本發(fā)明涉及一種消除液體的氣泡的消泡單元以及包括其的襯底處理裝置。

背景技術(shù)：

通常，在制造平板顯示設(shè)備或半導(dǎo)體的過程中，在處理玻璃襯底或晶片的過程中進(jìn)行各種工序諸如光致抗蝕劑涂覆工序、顯影工序、蝕刻工序和灰化工序。

特別地，隨著電路圖案由于半導(dǎo)體設(shè)備具有高密度、高集成度和高性能而快速地變得更精細(xì)，殘留在襯底表面的污染物諸如顆粒、有機(jī)污染物和金屬污染物極大地影響了設(shè)備的特性和生產(chǎn)量。由于這一點(diǎn)，去除粘附在襯底表面的各種污染物的清洗工序是非常重要的，并且在用于制造半導(dǎo)體的單元工序之前和之后都進(jìn)行清洗襯底的工序。

同時，在制造襯底的過程中，向襯底供應(yīng)各種化學(xué)品以進(jìn)行液體處理工藝。供給襯底的化學(xué)品可以根據(jù)其化學(xué)特性自然氧化并可能產(chǎn)生氣泡。當(dāng)向襯底供應(yīng)具有氣泡的化學(xué)品時，降低了液體處理工藝的效率。

因此，有必要在向襯底供應(yīng)化學(xué)品之前消除存在于化學(xué)品中的氣泡。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明構(gòu)思提供一種消除存在于液體中的氣泡的消泡單元以及包括其的襯底處理裝置。

本發(fā)明構(gòu)思要解決的問題不限于上述問題，并且本領(lǐng)域技術(shù)人員從說明書和附圖中將清楚地理解本發(fā)明構(gòu)思所適用的未提到的問題。

本發(fā)明構(gòu)思提供消泡單元。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種消泡單元，包括：本體，所述本體在其內(nèi)部具有使液體流過的內(nèi)部空間；液體引入管，所述液體通過所述液體引入管供應(yīng)至所述本體；液體排出管，消除了氣泡的所述液體通過所述液體排出管從所述本體排出；氣泡排出管，所述氣泡通過所述氣泡排出管從所述內(nèi)部空間排出；和位于所述內(nèi)部空間中的棒狀桿，所述棒狀桿的長度沿所述本體的縱向延伸，其中，在所述本體的所述內(nèi)部空間中提供位于所述液體引入管與所述液體排出管之間的漸變橫截面部件并且所述漸變橫截面部件的橫截面沿所述本體的縱向漸變。

根據(jù)實(shí)施方式，在所述本體的所述內(nèi)部空間中還可以提供；位于所述漸變橫截面部件的上部和下部的任一處的大橫截面部件，所述大橫截面部件從所述漸變橫截面部件的一端延伸并具有比所述漸變橫截面部件大的橫截面；和位于所述漸變橫截面部件的上部和下部的另一處的小橫截面部件，所述小橫截面部件從所述漸變橫截面部件的相對端延伸并具有比所述漸變橫截面部件小的橫截面。

根據(jù)實(shí)施方式，所述液體引入管可以連接至所述大橫截面部件，所述液體排出管可以連接至所述小橫截面部件，并且所述大橫截面部件可以位于比所述小橫截面部件更高的位置處。

根據(jù)實(shí)施方式，所述氣泡排出管可以連接至所述本體的上表面。

根據(jù)實(shí)施方式，所述大橫截面部件和所述小橫截面部件沿其縱向可以具有相同的橫截面。

根據(jù)實(shí)施方式，隨著所述漸變橫截面部件沿其縱向延伸，其橫截面可以變小。

根據(jù)實(shí)施方式，所述漸變橫截面部件可以具有錐形，所述錐形的上表面面積比其下表面面積大。

根據(jù)實(shí)施方式，在所述本體的底表面上可以形成固定所述桿的聯(lián)接凹處，并且所述桿可以聯(lián)接至所述聯(lián)接凹處。

根據(jù)實(shí)施方式，所述桿的高度可以高于所述小橫截面部件的高度，并且所述桿的最上表面可以位于低于所述漸變橫截面部件的上側(cè)的位置處。

根據(jù)實(shí)施方式，所述桿可以在其外表面上具有螺旋凹槽。

根據(jù)實(shí)施方式，所述液體引入管可以在本體的內(nèi)壁的切線方向上連接至所述內(nèi)壁使得當(dāng)液體被引入所述內(nèi)部空間時所述液體沿所述內(nèi)壁打旋。

根據(jù)實(shí)施方式，所述螺旋凹槽可以以與所述內(nèi)部空間中的液體打旋的方向相反的方向形成在。

本發(fā)明提供了用于處理襯底的裝置。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了用于處理襯底的裝置，所述裝置包括：在其內(nèi)部具有處理空間的容器；位于所述處理空間中用于支撐襯底的支撐單元；向置于所述支撐單元上的襯底供應(yīng)液體的液體供應(yīng)單元；和消除由所述液體供應(yīng)單元供應(yīng)的液體的氣泡的消泡單元，其中所述消泡單元包括：本體，所述本體在其內(nèi)部具有使液體流過的內(nèi)部空間；液體引入管，所述液體通過所述液體引入管供應(yīng)至所述本體；液體排出管，消除了氣泡的所述液體通過所述液體排出管從所述本體排出；連接至所述本體的上表面的氣泡排出管，所述氣泡通過所述氣泡排出管從所述內(nèi)部空間排出；和位于所述內(nèi)部空間中的棒狀桿，所述棒狀桿的長度沿所述本體的縱向延伸，其中，在所述本體的所述內(nèi)部空間中提供位于所述液體引入管與所述液體排出管之間的漸變橫截面部件并且所述漸變橫截面部件的橫截面沿所述本體的縱向漸變。

根據(jù)實(shí)施方式，在所述本體的內(nèi)部空間中還提供了：位于所述漸變橫截面部件的上部和下部的任一處的大橫截面部件，所述大橫截面部件從所述漸變橫截面部件的一端延伸并具有比所述漸變橫截面部件大的橫截面：和位于所述漸變橫截面部件的上部和下部的另一處的小橫截面部件，所述小橫截面部件從所述漸變橫截面部件的相對端延伸并具有比所述漸變橫截面部件小的橫截面，并且所述液體引入管可以連接至所述大橫截面部件，所述液體排出管可以連接至所述小橫截面部件，并且所述大橫截面部件可以位于比所述小橫截面部件更高的位置處。

根據(jù)實(shí)施方式，所述大橫截面部件和所述小橫截面部件沿其縱向可以具有相同的橫截面。

根據(jù)實(shí)施方式，所述漸變橫截面部件可以具有錐形，其上表面面積比其下表面面積大。

根據(jù)實(shí)施方式，在所述本體的底面上可以形成固定所述桿的聯(lián)接凹處，并且所述桿可以聯(lián)接至所述聯(lián)接凹處。

根據(jù)實(shí)施方式，所述桿的高度可以高于所述小橫截面部件的高度，并且所述桿的最上表面可以位于低于所述漸變橫截面部件的上側(cè)的位置處。

根據(jù)實(shí)施方式，所述桿在其外表面上可以具有螺旋凹槽。

根據(jù)實(shí)施方式，所述液體引入管可在沿本體的內(nèi)壁的切線方向上連接至所述內(nèi)壁使得當(dāng)液體被引入所述內(nèi)部空間時所述液體沿所述內(nèi)壁打旋，并且所述螺旋凹槽以與所述內(nèi)部空間中液體打旋的方向相反的方向形成。

附圖說明

上述和其他目的和特征從參照附圖的以下描述中將顯而易見，其中遍及各個附圖，除非另有規(guī)定，相同的參考標(biāo)記表示相同的部件，并且其中：

圖1示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的襯底處理系統(tǒng)的平面圖；

圖2示出在圖1的處理室中設(shè)置的襯底處理系統(tǒng)的構(gòu)造的示意圖；

圖3示出在圖1的處理室中設(shè)置的襯底處理裝置的截面圖；

圖4示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的消泡單元的剖面透視圖；

圖5示出圖4的消泡單元的截面圖；

圖6示出圖4的桿的透視圖；

圖7示出圖4的桿的前視圖；

圖8示出被引入圖4的消泡單元中的液體流的示意圖。

具體實(shí)施方式

在下文中，將參照附圖更詳細(xì)地描述本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式。本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式可以以各種形式修改并且本發(fā)明構(gòu)思的范圍不應(yīng)視為受限于以下實(shí)施方式。提供本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式是為了向本領(lǐng)域技術(shù)人員更全面地描述本發(fā)明構(gòu)思。因此，放大了附圖中構(gòu)件的形狀以突出更清楚的描述。

本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式可以以各種形式修改并且本發(fā)明構(gòu)思的范圍不應(yīng)視為受限于以下描述的本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式。提供本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式是為了向本領(lǐng)域技術(shù)人員更全面地描述本發(fā)明構(gòu)思。因此，放大了附圖中構(gòu)件的形狀等以突出更清楚的描述。

圖1示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的襯底處理系統(tǒng)的平面圖。參照圖1，襯底處理系統(tǒng)1包括轉(zhuǎn)位模塊10和工藝處理模塊20。轉(zhuǎn)位模塊10包括多個裝載端口120和送料架140。裝載端口120、送料架140和工藝處理模塊20可以依次設(shè)置成一行。在下文中，裝載端口120、送料架140和工藝處理模塊20依次設(shè)置的方向?qū)⒎Q為第一方向12。當(dāng)從頂部看垂直于第一方向12的方向?qū)⒎Q為第二方向14，并且垂直于包括第一方向12和第二方向14的平面的方向?qū)⒎Q為第三方向16。

接納襯底W的載體130位于裝載端口120上。設(shè)置多個裝載端口120并沿第二方向14排成一行。圖1示出設(shè)置四個裝載端口120。然而，裝載端口120的個數(shù)可以根據(jù)諸如工藝處理模塊20的處理效率或占用空間(footprint)的情況而增加或減少。在載體130中形成有支撐襯底W的周邊而設(shè)置的多個插槽(未示出)。沿第三方向16設(shè)置多個插槽，并且襯底W位于載體130中使得襯底W堆疊成沿第三方向16彼此間隔。正面開口標(biāo)準(zhǔn)箱(FOUP)可以用作載體130。

工藝處理模塊20包括緩沖單元220、送料室240和多個處理室260。送料室240布置成使得其縱向平行于第一方向12。處理室260沿第二方向14布置在送料室240的相對兩側(cè)。位于送料室240一側(cè)的處理室260與位于送料室240相對側(cè)的處理室260相對于送料室240彼此對稱。一些處理室260沿送料室240的縱向設(shè)置。而且，一些處理室260布置成彼此堆疊。也就是說，具有A×B(A和B是自然數(shù))陣列的處理室260可以布置在送料室240的一側(cè)。在這里，A是沿第一方向12設(shè)置成一排的處理室260的數(shù)目，且B是沿第三方向16設(shè)置成一排的處理室260的數(shù)目。當(dāng)在送料室240的一側(cè)設(shè)置4個或6個處理室260時，處理室260可以以2×2或3×2的陣列設(shè)置。處理室260的數(shù)目可以增加或減少。與上述描述不同，處理室260可以僅設(shè)置在送料室240的一側(cè)。此外，與上述描述不同，處理室260可以設(shè)置在送料室240的一側(cè)或相對兩側(cè)以形成單層。

緩沖單元220設(shè)置在送料架140和送料室240之間。緩沖單元220在送料室240和送料架140之間提供用于襯底W在被運(yùn)送之前所停留的空間。緩沖單元220中設(shè)置有放置襯底W的插槽(未示出)和沿第三方向16設(shè)置的彼此間隔的多個插槽(未示出)。緩沖單元220面向送料架140和面向送料室240的表面是開放的。

送料架140在位于裝載端口120中的載體130和緩沖單元220之間運(yùn)送襯底W。送料架140中設(shè)有轉(zhuǎn)位軌道142和轉(zhuǎn)位機(jī)械手144。轉(zhuǎn)位軌道142布置成其縱向平行于第二方向14。轉(zhuǎn)位機(jī)械手144安裝在轉(zhuǎn)位軌道142上并沿轉(zhuǎn)位軌道142在第二方向14上線性移動。轉(zhuǎn)位機(jī)械手144具有基座144a、本體144b和多個轉(zhuǎn)位臂144c?；?44a安裝成沿轉(zhuǎn)位軌道142移動。本體144b聯(lián)接至基座144a。本體144b設(shè)置成在基座144a上沿第三方向1移動。本體144b設(shè)置成在基座144a上旋轉(zhuǎn)。轉(zhuǎn)位臂144c聯(lián)接至本體144b，并設(shè)置成相對于本體144b向前和向后移動。多個轉(zhuǎn)位臂144c設(shè)置成單獨(dú)被驅(qū)動。轉(zhuǎn)位臂144c設(shè)置成沿第三方向16相互間隔地堆疊。當(dāng)襯底W被從工藝處理模塊20運(yùn)送至載體130時，一些轉(zhuǎn)位臂144c被使用，并且當(dāng)將襯底W從載體130運(yùn)送至工藝處理模塊20時，一些轉(zhuǎn)位臂144c可被使用。這個結(jié)構(gòu)可以在通過轉(zhuǎn)位機(jī)械手144載入和載出襯底W的過程中防止在工藝處理之前從襯底W產(chǎn)生的顆粒在工藝處理之后被吸附至襯底W。

送料室240在緩沖單元220與處理室260之間和在處理室260與處理室260之間運(yùn)送襯底W。送料室240中設(shè)有導(dǎo)引軌道242和主機(jī)械手244。導(dǎo)引軌道242布置成使得其縱向平行于第一方向12。主機(jī)械手244安裝在導(dǎo)引軌道242上并在導(dǎo)引軌道242上沿第一方向12線性移動。主機(jī)械手244具有基座244a、本體244b和多個主臂244c?；?44a安裝成沿導(dǎo)引軌道242移動。本體244b聯(lián)接至基座244a。本體244b設(shè)置成在基座244a上沿第三方向16移動。本體244b設(shè)置成在基座244a上旋轉(zhuǎn)。主臂244c聯(lián)接至本體244b，并相對于本體244b向前和向后移動。多個主臂244c設(shè)置成單獨(dú)被驅(qū)動。主臂244c設(shè)置成沿第三方向16相互間隔地堆疊。當(dāng)襯底W被從緩沖單元220運(yùn)送至處理室260時所使用的主臂244c可以與當(dāng)襯底W被從處理室260運(yùn)送至緩沖單元220中時所使用的主臂244不同。

處理室260中設(shè)有在襯底W上進(jìn)行清洗工序的襯底處理裝置300。設(shè)置在處理室260中的襯底處理裝置300可以根據(jù)所進(jìn)行的清洗工序的種類而具有不同的結(jié)構(gòu)?？蛇x擇地，處理室260中的襯底處理裝置300可以具有相同的結(jié)構(gòu)?？蛇x擇地，處理室260可以分成多個組使得屬于相同組的處理室260中的襯底處理裝置300的結(jié)構(gòu)相同并且屬于不同組的處理室260中的襯底處理裝置300的結(jié)構(gòu)不同。例如，當(dāng)處理室260被分成兩組時，第一組處理室260可以設(shè)置在送料室240的一側(cè)，且第二組處理室260可以設(shè)置在送料室240的相對側(cè)?？蛇x擇地，在送料室240的相對兩側(cè)，第一組處理室260可以設(shè)置在送料室240的下側(cè)，且第二組處理室260可以設(shè)置在傳送室240的上側(cè)。可以根據(jù)所使用的化學(xué)品的種類或清洗方法的類型對第一組處理室260和第二組處理室260進(jìn)行分類。

將在下文中描述通過使用處理液對襯底W進(jìn)行清洗的襯底處理裝置300的例子。圖2示出設(shè)置在圖1的處理室中的襯底處理系統(tǒng)的構(gòu)造的示意圖。圖3示出設(shè)置在圖1的處理室中的襯底處理裝置的截面圖。參照圖2和圖3，襯底處理裝置300包括容器320、支撐單元340、升降單元360、液體供應(yīng)單元380和消泡單元400。

容器320提供其中進(jìn)行襯底處理工藝的空間。容器320的上側(cè)是開放的。容器320具有內(nèi)回收管322、中間回收管324和外回收管326?；厥展?22、324和326回收工藝中使用的不同處理液。內(nèi)回收管322設(shè)置成具有環(huán)繞支撐單元340的環(huán)孔形狀。中間回收管324設(shè)置成具有環(huán)繞內(nèi)回收管322的環(huán)孔形狀。外回收管326設(shè)置成具有環(huán)繞中間回收管324的環(huán)孔形狀。內(nèi)回收管322的內(nèi)部空間322a、內(nèi)回收管322與中間回收管324之間的空間324a和中間回收管324與外回收管326之間的空間326a用作入口，通過所述入口處理液被引入內(nèi)回收管322、中間回收管324和外回收管326中。在回收管322、324和326底面向下方向上從向回收管322、324和326垂直延伸的回收管線322b、324b和326b分別與回收管322、324和326連接。回收管線322b、324b和326b排出分別通過回收管322、324和326引入的處理液。所排出的處理液可以通過外部處理液再循環(huán)系統(tǒng)(未示出)再使用。

支撐單元340設(shè)置在容器320中。在襯底處理過程期間，支撐單元340支撐并旋轉(zhuǎn)襯底W。支撐單元340包括本體342、多個支撐銷344、多個卡盤銷346、和支撐軸348。從頂部看本體342具有基本圓形的上表面?？梢酝ㄟ^馬達(dá)349旋轉(zhuǎn)的支撐軸348固定地聯(lián)接至本體342的底部。設(shè)置有多個支撐銷344。支撐銷344可以彼此間隔地布置在本體342的上表面的周邊并從本體342向上突出。支撐銷344通過其組合而布置成具有總體環(huán)孔形狀。支撐銷344支撐襯底W的后表面的周邊使得襯底W與本體342的上表面間隔預(yù)定距離。

設(shè)置多個卡盤銷346。與支撐銷344相比，卡盤銷346布置成與本體342的中心距離更遠(yuǎn)?？ūP銷346設(shè)置成從本體342向上突出。卡盤銷346支撐襯底W的側(cè)面使得當(dāng)支撐單元340被旋轉(zhuǎn)時襯底W不會從適當(dāng)?shù)奈恢脗?cè)向地脫離。卡盤銷346設(shè)置成在待料位置和支撐位置之間沿本體342的徑向線性移動。與支撐位置相比，待料位置是與本體342的中心相距更遠(yuǎn)的位置。當(dāng)襯底W裝載到支撐單元340或從支撐單元340卸載時，卡盤銷346處于待料位置，而當(dāng)在襯底上進(jìn)行工藝處理時，卡盤銷346處于支撐位置。在支撐位置，卡盤銷346與襯底的側(cè)面接觸。

升降單元360向上和向下線性移動容器320。當(dāng)容器320被向上和向下移動時，容器320與支撐單元340的相對高度變化。升降單元360包括支架362、移動軸364和驅(qū)動器366。

支架362固定地安裝在容器320的外壁上。通過驅(qū)動器366被向上和向下移動的移動軸364固定地聯(lián)接至支架362。當(dāng)襯底W位于支撐單元340上或從支撐單元340吊離時，容器32被降低使得支撐單元340向容器320的上側(cè)突出。當(dāng)執(zhí)行工序時，根據(jù)供給襯底W的處理液的種類而調(diào)整容器320的高度使得處理液被引入預(yù)置的回收管360中。

例如，當(dāng)用第一處理液處理襯底W時，襯底W處于對應(yīng)于內(nèi)回收管322的內(nèi)部空間322a的高度上。另外，當(dāng)用第二處理液和第三處理液處理襯底W時，襯底W可以置于與內(nèi)回收管322與中間回收管324之間的空間324a和中間回收管324與外回收管326之間的空間326a對應(yīng)的高度上。與上述不同，升降單元360可以向上和向下移動支撐單元340而非容器320。

液體供應(yīng)單元380在襯底W處理過程期間向襯底W供應(yīng)處理液體。液體供應(yīng)單元380包括液體供應(yīng)管線381、閥門385、噴嘴支架382、噴嘴384、支撐軸386和驅(qū)動器388。支撐軸386的縱向沿第三方向16設(shè)置，并且驅(qū)動器388聯(lián)接至支撐軸386的下端。驅(qū)動器388旋轉(zhuǎn)并升降支撐軸386。噴嘴支架382垂直聯(lián)接至支撐軸386的與驅(qū)動器388聯(lián)接的一端相對的一端。噴嘴384安裝在噴嘴支架382一端的底面上。噴嘴384通過驅(qū)動器388被移動至處理位置和待料位置。處理位置是噴嘴384設(shè)置在容器320的垂直上部的位置，而待料位置是偏離容器320的垂直上部的位置。噴嘴382接收來自液體供應(yīng)管線381的液體并將液體供應(yīng)到襯底W上。閥門385安裝在液體供應(yīng)管線381中。閥門385調(diào)整供應(yīng)于噴嘴382的液體的量。

可以設(shè)置一個或多個液體供應(yīng)單元380。當(dāng)設(shè)置多個液體供應(yīng)單元380時，可以通過不同的液體供應(yīng)單元380提供化學(xué)品、沖洗液或有機(jī)溶劑。沖洗液可以是純水，且有機(jī)溶劑可以是異丙醇蒸汽和惰性氣體或異丙醇液體的混合物。

圖4示出根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式的消泡單元的剖面透視圖。圖5示出圖4的消泡單元400的截面圖。在下文中，參照圖4和圖5，消泡單元400將液體中的氣泡消除。所述液體是供應(yīng)至襯底W上的液體。例如，供應(yīng)至消泡單元400的液體可以是混合有多種液體的液體。消泡單元400連接至液體供應(yīng)單元。消泡單元400連接至液體供應(yīng)管線381以在液體供應(yīng)到襯底W上之前消除氣泡。

消泡單元400包括本體410、液體引入管420、液體排出管430、氣泡排出管440和桿450。

本體410具有內(nèi)部空間401。內(nèi)部空間401是通過其從外部流供應(yīng)液體的空間。當(dāng)液體流經(jīng)本體410的內(nèi)部空間401時，氣泡被消除。本體410包括上本體411、漸變本體412和下本體413。上本體411具有圓柱形。漸變本體412位于上本體411的下側(cè)并連接至上本體411。漸變本體412具有其橫截面隨著其向下側(cè)延伸而變小的形狀。漸變本體412可以具有錐形。下本體413位于漸變本體412的下側(cè)并連接至漸變本體412。下本體413具有圓柱形。下本體413的橫截面比上本體411的橫截面小。本體410通過聯(lián)接上本體411、漸變本體412和下本體41形成，且內(nèi)部空間401通過上本體411、漸變本體412和下本體413的組合形成。

液體通過液體引入管420被引入本體410的內(nèi)部空間401中。在通過液體供應(yīng)單元380向襯底W供應(yīng)液體之前，液體通過液體引入管420被供應(yīng)至消泡單元400。液體引入管420聯(lián)接至本體410。液體引入管420聯(lián)接至本體410的上部外表面。液體引入管420聯(lián)接至上本體411。液體引入管420連接至大橫截面部件403。液體引入管420向大橫截面部件403供應(yīng)液體。

液體排出管430是通過其排出已在內(nèi)部空間401中消除氣泡的液體的管。在本體410的內(nèi)部空間401中消除氣泡之后，通過液體供應(yīng)單元將液體供應(yīng)至襯底W上。液體排出管430聯(lián)接至本體410。液體排出管430聯(lián)接至本體410的下部外表面。液體排出管430聯(lián)接至下本體413。液體排出管430聯(lián)接至小橫截面部件405。液體排出管430從小橫截面部件405向外部排出液體。

氣泡排出管440是通過其將氣泡排到外部的管。氣泡排出管440聯(lián)接至本體410的上表面415。通過氣泡排出管440排出在本體410的內(nèi)部空間401中產(chǎn)生的氣泡。

本體410的內(nèi)部空間401是用于消除從液體引入管420供應(yīng)的液體中的氣泡的空間。內(nèi)部空間401包括大橫截面部件403、漸變橫截面部件404和小橫截面部件405。

漸變橫截面部件404位于本體410的內(nèi)部空間401中的液體引入管420與液體排出管430之間。漸變橫截面部件404位于漸變本體412中。漸變橫截面部件404的橫截面沿本體410的縱向而變化。例如，漸變橫截面部件404的橫截面隨著其沿其縱向延伸而變小。漸變橫截面部件404可以具有錐形，其上表面的面積比其下表面面積大。

大橫截面部件403位于漸變橫截面部件404的上側(cè)。大橫截面部件403位于上本體411中。大橫截面部件403從漸變橫截面部件404的一端延伸。作為例子，大橫截面部件403從漸變橫截面部件404的上部延伸。大橫截面部件403的橫截面比漸變橫截面部件404的橫截面大。大橫截面部件的橫截面沿其縱向是均勻的。大橫截面部件403可以位于上本體411中。大橫截面部件403連接至液體排出管430。氣泡排出管440連接至大橫截面部件403。液體排出管430連接至大橫截面部件403的側(cè)表面，并且氣泡排出管440連接至大橫截面部件403的上部。

小橫截面部件405位于漸變橫截面部件404的下側(cè)。小橫截面部件405位于下本體413中。小橫截面部件405從漸變橫截面部件404的相對一端延伸。作為例子，小橫截面部件405從漸變橫截面部件404的下部延伸。小橫截面部件405的橫截面比漸變橫截面部件404的橫截面小。小橫截面部件的橫截面沿其縱向是均勻的。小橫截面部件405可以位于下本體413的內(nèi)部。小橫截面部件405連接至液體排出管430。

從液體排出管430引入的液體依次流經(jīng)大橫截面部件403、漸變橫截面部件404和小橫截面部件405。當(dāng)液體流經(jīng)大橫截面部件403、漸變橫截面部件404和小橫截面部件405時，氣泡被從液體中消除。

雖然已經(jīng)例示出大橫截面部件403位于漸變橫截面部件的上側(cè)并且小橫截面部件405位于漸變橫截面部件的下側(cè)，但本發(fā)明構(gòu)思不限于此，而大橫截面部件403可以位于漸變橫截面部件404的下側(cè)并且小橫截面部件405可以位于漸變橫截面部件404的上側(cè)。

圖6示出圖4的桿的透視圖。圖7示出圖4的桿的前視圖。在下文中，參照圖6和圖7，桿450設(shè)置在本體410的內(nèi)部空間401中。桿450位于內(nèi)部空間401中。桿450的長度沿本體410的縱向延伸。桿450具有棒狀。桿450聯(lián)接并固定至形成在本體410的底表面426上的聯(lián)接凹處419。在桿450的外表面上形成至少一個螺旋凹槽451。設(shè)置多個螺旋凹槽451。在本體410的外表面上，螺旋凹槽451具有氣旋形狀。當(dāng)液體被從液體引入管420引入到內(nèi)部空間401中時，螺旋凹槽451的方向與液體沿本體410的內(nèi)壁打旋的方向相反。例如，該方向可以是逆時針方向。

在桿450的下部形成聯(lián)接至聯(lián)接凹處419的螺紋453。桿450的高度大于小橫截面部件405的高度。桿450的最上表面位于低于漸變橫截面部件404的上側(cè)的位置處。桿450的高度小于漸變橫截面部件404與小橫截面部件405總體的高度和。

將在下文中描述通過消泡單元400消除氣泡的過程。

通過液體排出管430將從外部供應(yīng)的液體引入內(nèi)部空間401。引入到內(nèi)部空間401中的液體沿本體410的內(nèi)壁以特定方向打旋。例如，如圖8所示，其中的液體的方向可以是順時針方向。液體流向本體410的下側(cè)同時由于內(nèi)部空間401的中心區(qū)與周邊區(qū)之間的壓差而打旋。漸變橫截面部件404位于內(nèi)部空間401中，并且漸變橫截面部件404的橫截面隨著其向下側(cè)延伸而變小使得當(dāng)液體流向本體410的下側(cè)時，液體的離心力可以顯著提高。在這個過程中，由于桿450的螺旋凹槽451而在內(nèi)部空間的中心處產(chǎn)生上升流。由于在與液體打旋的方向相反的方向上形成的螺旋凹槽451，在中心區(qū)產(chǎn)生了上升流，諸如由于內(nèi)部空間的中心區(qū)與周邊區(qū)之間的壓差而產(chǎn)生的氣旋。所述上升流使得液體中的氣泡通過氣泡排出管440排出。

其中消除了氣泡的液體通過連接至本體410下部的液體排出管430排出。

與此不同，當(dāng)在消泡單元400中未設(shè)置漸變橫截面并且在桿450中未形成螺旋凹槽451時，當(dāng)液體從上側(cè)流向下側(cè)時不能顯著提高離心力，而且因?yàn)樵趦?nèi)部空間的中心區(qū)未形成上升流，所以從液體中消除氣泡的消泡速率低。

同時，在本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式中，離心力隨著液體向下側(cè)移動而增加，并且可以通過在內(nèi)部空間的中心區(qū)形成上升流而從液體中消除氣泡。

當(dāng)通過向襯底W供應(yīng)液體來進(jìn)行液體處理工藝時，可以提高處理襯底W工藝的效率，因?yàn)橥ㄟ^消泡單元400使供應(yīng)至襯底W上液體中的氣泡被消除。

雖然已經(jīng)例示了通過使用消泡單元400來清洗襯底的裝置，但本發(fā)明的構(gòu)思不限于此，而是可以提供通過向襯底供應(yīng)液體來進(jìn)行襯底處理過程的裝置以從液體中消除氣泡。

根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施方式，能夠通過設(shè)置將供應(yīng)至襯底上的液體中的氣泡消除的消泡單元而提供有效的襯底處理工藝。

本發(fā)明構(gòu)思的效果不限于上述效果，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠從說明書和附圖中理解本發(fā)明構(gòu)思所適用的未提到的效果。

上述描述例示了本發(fā)明構(gòu)思。而且，上述內(nèi)容描述了本發(fā)明構(gòu)思的示例性實(shí)施方式，并且本發(fā)明構(gòu)思可以用在各種其他的組合、變化和環(huán)境中。也就是說，能夠修改和修正本發(fā)明構(gòu)思而不背離說明書中公開的本發(fā)明構(gòu)思的范圍、書面公開的等效范圍、和/或本領(lǐng)域技術(shù)人員的技術(shù)或知識范圍。所述實(shí)施方式描述了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明構(gòu)思的技術(shù)精神的最佳情況，而在詳細(xì)的應(yīng)用領(lǐng)域中和出于本發(fā)明構(gòu)思的目的能夠作出所需的各種變化。因此，本發(fā)明構(gòu)思的詳細(xì)描述并非意在以公開的實(shí)施方式的情況限制本發(fā)明構(gòu)思。此外，應(yīng)解釋為所附權(quán)利要求包括其他實(shí)施方式。