專利名稱：一種精餾系統(tǒng)回流管排放殘液裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及精餾系統(tǒng)，尤其是一種精餾系統(tǒng)回流管排放殘液裝置。
技術(shù)背景目前改良西門子法生產(chǎn)多晶硅技術(shù)水平主要從質(zhì)量、成本兩個(gè)角度出發(fā)，其中質(zhì)量主要體現(xiàn)在產(chǎn)品技術(shù)雜質(zhì)含量及B、P、C含量，成本主要體現(xiàn)在原材料及能源消耗。電子級(jí)多晶硅和太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的考核指標(biāo)有很大差別，即使是同為電子級(jí)多晶硅，純度要求不同，用途不同，各雜質(zhì)含量要求也不盡相同，所以要生產(chǎn)高質(zhì)量的電子級(jí)多晶硅精餾系統(tǒng)是關(guān)鍵。精餾系統(tǒng)是把三氯氫硅原料通過提純塔把三氯氫硅、四氯化硅及其它雜質(zhì)氯化物的加熱至沸騰，揮發(fā)度高的組分，即低沸點(diǎn)組分在氣相中的濃度比液相中高，同理，將混合液的蒸汽冷凝，冷凝中難揮發(fā)的組分，即高沸點(diǎn)組分，在液相中濃度比氣相高。經(jīng)過多次部分汽化和部分冷凝，最終在氣相中得到較純的易揮發(fā)組分，在液相中得到較純的難揮發(fā)組分。然后除去易揮發(fā)組分和難揮發(fā)組分，分離出高純四氯化硅，最后得到三氯氫硅純度在7 個(gè)9以上，即雜質(zhì)含量小于100X 10_9，硼要求在0.5 ΧΙΟ—9以下。但是在精餾系統(tǒng)由于生產(chǎn)需要會(huì)出現(xiàn)停塔檢修的過程，導(dǎo)致精餾系統(tǒng)的回流管內(nèi)的物料無法排放處理，鑒于上述的原因，需要對(duì)回流管內(nèi)的物料排放系統(tǒng)進(jìn)行改進(jìn)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型目的是為了克服上述技術(shù)問題的不足，提供一種精餾系統(tǒng)回流管排放殘液裝置，確保精餾系統(tǒng)由于生產(chǎn)需要停塔檢修時(shí)，便于精餾系統(tǒng)的回流管內(nèi)的物料安全、 徹底的排放處理，完善了精餾塔穩(wěn)定和安全操作的要求，使整個(gè)精餾系統(tǒng)中的物料循環(huán)利用，無污染，有利于環(huán)境保護(hù)。本實(shí)用新型為了實(shí)現(xiàn)上述的目的，采用如下的技術(shù)方案一種精餾系統(tǒng)回流管排放殘液裝置，是由下回流管道，上回流管道，第一連接管道，第二連接管道，控制閥門，精餾系統(tǒng)再沸器，精餾系統(tǒng)精餾塔構(gòu)成；下回流管道的一端設(shè)置上回流管道，下回流管道一端的下部設(shè)置第一連接管道，第一連接管道的下部設(shè)置控制閥門，控制閥門的下方設(shè)置第二連接管道，第二連接管道下端的一側(cè)設(shè)置精餾系統(tǒng)再沸器，第二連接管道下端的另一側(cè)設(shè)置精餾系統(tǒng)精餾塔。本實(shí)用新型的工作原理停止精餾系統(tǒng)正在生產(chǎn)的精餾塔后，精餾塔內(nèi)物料自然降溫后從塔釜排出，在這個(gè)操作過程中系統(tǒng)內(nèi)保持微正壓，不允許外界空氣進(jìn)入，塔釜液面降至最低時(shí)可以緩慢打開管道閥門，精餾系統(tǒng)上回流管道和精餾系統(tǒng)下回流管道內(nèi)的物料根據(jù)自身的重力自上而下通過連接管道，漸漸流入精餾系統(tǒng)再沸器和精餾系統(tǒng)精餾塔，等待精餾系統(tǒng)上回流管道和精餾系統(tǒng)下回流管道內(nèi)的物料流盡后緩慢關(guān)閉管道閥門，最后從精餾系統(tǒng)再沸器和精餾系統(tǒng)精餾塔中排出。本實(shí)用新型的有益效果是結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，改造方便，減排降耗，減少排放的污染、增加
3效益；節(jié)約了時(shí)間，降低生產(chǎn)成本，提高了產(chǎn)品質(zhì)量，同時(shí)保護(hù)了環(huán)境。以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明


圖1是本實(shí)用新型的總裝結(jié)構(gòu)示意圖；
圖1中下回流管道1，上回流管道2，第一連接管道3，第二連接管道4，控制閥門 5，精餾系統(tǒng)再沸器6，精餾系統(tǒng)精餾塔7。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明如圖所示，下回流管道1的一端設(shè)置上回流管道2，下回流管道1 一端的下部設(shè)置第一連接管道3，第一連接管道3的下部設(shè)置控制閥門5，控制閥門5的下方設(shè)置第二連接管道4，第二連接管道4下端的一側(cè)設(shè)置精餾系統(tǒng)再沸器6，第二連接管道4下端的另一側(cè)設(shè)置精餾系統(tǒng)精餾塔7。
權(quán)利要求1. 一種精餾系統(tǒng)回流管排放殘液裝置，是由下回流管道(1)，上回流管道0)，第一連接管道(3)，第二連接管道0)，控制閥門(5)，精餾系統(tǒng)再沸器(6)，精餾系統(tǒng)精餾塔(7)構(gòu)成，其特征在于下回流管道(1)的一端設(shè)置上回流管道O)，下回流管道(1) 一端的下部設(shè)置第一連接管道(3)，第一連接管道(3)的下部設(shè)置控制閥門(5)，控制閥門( 的下方設(shè)置第二連接管道G)，第二連接管道(4)下端的一側(cè)設(shè)置精餾系統(tǒng)再沸器(6)，第二連接管道(4)下端的另一側(cè)設(shè)置精餾系統(tǒng)精餾塔(7)。
專利摘要一種精餾系統(tǒng)回流管排放殘液裝置，確保精餾系統(tǒng)由于生產(chǎn)需要停塔檢修時(shí)，便于精餾系統(tǒng)的回流管內(nèi)的物料安全、徹底的排放處理，完善了精餾塔穩(wěn)定和安全操作的要求，使整個(gè)精餾系統(tǒng)中的物料循環(huán)利用，無污染，有利于環(huán)境保護(hù)。它由下回流管道，上回流管道，第一連接管道，第二連接管道，控制閥門，精餾系統(tǒng)再沸器，精餾系統(tǒng)精餾塔構(gòu)成；下回流管道的一端設(shè)置上回流管道，下回流管道一端的下部設(shè)置第一連接管道，第一連接管道的下部設(shè)置控制閥門，控制閥門的下方設(shè)置第二連接管道，第二連接管道下端的一側(cè)設(shè)置精餾系統(tǒng)再沸器，第二連接管道下端的另一側(cè)設(shè)置精餾系統(tǒng)精餾塔。結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，改造方便，減排降耗，同時(shí)保護(hù)了環(huán)境。
文檔編號(hào)B01D3/14GK201940068SQ20112000275
公開日2011年8月24日 申請(qǐng)日期2011年1月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月7日
發(fā)明者于振江, 張揚(yáng), 張智利, 易成剛, 楊龍軍, 馬麟 申請(qǐng)人:洛陽(yáng)世紀(jì)新源硅業(yè)科技有限公司