專利名稱：雙層反向流淺池沉淀設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種水處理的沉淀設(shè)備，尤其是淺池沉 淀設(shè)備。
背景技術(shù)：
沉淀設(shè)備是單層的，由斜管或者斜板構(gòu)成，沉淀效果不 夠理想。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種沉淀效果好的雙層反向流淺池 沉淀設(shè)備。技術(shù)方案 一種雙層反向流淺池沉淀設(shè)備，具有由斜管或斜 板構(gòu)成的沉淀層，其特征在于具有兩個(gè)沉淀層，沉淀層分上下兩層， 下層向一側(cè)傾斜，上層向另一側(cè)傾斜，上層的下端與上層的頂端相接。 有益效果本實(shí)用新型把斜管或者斜板均分為上下兩層，上層沉淀污泥 沿斜管或者斜板滑下，形成一個(gè)薄層的污泥幕，水中沒有達(dá)到沉淀尺度 的小顆粒穿越它時(shí)碰撞長(zhǎng)大，沉速加快，增強(qiáng)了沉淀效果，減少了出水 中小礬花數(shù)量，提高了出水水質(zhì)。


附圖為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖所示，具有兩個(gè)由斜管或斜板構(gòu)成的沉淀層1、 2，沉淀層分上下兩層，下層向一側(cè)傾斜，上層向另一側(cè)傾斜，上層的下 端與上層的頂端相接；上面的沉淀層長(zhǎng)度大于下面的沉淀層。使用時(shí)， 下層支撐在沉淀池托架上，上層支撐在下層斜板上。下層水流是從下向 左上方流，上層水流是從下向右上方流。上層沉淀污泥沿斜管或者斜板 滑下，形成一個(gè)薄層的污泥幕，水中沒有達(dá)到沉淀尺度的小顆粒穿越它 時(shí)碰撞長(zhǎng)大，沉速加快，增強(qiáng)沉淀效果。
權(quán)利要求1、一種雙層反向流淺池沉淀設(shè)備，具有由斜管或斜板構(gòu)成的沉淀層，其特征在于具有兩個(gè)沉淀層，沉淀層分上下兩層，下層向一側(cè)傾斜，上層向另一側(cè)傾斜，上層的下端與上層的頂端相接。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層反向流淺池沉淀設(shè)備，其特征在 于上面的沉淀層長(zhǎng)度大于下面的沉淀層。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種雙層反向流淺池沉淀設(shè)備，沉淀效果好。技術(shù)方案一種雙層反向流淺池沉淀設(shè)備，具有由斜管或斜板構(gòu)成的沉淀層，其特征在于具有兩個(gè)沉淀層，沉淀層分上下兩層，下層向一側(cè)傾斜，上層向另一側(cè)傾斜，上層的下端與上層的頂端相接。本實(shí)用新型把斜管或者斜板均分為上下兩層，上層沉淀污泥沿斜管或者斜板滑下，形成一個(gè)薄層的污泥幕，水中沒有達(dá)到沉淀尺度的小顆粒穿越它時(shí)碰撞長(zhǎng)大，沉速加快，增強(qiáng)了沉淀效果，減少了出水中小礬花數(shù)量，提高了出水水質(zhì)。
文檔編號(hào)B01D21/02GK201094870SQ200720189889
公開日2008年8月6日 申請(qǐng)日期2007年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月23日
發(fā)明者磊 王 申請(qǐng)人:磊 王