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      一種氟化硅氣體吸收裝置的制作方法

      文檔序號(hào):12616549閱讀:1013來源:國(guó)知局

      本實(shí)用新型涉及一種洗滌裝置,特別涉及一種氟化硅氣體吸收裝置。



      背景技術(shù):

      在采用濕法工藝生產(chǎn)磷酸或磷肥的過程中,磷礦中的一部分氟通常以氣態(tài)四氟化硅的形式逸出,氟的逸出率可達(dá)30%-45%、在磷酸或磷肥生產(chǎn)時(shí),尾氣系統(tǒng)中的氣體含氟量高達(dá)28~32g/m3。吸收這部分含氟氣體,既可保護(hù)環(huán)境,又可制成其他的含氟產(chǎn)品。濕法磷酸、磷肥生產(chǎn)通用的除去廢氣中氟的方法是用水、石灰乳、堿液等吸收劑在吸收設(shè)備中將四氟化硅氣體吸收下來。最為常用的吸收劑是水,吸收四氟化硅及制得氟硅酸和硅膠。在吸收四氟化硅過程中,吸收液由于循環(huán)使用容易產(chǎn)生較高的溫度,現(xiàn)有技術(shù)中吸收液的溫度冷卻時(shí)間較慢,不利于四氟化硅氣體的吸收,效率低,另外,在吸收的過程中有大量硅膠析出,傳統(tǒng)的吸收設(shè)備易堵塞、吸收液不易過濾,不利于循環(huán)吸收等缺點(diǎn)。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本實(shí)用新型的目的在于,提供了一種氟化硅氣體吸收裝置。該氟化硅氣體吸收裝置具有提高混合速度,利于四氟化硅氣體的循環(huán)吸收,效率高等特點(diǎn)。

      本實(shí)用新型的技術(shù)方案:一種氟化硅氣體吸收裝置,包括合成室,合成室的下部設(shè)有積液室,積液室與吸液泵的進(jìn)液端連接,吸液泵的出液端與吸液管連接,吸液管的上端部設(shè)有噴淋裝置,積液室的下底部設(shè)置有冷卻室,冷卻室內(nèi)的導(dǎo)流管通過控制閥控制與存儲(chǔ)槽連通,存儲(chǔ)槽左側(cè)的出給泵通過導(dǎo)流管與冷卻室連通。

      前述的氟化硅氣體吸收裝置,所述合成室與積液室之間設(shè)置有孔板,孔板的下部設(shè)有濾網(wǎng)。

      前述的氟化硅氣體吸收裝置,所述噴淋裝置為萬向轉(zhuǎn)動(dòng)裝置。

      前述的氟化硅氣體吸收裝置,所述積液室與冷卻室之間設(shè)置有導(dǎo)隔板。

      本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型能較好維持吸收液溫度,吸收四氟化硅氣體充分,減少有害氣體直接排放至空氣中造成環(huán)境污染,該裝置所使用的網(wǎng)板和濾網(wǎng)能更好的過濾吸收液,有利于吸收液的循環(huán)使用。洗滌裝置簡(jiǎn)單、易于操作、成本低、效率高。

      附圖說明

      圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

      附圖中的標(biāo)記為:1-合成室,2-積液室,3-冷卻液,4-吸液泵,5-吸液管,6-噴淋裝置,7-孔板,8-濾網(wǎng),9-導(dǎo)隔板,10-存儲(chǔ)槽,11-控制閥,12-出給泵,13-導(dǎo)流管。

      具體實(shí)施方式

      下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明,但并不作為對(duì)本實(shí)用新型限制的依據(jù)。

      一種氟化硅氣體吸收裝置,構(gòu)成如圖1所示,包括合成室1,合成室1的下部設(shè)有積液室2,積液室2與吸液泵4的進(jìn)液端連接,吸液泵4的出液端與吸液管5連接,吸液管5的上端部設(shè)有噴淋裝置6,積液室2的下底部設(shè)置有冷卻室3,冷卻室3內(nèi)的導(dǎo)流管13通過控制閥11控制與存儲(chǔ)槽10連通,存儲(chǔ)槽10左側(cè)的出給泵12通過導(dǎo)流管13與冷卻室3連通。

      所述合成室1與積液室2之間設(shè)置有孔板7,孔板7的下部設(shè)有濾網(wǎng)8。

      所述噴淋裝置6為萬向轉(zhuǎn)動(dòng)裝置。

      所述積液室2與冷卻室3之間設(shè)置有導(dǎo)隔板9。

      本實(shí)用新型的工作原理為:吸液泵4將積液室2的吸收液通過吸液管5吸入,通過噴淋裝置6噴射到合成室1內(nèi),與合成室1內(nèi)的四氟化硅氣體混合反應(yīng),生成氟硅酸和硅膠,氟硅酸通過孔板7和濾網(wǎng)8過濾至積液室2內(nèi),和吸收液混合并循環(huán)使用,由于混合反應(yīng)過程中會(huì)使吸收液的溫度不斷增加,因此,積液室2的下底部設(shè)置有冷卻室3,冷卻室3通過控制閥門11和出給泵12的循環(huán)控制使冷卻室3的溫度維持恒定值,從而使積液室2的吸收液溫度維持恒定,使其和四氟化硅充分反應(yīng)和達(dá)到更好循環(huán)使用的目的。

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