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      一種直線型氣壓平衡式超聲霧化裝置的制作方法

      文檔序號:12025244閱讀:209來源:國知局
      一種直線型氣壓平衡式超聲霧化裝置的制作方法

      本發(fā)明屬于金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種直線型氣壓平衡式超聲霧化裝置。



      背景技術(shù):

      涂裝是工程機械產(chǎn)品表面制造工藝中的一個重要環(huán)節(jié)。金屬前處理是涂裝中不可缺少的重要工序,是提高涂膜的附著力、耐蝕性和裝飾性的關(guān)建環(huán)節(jié)。金屬前處理的水平高低,直接關(guān)系到涂裝質(zhì)量的優(yōu)劣,進而關(guān)系到涂裝產(chǎn)品壽命的長短和市場競爭力的大小,甚至關(guān)系到涂裝產(chǎn)品價值的高低。傳統(tǒng)的金屬表面前處理過程生產(chǎn)工藝繁瑣復(fù)雜,耗能高、工藝條件要求苛刻、質(zhì)量穩(wěn)定性較差,而且存在人員配置多,實施過程中伴隨有大量廢水廢酸、堿液排放、甚至是強致癌重金屬的排放等問題。這樣,在后期的廢液處理過程中需要投入大量的人力、物力來完成,給企業(yè)造成很大的壓力,同時對環(huán)境保護帶來很多不可預(yù)測的隱患。靜電霧涂是對金屬表面進行前處理的一個新型處理工藝,目前,在該領(lǐng)域的研究主要在概念表述方面,實際可行的操作技術(shù)方案應(yīng)用的還比較少。對金屬表面進行靜電霧涂處理設(shè)計時,需要滿足以下幾方面的條件:

      1、提供足夠濃度的霧氣,這樣才能保證金屬表面涂膜的厚度和均勻性;

      2、霧涂過程中揮發(fā)的少了霧涂物質(zhì),均需要及時回收或進行廢氣處理,轉(zhuǎn)化為無害物質(zhì),這樣,可減少霧涂介質(zhì)外溢的幾率,避免對環(huán)境造成污染,另外,通過回收的方式也可實現(xiàn)資源的回收再利用。

      2、靜電霧涂處理要在一定的氣密封空間內(nèi)、且不影響工件輸送的環(huán)境下進行,以避免運動的氣流對霧涂工作區(qū)的霧氣造成干擾,以保證霧涂工作區(qū)內(nèi)霧氣的穩(wěn)定性和均勻性。

      本專利申請人在2016年7月申請了名稱為“一種超聲霧化金屬前處理裝置”,該處理裝置滿足了上述三個方面的條件,可實現(xiàn)對金屬表面進行超聲霧化處理,但該處理裝置在以下幾個方面需要進一步改進提高:

      1、處理裝置的工件輸送通道在平面投影方向呈u型,其與整個涂裝工藝線上的前后裝置銜接不便,不利于廠房空間的合理利用。

      2、由于工件輸送通道為u型拐彎結(jié)構(gòu),工件輸送通道內(nèi)的鏈軌要隨形設(shè)置,導(dǎo)致結(jié)構(gòu)件成本高、且找正和安裝困難,進而導(dǎo)致設(shè)備成本高。

      3、工件輸送通道采用u型結(jié)構(gòu),工件輸送通道內(nèi)供工件輸送鏈導(dǎo)向的導(dǎo)軌沿水平方向存在兩個位置的變向,兩處位置變向都會產(chǎn)生徑向摩擦,這樣會增加驅(qū)動電機的載荷,使鏈軌也極易磨損,同時在工件運轉(zhuǎn)過程中在兩處拐角位置易導(dǎo)致工件相互碰撞,造成不必要的麻煩。



      技術(shù)實現(xiàn)要素:

      本發(fā)明為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問題而提供一種直線型氣壓平衡式超聲霧化裝置,該超聲霧化裝置便于與整個涂裝工藝線上的前后設(shè)備銜接,便于廠房空間合理利用;該超聲霧化降低了安裝難度和設(shè)備成本;該超聲霧化裝置提高了工件運行的平穩(wěn)性、減少了對鏈軌的磨損和降低了對鏈軌的負載,從而可增加鏈軌的整體壽命。

      本發(fā)明為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是:

      一種直線型氣壓平衡式超聲霧化裝置,包括工件輸送通道,工件輸送通道由低位進件區(qū)通道段、霧涂前爬坡區(qū)通道段、霧涂前高位區(qū)通道段、霧涂前下坡區(qū)通道段、低位霧涂區(qū)通道段、霧涂后爬坡區(qū)通道段、霧涂后高位區(qū)通道段、霧涂后下坡區(qū)通道段及低位出件區(qū)通道段依次連接形成;低位進件區(qū)通道段的端口形成進件端,低位出件區(qū)通道段的端口形成出件端;在工件輸送通道內(nèi)沿著通道的走向設(shè)置有沿鏈軌運動的工件輸送鏈,在低位霧涂區(qū)通道段的箱體側(cè)壁上設(shè)置有進霧口,且在該箱體的底部設(shè)置有出霧口和回液口,進霧口與出霧口通過管路與外設(shè)的霧化設(shè)備連接,在回液口位置安裝有閥門;在低位霧涂區(qū)通道段的箱體內(nèi)安裝有靜電發(fā)射頭,靜電發(fā)射頭與外設(shè)的靜電發(fā)生器連接;在低位霧涂區(qū)通道段的箱體內(nèi)還設(shè)置有濃度測試探頭,濃度測試探頭與外部控制系統(tǒng)連接,其特征在于:

      工件輸送通道在平面投影方向整體呈直線型;

      在霧涂前高位區(qū)通道段外部和霧涂后高位區(qū)通道段外部連接有高位氣流循環(huán)通道,高位氣流循環(huán)通道的一端與霧涂前爬坡區(qū)通道段的上端連通,高位氣流循環(huán)通道的另一端與霧涂后下坡區(qū)通道段的上端連通;

      在霧涂前下坡區(qū)通道段的上端入口位置安裝有對上端入口形成氣封的入口風(fēng)幕機,在霧涂后上坡區(qū)通道段的上端出口位置安裝有對上端出口形成氣封的出口風(fēng)幕機;

      在霧涂前下坡區(qū)通道段的箱體底部靠近上端入口位置及霧涂后上坡區(qū)通道段的箱體底部靠近上端出口位置各設(shè)置有一廢氣排出接口,在霧涂前高位區(qū)通道段的箱體頂部及霧涂后高位區(qū)通道段的箱體頂部各設(shè)置有一清潔空氣輸入接口,在霧涂前下坡區(qū)通道段的廢氣排出接口與霧涂前高位區(qū)通道段的清潔空氣輸入接口之間、在霧涂后上坡區(qū)通道段的廢氣排出接口與霧涂后高位區(qū)通道段的清潔空氣輸入接口之間各連接有一套外設(shè)的廢氣處理裝置,使對應(yīng)的兩組連接通道形成氣循環(huán)。

      優(yōu)選的:在低位霧涂區(qū)通道段內(nèi)還設(shè)置有制冷盤管,制冷盤管固定在對應(yīng)通道段的箱體兩側(cè)側(cè)壁上,制冷盤管與外設(shè)的制冷系統(tǒng)連接。

      優(yōu)選的:在低位霧涂區(qū)通道段的箱體頂部還設(shè)置有多個防爆口,在每個防爆口位置均設(shè)置有一防爆口蓋,防爆口蓋與對應(yīng)防爆口通過密封墊片形成密封接觸。

      本發(fā)明具有的優(yōu)點和積極效果是:

      1、由于工件的整個涂裝工藝都是在大跨度的箱體或者水槽中進行的,車間場地占用很大,需要合理的利用有限的廠房空間,本超聲霧化裝置的工件輸送通道在平面投影方向整體呈直線型(也稱一字型),直線型霧涂設(shè)備能夠更好、更便利的與其他設(shè)備銜接,做到自然對接不浪費場地,從而使霧涂設(shè)備的結(jié)構(gòu)布局能夠協(xié)調(diào)的融合在涂裝自動生產(chǎn)線中。

      2、工件輸送通道采用直線型,工件輸送通道內(nèi)的鏈軌則采用直鏈軌結(jié)構(gòu),這樣,一方面便于各通道段的組焊銜接,另一方面避免了u型鏈軌結(jié)構(gòu)需要在拐彎處設(shè)置水平彎頭結(jié)構(gòu),而水平彎頭是同等展開長度的水平直鏈軌的3倍以上的價格,這樣,就降低了設(shè)備的零件成本和組裝成本,另外,在進行設(shè)備安裝時,也降低了找正放平的難度,從而方便了設(shè)備安裝。

      3、工件輸送通道采用直線型,則工件輸送通道內(nèi)的鏈軌則采用直鏈軌,這樣,避免了鏈軌的變向,降低了對鏈軌的磨損和對鏈軌的負載,從而增加了鏈軌的整體壽命,另外,由于采用直鏈軌消除了鏈軌拐角,從而也避免了工件相互碰撞,提高了工件運行的平穩(wěn)性。

      4、采用直線型的工件輸送通道,相比于u型的工件輸送通道,外部氣流隨工件更容易進入到工件輸送通道內(nèi),這樣氣體流動勢必造成霧涂區(qū)間的霧氣紊亂溢出。而本技術(shù)方案通過在霧涂前高位區(qū)通道段外部和霧涂后高位區(qū)通道段外部設(shè)置高位氣流循環(huán)通道,并在霧涂前下坡區(qū)通道段的上端入口位置和在霧涂后上坡區(qū)通道段的上端出口位置各設(shè)置一風(fēng)幕機,通過兩臺風(fēng)幕機工作使對應(yīng)入口和出口形成氣封,這樣,外部進入的氣體被隔離在對應(yīng)入口和出口的外部,氣體在高位氣流循環(huán)通道內(nèi)進行充分對流,達到壓力平衡,這樣,就徹底屏蔽了外來氣流對霧涂工作空間的干擾,從而保證了霧涂工作區(qū)內(nèi)霧氣的穩(wěn)定性和均勻性。

      附圖說明

      圖1是本發(fā)明的主視圖;

      圖2是本發(fā)明的俯視圖;

      圖3是圖2的a-a剖視圖;

      圖4是圖2的b-b剖視圖;

      圖5是本發(fā)明低位霧涂區(qū)通道段去掉箱體頂蓋部分的俯視圖;

      圖6是圖5的c-c剖視圖;

      圖7是本發(fā)明的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖中:1、低位進件區(qū)通道段;1-1、進件端;2、霧涂前爬坡區(qū)通道段;3、霧涂前高位區(qū)通道段;4、霧涂前下坡區(qū)通道段;5、低位霧涂區(qū)通道段;5-1、進霧口;5-2、出霧口;5-3、回液口;5-4、防爆口;6、霧涂后爬坡區(qū)通道段;7、霧涂后高位區(qū)通道段;8、霧涂后下坡區(qū)通道段;9、低位出件區(qū)通道段;9-1、出件端;10、工件輸送鏈;11、霧化機;12、靜電發(fā)生頭;13、高位氣流循環(huán)通道;14、入口風(fēng)幕機;15、出口風(fēng)幕機;16、廢氣排出接口;17、清潔空氣輸入接口;18、廢氣處理裝置;19、制冷盤管;20、防爆口蓋;1’、工件。

      具體實施方式

      為能進一步了解本發(fā)明的發(fā)明內(nèi)容、特點及功效,茲例舉以下實施例,并配合附圖詳細說明如下:

      請參閱圖1-7,一種直線型氣壓平衡式超聲霧化裝置,包括工件輸送通道,工件輸送通道由低位進件區(qū)通道段1、霧涂前爬坡區(qū)通道段2、霧涂前高位區(qū)通道段3、霧涂前下坡區(qū)通道段4、低位霧涂區(qū)通道段5、霧涂后爬坡區(qū)通道段6、霧涂后高位區(qū)通道段7、霧涂后下坡區(qū)通道段8及低位出件區(qū)通道段9依次連接形成。具體的,低位霧涂區(qū)通道段、低位進件區(qū)通道段和低位出件區(qū)通道段均位于低位,霧涂前高位區(qū)通道段和霧涂后高位區(qū)通道段均位于高位,形成高低位差,高低位差有2m以上,霧涂前爬坡區(qū)通道段、霧涂前下坡區(qū)通道段、霧涂后爬坡區(qū)通道段及霧涂后下坡區(qū)通道段均傾斜設(shè)置,以實現(xiàn)對應(yīng)低位區(qū)通道段與高位區(qū)通道段的銜接。

      低位進件區(qū)通道段的端口形成進件端1-1,低位出件區(qū)通道段的端口形成出件端9-1。在工件輸送通道內(nèi)沿著通道的走向設(shè)置沿鏈軌運動的工件輸送鏈10。具體的,工件輸送鏈設(shè)置在工件輸送通道的頂部位置,工件輸送鏈運行方向與工件輸送通道的整體布置方向保持一致,工件輸送鏈用于吊運工件,使工件從低位進件區(qū)通道段的進件端口進入到工件輸送通道內(nèi),先后依次通過低位進件區(qū)通道段、霧涂前爬坡區(qū)通道段、霧涂前高位區(qū)通道段、霧涂前下坡區(qū)通道段,然后進入到低位霧涂區(qū)通道段內(nèi),在該通道段內(nèi)對工件表面進行靜電霧涂處理,在靜電霧涂處理后,先后依次通過霧涂后爬坡區(qū)通道段、霧涂后高位區(qū)通道段、霧涂后下坡區(qū)通道段及低位出件區(qū)通道段,最后通過低位出件區(qū)通道段的出件端口輸出。

      在低位霧涂區(qū)通道段的箱體側(cè)壁上設(shè)置有進霧口5-1,且在該箱體的底部設(shè)置有出霧口5-2和回液口5-3,進霧口與出霧口通過管路與外設(shè)的霧化設(shè)備連接,霧化設(shè)備采用霧化機11,霧化機與存儲霧涂介質(zhì)的儲液罐連接,儲液罐在附圖中未示出。在回液口位置安裝有閥門,閥門在附圖中均為示出,這樣,隨著工作時間的積累會有一定數(shù)量的霧涂液體凝聚到霧涂區(qū)工作段箱體的底部,打開閥門定期收集這些液體過濾后勾兌處理,可實現(xiàn)再循環(huán)利用。在霧涂區(qū)箱體內(nèi)安裝有靜電發(fā)射頭12,靜電發(fā)射頭與外設(shè)的靜電發(fā)生器連接,在工作狀態(tài)中靜電發(fā)射頭持續(xù)的給工作介質(zhì)加靜電,使工作介質(zhì)帶有電荷,靜電發(fā)生器集成在本前處理裝置的控制系統(tǒng)中,以手動或者自動的方式來啟動與關(guān)閉,其中靜電發(fā)生器在附圖中未示出。在霧涂區(qū)箱體內(nèi)設(shè)置有濃度測試探頭,濃度測試探頭與外部控制系統(tǒng)連接,濃度檢測探頭及外部控制系統(tǒng)在附圖中未示出,濃度測試探頭用于測試霧涂區(qū)箱體內(nèi)的霧涂介質(zhì)的濃度,并將濃度值及時反饋給外部控制系統(tǒng),以控制上述霧化機的運行狀況,濃度檢測探頭在霧涂區(qū)箱體內(nèi)的設(shè)置位置在不影響工件輸送及上述靜電發(fā)生探頭布置的情況下,可靈活設(shè)置。本技術(shù)方案的創(chuàng)新點在以下幾個方面:

      工件輸送通道在平面投影方向整體呈直線型,也稱一字型工件輸送通道。

      在霧涂前高位區(qū)通道段外部和霧涂后高位區(qū)通道段外部連接有高位氣流循環(huán)通道13,高位氣流循環(huán)通道的一端與霧涂前爬坡區(qū)通道段的上端連通,高位氣流循環(huán)通道的另一端與霧涂后下坡區(qū)通道段的上端連通,這樣,在高位形成一個環(huán)形通道,環(huán)形通道包饒在霧涂前下坡區(qū)通道段、低位霧涂區(qū)通道段及霧涂后爬坡區(qū)通道段三段連接通道的外部。

      在霧涂前下坡區(qū)通道段的上端入口位置安裝有對上端入口形成氣封的入口風(fēng)幕機14,在霧涂后上坡區(qū)通道段的上端出口位置安裝有對上端出口形成氣封的出口風(fēng)幕機15,兩臺風(fēng)幕機使霧涂前下坡區(qū)通道段、低位霧涂區(qū)通道段及霧涂后爬坡區(qū)通道段三段連接通道與兩端的其他通道段形成氣隔離,從而保證了外部的氣流不會對霧涂工作空間的氣流造成干擾。

      在霧涂前下坡區(qū)通道段的箱體底部靠近其上端入口位置及霧涂后上坡區(qū)通道段的箱體底部靠近其上端出口位置各設(shè)置有一廢氣排出接口16,在霧涂前高位區(qū)通道段的箱體頂部及霧涂后高位區(qū)通道段的箱體頂部各設(shè)置有一清潔空氣輸入接口17,在霧涂前下坡區(qū)通道段的廢氣排出接口與霧涂前高位區(qū)通道段的清潔空氣輸入接口之間、在霧涂后上坡區(qū)通道段的廢氣排出接口與霧涂后高位區(qū)通道段的清潔空氣輸入接口之間各連接一套外設(shè)的廢氣處理裝置18,使對應(yīng)的兩組連接通道形成氣循環(huán)。具體的,廢氣處理裝置對廢氣進行冷凝、uv光解等多步處理,將廢氣中的霧涂物質(zhì)分解為co2和水等無污染物質(zhì),這樣,可實現(xiàn)廢氣的循環(huán)再利用。上述兩臺風(fēng)幕機的進氣分別依靠對應(yīng)端的清潔空氣輸入接口輸入的空氣提供。兩臺風(fēng)幕機吹風(fēng)形成風(fēng)簾將霧涂區(qū)向霧涂前下坡區(qū)通道段和霧涂后上坡區(qū)通道段擴散的霧涂物質(zhì)與外部進入的空氣進行隔離,且通過上述廢氣處理通路和高位氣流循環(huán)通道形成兩套獨立的氣循環(huán),一方面避免了霧涂物質(zhì)外溢而對環(huán)境造成污染,另一方面避免了外界氣流對霧涂區(qū)的干擾,保證了霧涂區(qū)的霧涂物質(zhì)的穩(wěn)定形和均勻性。

      進一步的,在上述直線型氣壓平衡式超聲霧化裝置的基礎(chǔ)上,在低位霧涂區(qū)通道段內(nèi)還設(shè)置有制冷盤管19,制冷盤管固定在對應(yīng)通道段的箱體兩側(cè)側(cè)壁上,制冷盤管與外設(shè)的制冷系統(tǒng)連接。通過在霧涂區(qū)通道段內(nèi)設(shè)置制冷盤管,可為霧涂工作空間創(chuàng)造穩(wěn)定的低溫環(huán)境溫度,這樣,易于保證霧涂工作區(qū)內(nèi)的霧涂介質(zhì)的濃度,另外,也弱化了霧涂介質(zhì)沿霧涂前下坡區(qū)通道段和霧涂后上坡區(qū)通道段上行的擴散量。

      進一步的,為提高本超聲霧化裝置工作的安全性,在霧涂區(qū)箱體的頂部還設(shè)置有多個防爆口5-4,在每個防爆口位置均設(shè)置有一防爆口蓋20,防爆口蓋與對應(yīng)防爆口通過密封墊片形成密封接觸。具體的,防爆口蓋可通過多種方式設(shè)置在防爆口位置,優(yōu)選的方式是:防爆口蓋的一邊與對應(yīng)防爆口的一側(cè)形成鉸連接,這樣,當(dāng)設(shè)備運行中操作不當(dāng)或特別狀況引起的燃燒,導(dǎo)致箱體內(nèi)壓力突然升高,當(dāng)壓力升高至一定值時,防爆口蓋自行開啟、且不會飛出,實現(xiàn)了泄壓,以保護設(shè)備和現(xiàn)場人員。

      本超聲霧化裝置的工作流程為:

      工件1’(掛件)沿著鏈軌由低位進件區(qū)通道段進件端口進入到工件輸送通道內(nèi),然后依次經(jīng)霧涂前爬坡區(qū)通道段、霧涂前高位區(qū)通道段、霧涂前下坡區(qū)通道段,然后進入到低位霧涂區(qū)通道段,在霧涂區(qū)通道段內(nèi),帶有電荷的霧氣吸附在工件的表面上,隨著沿鏈軌的運轉(zhuǎn),工件表面形成均勻可控的薄膜,覆膜后的工件依次經(jīng)霧涂后爬坡區(qū)通道段、霧涂后高位區(qū)通道段、霧涂后下坡區(qū)通道段及低位出件區(qū)通道段,最后通過低位出件區(qū)通道段的出件端口輸出,至此完成了工件的整個超聲霧化前處理過程。在這個過程中,霧涂介質(zhì)大部分被吸附到工件表面,形成薄膜,只有少量的霧涂介質(zhì)混合到空氣中,向上擴散到霧涂前下坡區(qū)通道段內(nèi)和霧涂后上坡區(qū)通道段內(nèi),被兩臺風(fēng)幕機吹出的風(fēng)簾阻擋,并通過廢氣處理裝置進行處理,這樣,就做到了不外泄、不污染。

      以上所述僅為本發(fā)明的較佳施例,并非用來限定本發(fā)明的實施范圍。即凡依本發(fā)明申請專利范圍的內(nèi)容所做的等效變化與修飾,比如,防爆口蓋通過膠帶固定密封在防爆口位置,在低位進件區(qū)通道段內(nèi)和低位出件區(qū)通道段內(nèi)進一步設(shè)置與外設(shè)制冷系統(tǒng)連接的制冷盤管,以形成低溫工作區(qū)等,均落入本發(fā)明的技術(shù)范圍。

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