專利名稱：處理氣流的方法
處理氣流的方法本發(fā)明涉及用于處理氣流的方法以及設備，特別地涉及對包含 有含硅氣體，比如自燃氣體如硅烷的氣流的處理。使用自燃氣體將處理層沉積于硅片或平板顯示器上已司空見 慣。這些氣體包括硅烷、二硅烷、二氯硅烷以及三氯硅烷。自燃氣 體可以引起風險，即遇到空氣時它們可以引起自發(fā)及不受控制的自 燃反應。為了降低不受控制的自燃反應的風險，該反應由于在從處 理工具中排出的廢棄流中存在自燃氣體而導致，采用"燃燒箱"或 "燃燒管"，通過引起自燃氣體與空氣的反應來去除自燃氣體，使 其濃度低于可燃極限的做法已司空見慣。這些燃燒管裝置主要包括 反應腔室，其具有入口，用于接收包含有自燃氣體的流以及接收用于在該腔室內(nèi)產(chǎn)生可控的及內(nèi)含的自燃反應的流；以及包括用于從 該腔室內(nèi)傳送該廢棄流的排出管道。當例如硅烷燃燒時，形成大量硅粉，其能夠迅速地堵塞該反應 腔室、入口以及下游管道。作為結(jié)果，必須對該裝置進行常規(guī)清洗， 該清洗增加了成本并且招致該處理工具的停工。此外，如果發(fā)生故 障，該裝置內(nèi)的溫度能夠迅速地升高，從而引起火險。而且，這已 成為慣例使用稀釋氣體，典型地為氮氣，將帶有硅烷氣體的流稀 釋至一定等級，在該等級，硅烷氣體在泵抽機構內(nèi)或泵抽機構之后 不可以燃燒，以便將該廢棄流從處理腔室中吸出(常常推薦低于1%的 等級)。這種稀釋致使燃燒管的后續(xù)使用無效。本發(fā)明的至少一個優(yōu)選實施例的目的是力求解決這些以及其它 問題。在第 一 方面，本發(fā)明提供處理包含有含硅氣體的氣流的方法， 該方法包括步驟將氣流傳送到泵內(nèi)；給該泵供應氧化劑以便在該 泵內(nèi)氧化該含硅氣體以及供應液體；以及從該泵內(nèi)排出包含有含硅氣體的氧化副產(chǎn)品的液體。在一個實施例中，該泵包括液環(huán)泵(liquid ring pump)。液環(huán)泵包 括轉(zhuǎn)動地安裝在環(huán)形殼體內(nèi)的轉(zhuǎn)子，使得該轉(zhuǎn)子軸線與該殼體的中 央軸線不同心。該轉(zhuǎn)子具有葉片，其徑向向外地自該轉(zhuǎn)子延伸并且 其均勻地圍繞該轉(zhuǎn)子而隔開。 一定量的泵抽液體比如水維持于該殼 體內(nèi)。當該轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)動時，該轉(zhuǎn)子葉片與該液體接合并使該液體在該 殼體內(nèi)部形成環(huán)形圓環(huán)。這意味著在該泵的入口側(cè)，存在于位于 相鄰轉(zhuǎn)子葉片之間的壓縮區(qū)域內(nèi)的氣體，從該轉(zhuǎn)子輪轂徑向向外地 迅速移動，而在該泵的出口側(cè)，該氣體徑向向內(nèi)地朝著該轉(zhuǎn)子輪轂 迅速移動。從而在穿過該泵的氣體上引起活塞型泵抽動作。在該優(yōu)選實施例中，第一氣體入口提供于該泵的入口側(cè)，使得 包含有含硅氣體比如硅烷的氣流被拉動到位于相鄰轉(zhuǎn)子葉片之間的 空間內(nèi)，該液體在該空間內(nèi)徑向向外地移動。第二氣體入口同時提 供于該泵的入口側(cè)，用于將第二氣流比如空氣或其它含氧氣體傳送 到該殼體內(nèi)。用于將液體傳送到該殼體內(nèi)以便在該殼體內(nèi)形成液環(huán) 的另一個入口，典型地提供于該殼體的底部，并介于該泵的入口側(cè) 與出口側(cè)之間。在該殼體內(nèi)，發(fā)生硅烷的氣相氧化作用。比如，當 該氧化劑為氧氣時，該氧化作用形成二氧化硅(SiO》，其夾帶于該液 環(huán)內(nèi)。出口提供于該出口側(cè)，以《更液體流可以乂人該泵釋》文，該液體 流包含有液體以及從該反應得來的固體副產(chǎn)品，連同其它任何進入 該泵內(nèi)的第 一 氣流與第二氣流的組分。在另 一 個實施例中，該泵包括螺桿泵抽機構(screw pumping mechanism),優(yōu)選地為多轉(zhuǎn)子螺桿機構。多轉(zhuǎn)子螺桿機構泵能泵抽氣 體與液體的混合物，并且因此能夠作為本發(fā)明的液環(huán)泵的替代物使用。多轉(zhuǎn)子螺桿泵抽機構包括兩個或多個位于靜止的定子內(nèi)的轉(zhuǎn)動 螺桿，在該轉(zhuǎn)動螺桿內(nèi)，流體被軸向地傳輸?shù)娇涨粌?nèi)，該空腔由該 螺桿轉(zhuǎn)子的嚙合齒形成。流體穿過該機構運動的方向取決于該螺桿 轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)動方向。不在該泵自身內(nèi)提供壓縮，而是通過對出口的限 制來提供，該壓縮常常僅僅是大氣壓。在該實施例中，在該泵的入口端部提供主氣體入口 ，因此該包 含有含硅氣體的氣流被吸入該泵內(nèi)。進一 步地沿著該轉(zhuǎn)子的第二氣 體入口允許引入該第二氣流，該第二氣流包含有氧化劑(比如氧氣、 臭氧、過氧化物、空氣或者卣化物)。第三入口供引入液體流，其可 以被連續(xù)地或間歇性地引入。在該第二氣體入口處以及其下游，該兩股氣流在該泵的殼體內(nèi) 混合并且發(fā)生該含硅氣體的氣相氧化。與該液環(huán)泵類似，該固體氧 化副產(chǎn)品(比如，在硅烷氧化的情況下為二氧化硅)被該液體流所夾 帶。該泵的出口允許將該液體流從該泵釋》文出去。該液環(huán)泵或者螺桿機構泵因此作為用于消除該含硅氣體的消除 裝置而運行，并且作為用于該第一氣流的大氣真空泵抽級而運行。 關于該液環(huán)泵或者螺桿機構泵的消除方面，該泵內(nèi)減小的壓力為氣 體氧化提供了安全的環(huán)境。在氧化過程中產(chǎn)生的熱量傳遞到該泵內(nèi) 的液體中。因此，在使用過程中，相對較熱的液體從該泵排出，并 且4皮進入該泵內(nèi)的相對4交冷的液體所替換。這可以防止該泵內(nèi)過分 的溫度升高。此外，由于來自氧化的任何固體副產(chǎn)品借助液體而從 該泵內(nèi)除去，該泵或者來自該泵的出口沒有發(fā)生阻塞，并且因此沒 有必要提供任何單獨的設置，以便將固體副產(chǎn)品從泵除去。而且， 當位于該泵內(nèi)的液體為水或者其它含水溶液時，水從該液體的蒸發(fā) 以及噴濺可以在該泵內(nèi)產(chǎn)生潮濕大氣。這被發(fā)現(xiàn)有利于促進含硅氣 體比如硅烷的氧化。此外，不需要對該含硅烷流進行稀釋，從而節(jié) 約了巨大成本。關于該液環(huán)泵或者螺桿機構泵的泵抽方面，不像Root或者 Northey類型的泵抽機構，其可以作為大氣壓泵抽級使用，任何來自 對該含硅氣體的消除中的顆粒副產(chǎn)品或者粉末副產(chǎn)品不會對該泵的 機構具有有害影響。 在優(yōu)選實施例中，該含硅氣體為用于半導體裝置制造中的先驅(qū)體(precursor)。這些含硅氣體的例子包括硅烷、二硅烷、二氯硅烷、 三氯硅烷、正硅酸乙酯(TEOS)、硅氧烷比如八甲基環(huán)四石圭氧烷 (OMCTS)、有機硅烷。該含硅氣體可以具有自燃性，并且因此本發(fā) 明的第二方面提供一種處理包含有自燃氣體的氣流的方法。該方法包括如下步驟將氣流傳送到泵，給該泵供應氧化劑以便在該泵內(nèi) 氧化該自燃氣體并給該泵供應液體；以及從該泵內(nèi)排出包含有自燃 氣體氧化副產(chǎn)品的液體。除了含硅氣體之外，其它可以用這種方式處理的自燃氣體包括 金屬氫化物以及其它非金屬氫化物，比如乙硼烷和磷化氫。除了氧 氣流之外，該第二氣流可以包括空氣。其它合適的氧化劑包括卣素， 比如氯和溴， 一氧化氮、臭氧以及過氧化物。本發(fā)明的第三方面提供用于處理包含有含硅氣體的氣流的設 備。該設備包括用于接收該氣流的泵，用于給該泵供應用以在該泵 內(nèi)氧化該含硅氣體的氧化劑并給該泵供應液體的機構；以及從該泵 內(nèi)傳送包含有位于該泵內(nèi)的含硅氣體氧化副產(chǎn)品的液體的機構。本發(fā)明的第四方面提供一種設備，用于處理包含有自燃氣體的 氣流。該設備包括用于接收該氣流的泵，用于給該泵供應用以在該 泵內(nèi)氧化自燃氣體的氧化劑并給該泵供應液體的機構；以及從該泵 內(nèi)傳送包含有位于該泵內(nèi)的自燃氣體氧化副產(chǎn)品的液體的機構。在第五方面，本發(fā)明提供一種系統(tǒng)，用于對處理腔室進行抽空。 該系統(tǒng)包括用于將氣流從該腔室吸出的真空泵，以及前述用于從該 真空泵接收氣流的設備。上述相對于本發(fā)明的方法方面的特征可以平等地應用于設備方 面以及系統(tǒng)方面，反之亦然。下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的優(yōu)選特征進行描述，附圖中

圖1示意性地展示了對處理腔室進行抽空的系統(tǒng)。圖2示意性地展示了用于處理從該處理腔室吸出的氣流的設備
的一個實施例。圖3示意性地展示了用于處理從該處理腔室吸出的氣流的設備 的另一個實施例。首先參考圖1，處理腔室IO上設有至少一個入口 12,用于接收 一個或者多個來自氣體源的處理氣體，該處理氣體在圖1中大體上顯示為14。該處理腔室IO可以為腔室，其內(nèi)發(fā)生對半導體或者平板 顯示器裝置的處理。質(zhì)量流量控制器16可以提供于每個個別的處理 氣體。該質(zhì)量流量控制器由系統(tǒng)控制器所控制，以確保將所需要的 氣體量供應該處理腔室10。廢棄氣流借助在圖1中標號20處顯示的泵抽系統(tǒng)而從該處理腔 室10的出口 18^皮吸出。當該處理在該腔室10內(nèi)進行時，該供應到 腔室內(nèi)的處理氣體中的僅僅一部分將被消耗，并且因此，從該處理 腔室10的出口 18排出的廢棄氣流將包含供應到該腔室10內(nèi)的處理 氣體與來自在該腔室10內(nèi)進行的處理中的副產(chǎn)品的混合物。該泵抽系統(tǒng)20包括至少一個二級泵22(雖然根據(jù)該處理腔室10 的容量可以提供任何合適的數(shù)量，但在圖1中僅顯示了一個)。每個 二級泵22可以包括多級干燥泵，其中根據(jù)該處理腔室10的泵抽要 求，每個泵抽級可以由Roots型泵抽機構或Northey型泵抽機構、渦 輪分子泵、以及/或者分子拖動機構所提供。為了避免在對處理腔室 10進行抽空時該二級泵被損壞，如圖1所示，清洗氣體比如氮氣或 者氦氣可以通過管路系統(tǒng)24而供應給每個二級泵22，該管路系統(tǒng)24 將清洗氣體源26與每個二級泵22的清洗端口 28互相連4妄起來。該二級泵22將廢棄氣流從該處理腔室10的出口 18吸出，并且 在亞大氣壓的條件下，典型地在50-500mbar之間，將氣流從該二級 泵22的排出口 30排出。考慮到這些，該泵抽系統(tǒng)20包括前級泵32, 其具有第一入口 34，該第一入口 34借助管路系統(tǒng)36而連4妄到二級 泵22的排出口 30,該管路系統(tǒng)36用于將廢棄流傳送到前級泵32。根據(jù)在處理腔室10內(nèi)執(zhí)行的處理，進入前級泵32的廢棄流可 以包含一個或者多個含硅氣體，其作為在半導體裝置制造過程中的 先驅(qū)體使用。這些氣體的例子可以包括硅烷、二硅烷、二氯硅烷、三氯硅烷、正硅酸乙酯(TEOS)、硅氧烷，比如八甲基環(huán)四硅氧烷 (OMCTS),以及有機硅烷。比如硅烷，在化學氣相沉積(CVD)流程中 的多晶硅層沉積或者硅氧化物層沉積中典型地作為處理氣體使用。 這種氣體可以自燃。考慮到這些，該前級泵32配置成執(zhí)行包含在廢棄流中的含硅氣 體的可控制氧化。現(xiàn)在參考圖2和圖3描述合適的前級泵的兩個實 施例。在第一個實施例中，該前級泵由液環(huán)泵提供，而在該第二個 實施例中，該前級泵由具有螺桿泵抽機構的泵提供。首先參考圖1，該液環(huán)泵32包括靠近該第一入口 34而定位的第 二入口 38,該第一入口 34位于該液環(huán)泵32的入口側(cè)，如圖2所示。 用于在該廢棄流內(nèi)氧化任何含硅氣體，比如在本實施例中為硅烷， 的氧化劑源40，借助管路系統(tǒng)42而連接于該液環(huán)泵32的第二入口 38,該管路系統(tǒng)42給該液環(huán)泵32供應氧化劑。該源40可以方便地 包括空氣源，其包含用于氧化該硅烷的氧氣。其它替代物包括臭氧、 一氧化氮以及過氧化物。該液環(huán)泵32進一步包括第三入口 44，經(jīng)由 該第三入口 44,用于在泵32內(nèi)形成液環(huán)48的液體借助管^^系統(tǒng)52 而從其源50被傳送。在該實施例中，該液體為水，但是可以使用任 何其它含水溶液。如圖2所示，該液環(huán)泵32包括轉(zhuǎn)動地安裝在環(huán)形殼體56內(nèi)的 轉(zhuǎn)子54，使得該轉(zhuǎn)子軸線58與該殼體56的中央軸線60不同心。該 轉(zhuǎn)子54具有葉片62,其徑向向外地自該轉(zhuǎn)子延伸并且其均勻地圍繞 該轉(zhuǎn)子54而隔開。當該轉(zhuǎn)子54轉(zhuǎn)動時，該葉片62與該液體4妄合并 使該液體在該殼體56內(nèi)部形成環(huán)形圓環(huán)48。通過該第一入口 34而進入該液環(huán)泵32內(nèi)的廢棄流，以及通過 該第二入口 38而進入該液環(huán)泵32內(nèi)的空氣流，被拉動到位于相鄰 葉片62之間的空間63內(nèi)。作為結(jié)果，在亞大氣壓下，該液環(huán)泵32 內(nèi)發(fā)生了包含于該廢棄流內(nèi)的硅烷氣相氧化。比如，當該氧化劑為氧氣時，該發(fā)生于液環(huán)泵32內(nèi)的反應形成二氧化硅(SiO》，其夾帶 于形成于該液環(huán)泵32內(nèi)的液環(huán)48內(nèi)。該液環(huán)泵32在其出口側(cè)設有 排出口 64,用于將包含有來自該液環(huán)48的液體以及來自該硅烷氧化 的副產(chǎn)品的液體流從該泵32排出。由于液體借助管路系統(tǒng)66而/人 其排出口被傳送，該液環(huán)48可以借助經(jīng)由第三入口 44給該殼體56 供應新鮮液體的方式而被補充。從該液環(huán)泵32排出的液體流可以隨 后被處理，以便從該液體流中除去副產(chǎn)品。在處理之后，該經(jīng)處理 的液體可以回流到源50，以供再使用。現(xiàn)在參考圖3描述實施例，在該實施例中，該前級泵32上設有 螺桿型泵抽機構，在該圖3中，與結(jié)合液環(huán)泵描述的那些特征等同 的特征將賦予相同的標號。第一入口 34定位于該泵的入口側(cè)，經(jīng)過該第一入口 34，該廢棄 流進入該泵32內(nèi)。如圖3所示，該第二入口 38靠近位于該泵32的 入口側(cè)的第一入口 34而定位。用于在該廢棄流內(nèi)氧化任何石圭烷的氧 化劑源40,借助該泵32的管路系統(tǒng)42而連接于該泵32的第二入口 38,該管路系統(tǒng)42給該泵32供應氧化劑。如上所述，該源40可以 方便地包括空氣源，其包含用于氧化該硅烷的氧氣，或者可以使用 任何其它合適的氧化劑。該泵32進一步包括第三入口 44,經(jīng)由該第 三入口 44,用于沖刷位于泵32內(nèi)的泵殼體70的液體借助管路系統(tǒng) 52而從其源50凈支傳送。在該實施例中，該液體為水，^f旦是可以使用 任何其它含水溶液。該液體可以間歇性地供應給泵32。如圖3所示，該泵32包括第一軸72以及與其隔開并與其平行 的第二軸74。提供軸承用于支撐該軸72、 74。該軸72、 74適于在 該殼體70內(nèi)繞縱向軸以反旋轉(zhuǎn)方向轉(zhuǎn)動。該第一軸72連沖妄于驅(qū)動 馬達76，這些軸借助正時齒輪78而互相配接起來，以便在使用時， 軸72、 74以相同的速度但卻以相反的方向轉(zhuǎn)動。第一轉(zhuǎn)子80安裝 于該第一軸72上，用于在該腔室70內(nèi)作旋轉(zhuǎn)運動，并且類似地，
第二轉(zhuǎn)子82安裝于該第二軸74上。該兩個轉(zhuǎn)子80、 82之中的每一 個大體上為圓柱體形狀并且具有個別地形成于其外表面上的螺旋翼 (helical vane)或者螺紋，如圖所示，這些螺紋互相嚙合。在使用時，通過該第一入口 34而進入該螺桿機構泵32內(nèi)的廢 棄流，以及通過該第二入口 38而進入該螺桿機構泵32內(nèi)的空氣流， 診皮拉動到位于互相嚙合的轉(zhuǎn)子80、 82之間的空腔82內(nèi)。作為結(jié)果， 在亞大氣壓下，該螺桿機構泵32內(nèi)發(fā)生了包含于該廢棄流內(nèi)的硅烷 氣相氧化。比如，當該氧化劑為氧氣時，該發(fā)生于螺桿機構泵68內(nèi) 的反應形成二氧化硅(SiO》，其夾帶于液體74內(nèi)，該液體74是通過 第三入口 44而間歇性地或連續(xù)地進入該螺桿^4勾泵32內(nèi)的。該螺 桿機構泵32的出口側(cè)設有排出口 64,用于將包含有液體以及來自該 硅烷氧化的副產(chǎn)品的液體流從該泵32排出。由于液體借助管路系統(tǒng) 66而從其排出口被傳送，該沖刷液體可以借助經(jīng)由第三入口 44給該 殼體70供應新鮮液體的方式而被補充。從該螺桿機構泵32排出的 液體流可以隨后被處理，以便從該液體流中除去副產(chǎn)品。在處理之 后，該經(jīng)處理的液體可以回流到源50,以供再使用。
權利要求
1.一種處理包含有含硅氣體的氣流的方法，所述方法包括步驟將所述氣流傳送到泵內(nèi)；給所述泵供應氧化劑和液體，所述氧化劑用于在所述泵內(nèi)氧化所述含硅氣體；以及從所述泵內(nèi)排出包含有所述含硅氣體的氧化副產(chǎn)品的所述液體。
2. 如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述含硅氣體為用 于半導體裝置制造中的先驅(qū)體。
3. 如權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述含硅氣體 包括硅烷、二硅烷、二氯硅烷、三氯硅烷、正珪酸乙酯(TEOS)、硅 氧烷比如八甲基環(huán)四硅氧烷(OMCTS)、以及有機硅烷中的一種。
4. 如前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述含 硅氣體具有自燃性。
5. —種處理含有自燃氣體的氣流的方法，所述方法包括如下步 驟將所述氣流傳送到泵；給所述泵供應氧化劑和液體，所述氧化 劑用于在所述泵內(nèi)氧化所述自燃氣體；以及從所述泵內(nèi)排出含有所 述自燃氣體的氧化副產(chǎn)品的所述液體。
6. 如權利要求5所述的方法，其特征在于，所述自燃氣體為金 屬氫化物或非金屬氮化物，比如為硅烷、二硅烷、二氯硅烷、三氯 硅烷、磷化氫和乙硼烷中的一種。
7. 如前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述液 體與所述氧化劑分隔開地供應至所述泵。
8.如前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述液 體與所述氣流分隔開地供應至所述泵。
9. 如前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述液 體間歇性地供應至所述泵。
10. 如前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述氧 化劑為氧氣、臭氧、過氧化物以及卣化物中的一種。
11. 如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述氧氣通過夾 雜于空氣流中或其它含氧氣流中而供應至所述泵。
12. 如前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述自燃氣體為金屬氫化物或非金屬氫化物，比如為硅烷、二硅烷、二氯 硅烷、三氯硅烷、磷化氫和乙硼烷中的一種。
13. 如前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述液 體包括水或者含水溶液。
14. 如前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述氣 流在范圍為50-500mbar之間的壓力下傳送到所述泵。
15. 如前述權利要求中任一項所述的方法，其特征在于，所述泵 為液環(huán)泵，所述液體在所述液環(huán)泵內(nèi)形成液環(huán)。
16. 如權利要求15所述的方法，其特征在于，所述液體以一定 等級進入所述泵內(nèi)，所述等級低于含有所述副產(chǎn)品的所述液體從所 述泵排出時的等級。
17. 如權利要求1至14中任一項所述的方法，其特征在于，所 述泵包括互相嚙合的轉(zhuǎn)子。
18. 如權利要求17所述的方法，其特征在于，所述泵包括螺桿 型泵抽機構。
19. 一種用于處理包含有含硅氣體的氣流的設備，所述設備包 括用于接收所述氣流的泵；用于給所述泵供應用以在所迷泵內(nèi)氧化 所述含石圭氣體的氧化劑以及供應液體的機構；以及用于從所述泵內(nèi) 傳送包含有位于所述泵內(nèi)的含硅氣體的氧化副產(chǎn)品的液體的機構。
20. 如權利要求19所述的設備，其特征在于，所述泵包括用于 接收所述氣流的第一入口 ，以及用于接收所述氧化劑的第二入口。
21. 如權利要求20所述的設備，其特征在于，所述泵包括用于 接收所述液體的第三入口 。
22. 如權利要求19至21中任一項所述的設備，其特征在于，所 述供應機構包括給所述泵供應包含所述氧化劑的氣流的機構。
23. 如權利要求22所述的設備，其特征在于，所述氣流包括空 氣流、臭氧流、過氧化物流以及卣化物流中的至少一個。
24. 如權利要求19至23中任一項所述的設備，其特征在于，所 述供應機構包括給所述泵供應水流的機構。
25. 如權利要求19至24中任一項所述的設備，其特征在于，所 述泵為液環(huán)泵。
26. 如權利要求19至24中任一項所述的設備，其特征在于，所 述泵包括互相嚙合的轉(zhuǎn)子。
27. 如權利要求26所述的設備，其特征在于，所述泵包括螺桿 型泵抽機構。
28. —種用于對處理腔室進行抽空的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括用于將 氣流從所述腔室吸出的真空泵，以及用于從所述真空泵接收所述氣 流的根據(jù)權利要求19至27中任一項所述的設備。
29. 如權利要求28所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述真空泵配置 為在范圍為50-500mbar的壓力下將所述氣流排出。
30. 如權利要求28或29所述的系統(tǒng)，其特征在于，包括用于給 所述真空泵供應清洗氣體的機構。
31. 如權利要求30所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗氣體為 氮氣。
全文摘要
本發(fā)明描述了一種處理含有硅烷或其它含硅氣體的氣流的方法。在該方法中，該氣流傳送到液環(huán)泵或螺桿機構泵。同時提供用于在該泵內(nèi)氧化該含硅氣體的氧化劑，以及用于在該泵內(nèi)形成液環(huán)或用于間歇性沖刷的液體。包含有該液體以及該含硅氣體氧化副產(chǎn)品的液體流從該泵排出。
文檔編號B01D53/72GK101155634SQ200680009359
公開日2008年4月2日 申請日期2006年3月13日 優(yōu)先權日2005年3月22日
發(fā)明者G·P·奈特, J·R·史密斯 申請人:愛德華茲有限公司