專利名稱：一種滴管支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種滴管支架，尤其涉及一種適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架， 屬實(shí)驗(yàn)用具領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
在超凈工作臺(tái)中進(jìn)行無菌操作時(shí)，人們經(jīng)常用到滴管，但每當(dāng)用滴管暫時(shí)滴加完 后，滴管放置卻較為混亂，有的放到臺(tái)面上、有的放到或插入試管架上，有的放入含有未用 滴管的無菌紙包中，有的放置到無菌難有保障的燒杯口上，致使滴管污染或交叉污染機(jī)會(huì) 增加，或因滴管平放使滴管內(nèi)液體到流污染了工作臺(tái)面或相處及的物品，甚至有些時(shí)候會(huì) 污染操作者的手，給試驗(yàn)帶來麻煩或不利。
發(fā)明內(nèi)容針對現(xiàn)狀，本實(shí)用新型要解決的問題是提供一種適于超凈工作臺(tái)使用的簡易滴管 支架。本實(shí)用新型所述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架，其特征在于所述支架的底面 為長12-22cm、寬10-16cm的矩形框架，框架的長軸方向的對稱邊上分別設(shè)有垂直于底邊且 等高或一側(cè)高度為另一側(cè)高度1/2-2/3的“門框”形支架；其中“門框”形支架的頂邊上設(shè) 置有半圓形的凹陷，且所述凹陷的位置與對面“門框”形支架上的凹陷位置對稱；在所述兩 個(gè)“門框”形支架的幾何中心位置的底面框架上還設(shè)有一個(gè)頂邊上有半圓形凹陷的“門框” 形支架，其高度為上述兩個(gè)“門框”形支架中相對矮的“門框”形支架架高的1/2-2/3，其頂 邊凹陷的位置分別與上述兩個(gè)“門框”形支架上的凹陷位置對稱。上述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架中所述設(shè)置在兩個(gè)“門框”形支架的幾何中 心位置的“門框”形支架架高不低于2. 5cm。上述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架中所述半圓形凹陷的直徑優(yōu)選6_12mm。上述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架中所述半圓形凹陷等距離設(shè)置，其間距不 小于1. 5cm。本實(shí)用新型所述的滴管支架優(yōu)選采用不銹鋼絲制備，產(chǎn)品便于紫外線照射或常規(guī) 滅菌，置于超凈工作臺(tái)中極適于常用滴管的放置，結(jié)合本滴管支架中“門框”形支架的高度 有意設(shè)計(jì)為由高至低壹或二檔，解決了不同長度滴管放置時(shí)管內(nèi)液體到流的問題。本實(shí)用新型所述的滴管支架結(jié)構(gòu)簡單，制備和操作方便，在超凈工作臺(tái)中占用空 間小，使用靈活，有效解決了滴管污染或交叉污染的問題。

圖1本實(shí)用新型所述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架的結(jié)構(gòu)示意圖。其中1所述支架底面的矩形框架；2 “門框”形支架；3 “門框”形支架頂邊上的半 圓形凹陷。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明，但所述本實(shí)用新型內(nèi)容不 僅限于此。實(shí)施例1如圖1所示，本實(shí)用新型所述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架的底面為長20cm、 寬15cm的矩形框架1，框架的長軸方向的對稱邊上分別設(shè)有垂直于底邊且一側(cè)高度為另一 側(cè)高度1/2的“門框”形支架2 ；其中“門框”形支架的頂邊上設(shè)置有半圓形的凹陷3，且所 述凹陷的位置與對面“門框”形支架上的凹陷位置對稱；在所述兩個(gè)“門框”形支架的幾何 中心位置的底面框架上還設(shè)有一個(gè)頂邊上有半圓形凹陷的“門框”形支架，其高度為上述兩 個(gè)“門框”形支架中相對矮的“門框”形支架架高的1/2，其頂邊凹陷的位置分別與上述兩個(gè) “門框”形支架上的凹陷位置對稱。上述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架中所述設(shè)置在兩個(gè)“門框”形支架的幾何中 心位置的“門框”形支架架高3. 5cm。上述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架中所述半圓形凹陷的直徑為9mm。上述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架中所述半圓形凹陷等距離設(shè)置，其間距為 2cm0具體操作時(shí)，將暫時(shí)滴加完后的滴管放到如圖1所示的兩個(gè)“門框”形支架2的半 圓形凹陷內(nèi)，其中視滴管長度可選擇“門框”形支架2中的由高至低壹或二檔。實(shí)施例2本實(shí)用新型所述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架的底面為長12cm、寬10cm的矩 形框架，框架的長軸方向的對稱邊上分別設(shè)有垂直于底邊且等高的“門框”形支架；其中“門 框”形支架的頂邊上設(shè)置有半圓形的凹陷，且所述凹陷的位置與對面“門框”形支架上的凹 陷位置對稱；在所述兩個(gè)“門框”形支架的幾何中心位置的底面框架上還設(shè)有一個(gè)頂邊上有 半圓形凹陷的“門框”形支架，其高度為上述“門框”形支架架高的1/2，其頂邊凹陷的位置 分別與上述兩個(gè)“門框”形支架上的凹陷位置對稱。上述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架中所述設(shè)置在兩個(gè)“門框”形支架的幾何中 心位置的”門框”形支架架高為4cm。上述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架中所述半圓形凹陷的直徑優(yōu)選7mm。上述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架中所述半圓形凹陷等距離設(shè)置，其間距不 小于1. 3cm。具體操作時(shí)，將暫時(shí)滴加完后的滴管放到兩個(gè)“門框”形支架2的半圓形凹陷內(nèi)， 再滴加時(shí)可拿起滴管再滴。
權(quán)利要求一種適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架，其特征在于所述支架的底面為長10-22cm、寬10-16cm的矩形框架，框架的長軸方向的對稱邊上分別設(shè)有垂直于底邊且等高或一側(cè)高度為另一側(cè)高度1/2-2/3的“門框”形支架；其中“門框”形支架的頂邊上設(shè)置有半圓形的凹陷，且所述凹陷的位置與對面“門框”形支架上的凹陷位置對稱；在所述兩個(gè)“門框”形支架的幾何中心位置的底面框架上還設(shè)有一個(gè)頂邊上有半圓形凹陷的“門框”形支架，其高度為上述兩個(gè)“門框”形支架中相對矮的“門框”形支架架高的1/2-2/3，其頂邊凹陷的位置分別與上述兩個(gè)“門框”形支架上的凹陷位置對稱。
2.如權(quán)利要求1所述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架，其特征在于所述設(shè)置在兩個(gè) “門框”形支架的幾何中心位置的”門框”形支架架高不低于2. 5cm。
3.如權(quán)利要求1所述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架，其特征在于所述半圓形凹陷 的直徑為6-12mm。
4.如權(quán)利要求1所述適于超凈工作臺(tái)使用的滴管支架，其特征在于所述半圓形凹陷 等距離設(shè)置，其間距不小于1. 5cm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種超凈臺(tái)用滴管支架，其中所述支架的底面為矩形框架，框架的長軸方向的對稱邊上分別設(shè)有垂直于底邊且等高或一側(cè)高度為另一側(cè)高度1/2-2/3的“門框”形支架；其中“門框”形支架的頂邊上設(shè)置有半圓形的凹陷，且所述凹陷的位置與對面“門框”形支架上的凹陷位置對稱；在所述兩個(gè)“門框”形支架的幾何中心位置的底面框架上還設(shè)有一個(gè)頂邊上有半圓形凹陷的“門框”形支架，其高度為上述兩個(gè)“門框”形支架中相對矮的“門框”形支架架高的1/2-2/3，其頂邊凹陷的位置分別與上述兩個(gè)“門框”形支架上的凹陷位置對稱。本實(shí)用新型的滴管支架結(jié)構(gòu)簡單，制備和操作方便，在超凈工作臺(tái)中占用空間小，使用靈活，有效解決了滴管污染或交叉污染的問題。
文檔編號B01L9/00GK201613144SQ201020127020
公開日2010年10月27日 申請日期2010年3月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月10日
發(fā)明者丁兆明 申請人:丁兆明