一種適用于復(fù)雜工作介質(zhì)的真空過(guò)濾器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及真空系統(tǒng)中過(guò)濾介質(zhì)的設(shè)備,具體地說(shuō)是一種適用于復(fù)雜工作介質(zhì)的真空過(guò)濾器。
【背景技術(shù)】
[0002]真空系統(tǒng)中的工作介質(zhì)一般都含有各種各樣的成分,其中介質(zhì)中還可能有粉塵顆粒、水蒸汽等雜質(zhì),出于對(duì)真空系統(tǒng)的保護(hù)和保護(hù)環(huán)境的考慮,盡量減少真空系統(tǒng)中工作介質(zhì)的雜質(zhì),使工作介質(zhì)在流通工作管路、真空泵、尾氣處理系統(tǒng)并排放的時(shí)候盡量清潔。在系統(tǒng)管路中真空泵前端或者尾氣處理前端進(jìn)行過(guò)濾處理,將影響泵使用、影響系統(tǒng)使用的雜質(zhì)過(guò)濾是非常必要的。
[0003]目前,行業(yè)內(nèi)采用的介質(zhì)處理方法一般都為過(guò)濾,采用真空介質(zhì)通過(guò)濾芯的方式,將介質(zhì)中固體顆粒的直徑大于濾芯內(nèi)部孔道直徑的顆粒從工作介質(zhì)中分離出來(lái),達(dá)到凈化真空工作介質(zhì)的作用。該方法只能處理固體顆粒和在過(guò)濾階段和過(guò)濾階段前形成的顆粒,但是真空介質(zhì)中含有的成分比較復(fù)雜,比如PEcVD工作介質(zhì)中含有大量的硫單質(zhì),在過(guò)濾階段是以氣態(tài)形式存在的,但是當(dāng)一定條件下會(huì)形成粉塵,比如溫度降低、壓力變化導(dǎo)致硫蒸汽的分壓力高于飽和蒸氣壓的時(shí)候,硫單質(zhì)會(huì)在過(guò)濾階段的后段形成粉塵顆粒,并繼續(xù)隨著工作介質(zhì)進(jìn)入系統(tǒng),從而影響真空系統(tǒng)的潔凈度和使用壽命。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]針對(duì)上述問(wèn)題,本發(fā)明的目的在于提供一種適用于復(fù)雜工作介質(zhì)的真空過(guò)濾器。該過(guò)濾器清除了從真空系統(tǒng)出口處排出的介質(zhì)中的粉塵顆粒,提高了真空管道和真空元器件的潔凈度和使用壽命,可避免泵的損害,從而提高了泵的使用壽命,減少了設(shè)備維修時(shí)間和成本。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
[0006]一種適用于復(fù)雜工作介質(zhì)的真空過(guò)濾器,包括殼體、捕集阱和靜電吸附裝置,其中殼體的一端及側(cè)壁上分別設(shè)有排氣口和進(jìn)氣口,所述捕集阱和靜電吸附裝置均設(shè)置于殼體內(nèi),并且捕集阱設(shè)置于殼體內(nèi)遠(yuǎn)離排氣口的一端,所述靜電吸附裝置設(shè)置于殼體的靠近排氣口的一端。
[0007]所述殼體包括內(nèi)殼體和外殼體,其中外殼體的底部設(shè)有開(kāi)口,側(cè)壁設(shè)有所述進(jìn)氣口,所述內(nèi)殼體的兩端為敞開(kāi)式,內(nèi)殼體的一端從外殼體底部的開(kāi)口插入外殼體內(nèi)、并與外殼體的上端內(nèi)壁留有距離,所述內(nèi)殼體的另一端為所述排氣口,所述內(nèi)殼體的外壁與外殼體的內(nèi)壁之間留有用于氣體流通的空隙,所述捕集阱設(shè)置于外殼體的底部,所述靜電吸附裝置設(shè)置于內(nèi)殼體與外殼體之間、并位于進(jìn)氣口的上方。
[0008]本發(fā)明還包括設(shè)置于殼體外部的冷卻裝置和加熱裝置,所述冷卻裝置和加熱裝置分別設(shè)置于所述殼體的進(jìn)氣口和排氣口上。所述冷卻裝置為套式冷卻裝置,所述加熱裝置為加熱管式加熱裝置。
[0009]所述殼體內(nèi)還設(shè)有穩(wěn)流裝置,所述穩(wěn)流裝置設(shè)置于進(jìn)氣口處。所述穩(wěn)流裝置為板式柵格穩(wěn)流裝置。所述殼體內(nèi)還設(shè)有顆粒間隙過(guò)濾裝置,所述顆粒間隙過(guò)濾裝置設(shè)置于內(nèi)殼體的一端與外殼體的上端內(nèi)壁之間。所述顆粒間隙過(guò)濾裝置為管式燒結(jié)濾芯。所述捕集阱為容積式的捕集阱。所述靜電吸附裝置為二級(jí)靜電吸附裝置。
[0010]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)及有益效果是:
[0011]1.本發(fā)明清除了從真空系統(tǒng)出口處排出的介質(zhì)中的粉塵顆粒,提高了真空管道和真空元器件的潔凈度和使用壽命,可避免泵的損害,從而提高了泵的使用壽命,減少了設(shè)備維修時(shí)間和成本。
[0012]2.本發(fā)明在保證介質(zhì)過(guò)濾的效果的條件下可以盡可能的減小過(guò)濾裝置對(duì)于真空系統(tǒng)真空度、抽速的影響,保證抽速的條件下可以盡可能的提高過(guò)濾的效果,并且安裝方便。
【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]其中:1為冷卻裝置,2為穩(wěn)流裝置,3為捕集阱,4為靜電吸附裝置,5為顆粒間隙過(guò)濾裝置,6為加熱裝置,7為進(jìn)氣口,8為排氣口,9為內(nèi)殼體,10為外殼體。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述。
[0016]如圖1所示,本發(fā)明包括殼體、冷卻裝置1、穩(wěn)流裝置2、捕集阱3、靜電吸附裝置4、顆粒間隙過(guò)濾裝置5及加熱裝置6,其中殼體包括內(nèi)殼體9和外殼體10,其中外殼體10的底部設(shè)有開(kāi)口,側(cè)壁設(shè)有所述進(jìn)氣口 7。所述內(nèi)殼體9的兩端為敞開(kāi)式,內(nèi)殼體9的一端從外殼體10底部的開(kāi)口插入外殼體10內(nèi)、并與外殼體10的上端內(nèi)壁留有距離,所述內(nèi)殼體9的另一端為所述排氣口 8,所述內(nèi)殼體9的外壁與外殼體10的內(nèi)壁之間留有用于氣體流通的空隙。所述穩(wěn)流裝置2、捕集阱3及靜電吸附裝置4設(shè)置于內(nèi)殼體9和外殼體10之間的空隙內(nèi),所述捕集阱3設(shè)置于外殼體10的底部,所述穩(wěn)流裝置2設(shè)置于進(jìn)氣口 7處,所述靜電吸附裝置4設(shè)置于進(jìn)氣口 7的上方,所述顆粒間隙過(guò)濾裝置5設(shè)置于內(nèi)殼體9的一端與外殼體10的上端內(nèi)壁之間。所述冷卻裝置I和加熱裝置6設(shè)置于殼體的外側(cè),冷卻裝置I設(shè)置于進(jìn)氣口 7上,加熱裝置6設(shè)置于排氣口 8上。
[0017]所述冷卻裝置I可以將工作介質(zhì)中的由溫度影響的組分分離出來(lái),比如還含有水蒸汽,水蒸汽在20°C條件下的飽和蒸氣壓為2340Pa,當(dāng)處于真空系統(tǒng)中時(shí),需要將介質(zhì)的溫度降低到20°C以下就可以將介質(zhì)中的水分析出,以達(dá)到凈化介質(zhì)的目的。冷卻裝置I的形式可以有很多種,如套式、百葉窗式或冷卻管式等,本實(shí)施例采用套式冷卻裝置,冷卻介質(zhì)為水、液氮或液氦等
[0018]所述穩(wěn)流裝置2與捕集阱3可以合用達(dá)到沉積粉塵的作用。懸浮在空氣中的粉塵,之所以懸浮大多是因?yàn)闅怏w分子附著在粉塵顆粒表面,形成懸浮狀態(tài),并且在較高真空條件下粉塵也會(huì)隨著高速流動(dòng)的工作介質(zhì)流動(dòng)。穩(wěn)流裝置2與捕集阱3處于真空系統(tǒng)中,介質(zhì)中的氣體含量比較少,粉塵形成懸浮狀態(tài)的幾率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于低真空狀態(tài),穩(wěn)流裝置2將真空管路中的高速介質(zhì)流態(tài)改變,速度降低,由原來(lái)的同一方向改變?yōu)槌蚋鱾€(gè)方向,并達(dá)到較高真空度,將粉塵表面的氣體分子去除,由重力或其他捕集方式捕集在捕集阱3中。穩(wěn)流裝置2可以是穩(wěn)流板(起將穩(wěn)流區(qū)隔離、或更改工作介質(zhì)流