可保護(hù)基材的濕膜制備器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種濕膜制備裝置，特別為一種可保護(hù)基材的濕膜制備器。
【背景技術(shù)】
[0002]眾所周知，在涂料領(lǐng)域，研究人員常常需要測定涂料試樣的遮蓋力、色澤等基本參數(shù)或者是制作涂料樣板。這就需要研究著用所研究的涂料制備出具有特定厚度的濕膜，由于人手臂的不穩(wěn)定性，因而通過手工涂布制作出來的濕膜通常薄厚不一難以達(dá)到試驗的要求，因此本領(lǐng)域技術(shù)人員通常要借助濕膜制備器的幫助來制備出厚度相對均勻的濕膜。
[0003]然而，現(xiàn)有濕膜制備器通常具有棱角，因此在涂布的過程當(dāng)中現(xiàn)有濕膜制備器的棱角容易刮傷基材，尤其是在涂布類似聚酯膜材料這樣的材料時，其表面更是容易被劃損，從而導(dǎo)致涂布困難且涂布不均的問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型的目的在于:提供一種不易劃損基材表面且涂布均勻的可保護(hù)基材的濕膜制備器。
[0005]本實用新型通過如下技術(shù)方案實現(xiàn):一種可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:包括基座、固定在基座的下端面上并用于涂布涂料的涂布輥以及兩個分別設(shè)置在涂布輥左右兩側(cè)面的側(cè)板，側(cè)板與基座的下端面連接；
[0006]所述側(cè)板和涂布輥的橫截面底部均為半圓形，涂布輥橫截面半徑小于兩側(cè)板橫截面半徑，且所述涂布棍最下端與側(cè)板橫截面最下端之間的高度差值范圍在ΙΟΟ-ΙΟΟΟμηι之間。
[0007]涂布輥橫截面半徑與側(cè)板半徑之間的差值決定了最終制作出的濕膜的厚度，可根據(jù)所需濕膜的厚度進(jìn)行設(shè)定，通常可設(shè)計為I OOym、15 Oym、5 O Oym、I OOOym。
[0008]為了更好的實施本方案，還提供如下優(yōu)化方案:
[0009]進(jìn)一步的，所述基座、涂布棍以及側(cè)板之間為一體式連接。
[0010]很好的防止了涂料從各部件的縫隙中滲入，從而腐蝕部件，使得本實用新型更加耐用并且更加便于清洗。
[0011]進(jìn)一步的，所述基座與側(cè)板之間還設(shè)有能夠使涂布輥沿著側(cè)板的側(cè)壁面上下移動或固定的升降裝置。
[0012]這樣使得使用者能夠通過改變基座與側(cè)板之間的相對位置從而最終改變所制備濕膜的厚度。
[0013]進(jìn)一步的，所述升降裝置包括設(shè)置在基座上表面的旋鈕、穿設(shè)在基座內(nèi)部的轉(zhuǎn)桿、能夠防止升降裝置與基座之間發(fā)生上下滑動的限位凸起以及與側(cè)板的上端面螺紋連接的螺桿；
[0014]所述旋鈕、轉(zhuǎn)桿、限位凸起以及螺桿依次上下固定連接在一起形成一個整體。
[0015]進(jìn)一步的，所述螺桿上螺紋的螺距長度范圍在1-ΙΟΟμπι之間。
[0016]這里，螺距的長度決定了最終所制備濕膜厚度的精確度。
[0017]進(jìn)一步的，所述涂布輥位于升降裝置附近的側(cè)壁面上設(shè)有沿升降裝置長度方向延伸的刻度。
[0018]使用者通過觀察刻度即可獲知涂布輥最下端與側(cè)板橫截面最下端之間的高度差值是否已等于所要制備的濕膜厚度。
[0019]進(jìn)一步的，所述側(cè)板的底面上覆設(shè)有耐磨層。
[0020]這樣，可減少在使用的過程中往復(fù)移動本實用新型對側(cè)板的底面所造成的磨損。
[0021]進(jìn)一步的，所述基座、涂布輥以及側(cè)板均為不銹鋼制成。
[0022]使用不銹鋼材質(zhì)更加堅固耐用，同時便于使用后的清潔。
[0023]進(jìn)一步的，所述涂布輥的外表面經(jīng)由鏡面拋光處理。
[0024]鏡面拋光處理后的涂布輥使得制作出的濕膜表面更加光滑。
[0025]進(jìn)一步的，還包括固設(shè)于基座上表面的手把。
[0026]較之前技術(shù)而言，本實用新型的有益效果為:
[0027]1.本實用新型與基材的接觸面為光滑的曲面，不存在棱角，因而不會對基材的表面造成損失，所制作出的濕膜厚度更加均勻，濕膜的表面更加光滑；
[0028]2.本實用新型能夠通過調(diào)節(jié)涂布輥與側(cè)板之間的相對位置從而最終改變所制備的濕膜的厚度，使用方便靈活，能夠滿足不同實驗對于濕膜厚度的要求；
[0029]3.本實用新型各部件采用一體式連接，很好的防止了涂料從各部件的縫隙中滲入，從而腐蝕部件，使得本實用新型更加耐用并且更加便于清洗；
[0030]4.所述涂布輥的外表面經(jīng)由鏡面拋光處理，使得所制作出的濕膜表面更加光滑。
【附圖說明】
[0031 ]圖1為實施例1立體不意圖；
[0032]圖2為實施例2主視圖；
[0033]圖3為實施例2左視圖；
[0034]圖4為實施例2截面示意圖。
[0035]標(biāo)號說明:1-基座、11-手把、2、涂布輥、3-側(cè)板、41-旋鈕、42-轉(zhuǎn)桿、43-限位凸起、44-螺桿、5-刻度。
【具體實施方式】
[0036]下面結(jié)合【附圖說明】對本實用新型做詳細(xì)說明:
[0037]實施例1:
[0038]如圖1所示，本實施例包括基座1、固定在基座I的下端面上并用于涂布涂料的涂布輥2以及兩個分別設(shè)置在涂布輥2左右兩側(cè)面的側(cè)板3，側(cè)板3與基座I的下端面連接；
[0039]所述側(cè)板3和涂布輥2的橫截面底部均為半圓形，涂布輥2橫截面半徑小于兩側(cè)板3橫截面半徑，且所述涂布棍2最下端與側(cè)板3橫截面最下端之間的高度差值范圍在100-1000Mi之間。
[0040]進(jìn)一步的，所述基座1、涂布輥2以及側(cè)板3之間為一體式連接。
[0041]本實施例結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，適合于長期制備同一厚度的濕膜，所制作出的濕膜厚度精確均勻。
[0042]實施例2:
[0043]如圖2-4所示，本實施例包括基座1、固定在基座I的下端面上并用于涂布涂料的涂布輥2以及兩個分別設(shè)置在涂布輥2左右兩側(cè)面的側(cè)板3，側(cè)板3與基座I的下端面連接；
[0044]所述側(cè)板3和涂布輥2的橫截面底部均為半圓形，涂布輥2橫截面半徑小于兩側(cè)板3橫截面半徑，且所述涂布棍2最下端與側(cè)板3橫截面最下端之間的高度差值范圍在100-1000Mi之間。
[0045]進(jìn)一步的，所述基座I與側(cè)板3之間還設(shè)有能夠使涂布輥沿著側(cè)板的側(cè)壁面上下移動或固定的升降裝置。
[0046]進(jìn)一步的，所述升降裝置包括設(shè)置在基座I上表面的旋鈕41、穿設(shè)在基座I內(nèi)部的轉(zhuǎn)桿42、能夠防止升降裝置與基座I之間發(fā)生上下滑動的限位凸起43以及與側(cè)板的上端面螺紋連接的螺桿44;
[0047]所述旋鈕41、轉(zhuǎn)桿42、限位凸起43以及螺桿44依次上下固定連接在一起形成一個整體。
[0048]進(jìn)一步的，所述螺桿44上螺紋的螺距長度范圍在1-ΙΟΟμπι之間。
[0049]進(jìn)一步的，所述涂布輥2位于升降裝置附近的側(cè)壁面上設(shè)有沿升降裝置長度方向延伸的刻度5。
[0050]本實施例結(jié)構(gòu)精巧，使用靈活，適合于需要頻繁制備厚度標(biāo)準(zhǔn)不一的濕膜時使用。
[0051]為了更好的實施本實用新型，還提供如下優(yōu)化方案:
[0052]進(jìn)一步的，所述側(cè)板3的底面上覆設(shè)有耐磨層。
[0053]進(jìn)一步的，所述基座1、涂布輥2以及側(cè)板3均為不銹鋼制成。
[0054]進(jìn)一步的，所述涂布輥2的外表面經(jīng)由鏡面拋光處理。
[0055]進(jìn)一步的，還包括固設(shè)于基座I上表面的手把11。
[0056]盡管本實用新型采用具體實施例及其替代方式對本實用新型進(jìn)行示意和說明，但應(yīng)當(dāng)理解，只要不背離本實用新型的精神范圍內(nèi)的各種變化和修改均可實施。因此，應(yīng)當(dāng)理解除了受隨附的權(quán)利要求及其等同條件的限制外，本實用新型不受任何意義上的限制。
【主權(quán)項】
1.一種可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:包括基座(I)、固定在基座(I)的下端面上并用于涂布涂料的涂布輥(2)以及兩個分別設(shè)置在涂布輥(2)左右兩側(cè)面的側(cè)板(3)，側(cè)板(3)與基座(I)的下端面連接； 所述側(cè)板(3)和涂布輥(2)的橫截面底部均為半圓形，涂布輥(2)橫截面半徑小于兩側(cè)板(3)橫截面半徑，且所述涂布棍(2)最下端與側(cè)板(3)橫截面最下端之間的高度差值范圍在 10-1OOOym之間。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:所述基座(1)、涂布輥(2)以及側(cè)板(3)之間為一體式連接。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:所述基座(I)與側(cè)板(3)之間還設(shè)有能夠使涂布輥沿著側(cè)板的側(cè)壁面上下移動或固定的升降裝置。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:所述升降裝置包括設(shè)置在基座(I)上表面的旋鈕(41)、穿設(shè)在基座(I)內(nèi)部的轉(zhuǎn)桿(42)、能夠防止升降裝置與基座(I)之間發(fā)生上下滑動的限位凸起(43)以及與側(cè)板的上端面螺紋連接的螺桿(44); 所述旋鈕(41)、轉(zhuǎn)桿(42)、限位凸起(43)以及螺桿(44)依次上下固定連接在一起形成一個整體。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:所述螺桿(44)上螺紋的螺距長度范圍在1-ΙΟΟμπι之間。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:所述涂布輥(2)位于升降裝置附近的側(cè)壁面上設(shè)有沿升降裝置長度方向延伸的刻度(5)。7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項所述的可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:所述側(cè)板(3)的底面上覆設(shè)有耐磨層。8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項所述的可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:所述基座(I)、涂布輥(2)以及側(cè)板(3)均為不銹鋼制成。9.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項所述的可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:所述涂布輥(2)的外表面經(jīng)由鏡面拋光處理。10.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項所述的可保護(hù)基材的濕膜制備器，其特征在于:還包括固設(shè)于基座(I)上表面的手把(11)。
【專利摘要】本實用新型涉及一種濕膜制備裝置，特別為一種可保護(hù)基材的濕膜制備器。本實用新型包括基座、固定在基座的下端面上并用于涂布涂料的涂布輥以及兩個分別設(shè)置在涂布輥左右兩側(cè)面的側(cè)板，側(cè)板與基座的下端面連接；所述側(cè)板和涂布輥的橫截面底部均為半圓形，涂布輥橫截面半徑小于兩側(cè)板橫截面半徑，且所述涂布輥最下端與側(cè)板橫截面最下端之間的高度差值范圍在100-1000μm之間。涂布輥橫截面半徑與側(cè)板半徑之間的差值決定了最終制作出的濕膜的厚度，可根據(jù)所需濕膜的厚度進(jìn)行設(shè)定，通?？稍O(shè)計為100μm、150μm、500μm、1000μm。本實用新型不易劃損基材表面且涂布均勻。
【IPC分類】B05C17/02
【公開號】CN205308738
【申請?zhí)枴緾N201521011483
【發(fā)明人】洪杰, 李祥文
【申請人】三棵樹涂料股份有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2015年12月8日