涉及硅片清洗過程中用到的輔助清洗裝置，包括一個(gè)氣缸、升降架和硅片承載架，升降架由水平設(shè)置的連接軸和豎直設(shè)置在連接軸兩端的立桿組成，連接軸與氣缸活塞桿的伸縮端連接，與兩個(gè)立桿相對應(yīng)的位置分別設(shè)有一個(gè)導(dǎo)向柱，立桿通過其側(cè)部設(shè)置的滑塊滑動設(shè)置在導(dǎo)向柱的導(dǎo)槽內(nèi)，硅片承載架包括一個(gè)底板，底板上設(shè)有透水孔和用于固定硅片清洗籃的卡槽，底板的兩側(cè)各設(shè)有兩個(gè)連接桿，同一側(cè)的兩個(gè)連接桿的頂端由一個(gè)耳板連接，兩個(gè)耳板分別與升降架的兩個(gè)立桿的頂端連接，以使硅片承載架在升降架帶動下能夠在硅片清洗機(jī)的清洗槽內(nèi)上下運(yùn)動。本實(shí)用新型能夠使硅片在清洗過程中上下運(yùn)動，提高了硅片的清洗效率和清洗能力。
【IPC分類】B08B3/08, B08B3/10
【公開號】CN204912170
【申請?zhí)枴緾N201520529968
【發(fā)明人】郭光燦, 范強(qiáng), 魏海霞, 王勇
【申請人】麥斯克電子材料有限公司
【公開日】2015年12月30日
【申請日】2015年7月21日