一種dc環(huán)填料的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種DC環(huán)填料，包括由金屬薄片構(gòu)成的圓柱形本體（1），所述圓柱形本體（1）軸向的兩端設(shè)有波浪形凸緣（2）；所述的圓柱形本體（1）的側(cè)壁中部徑向向內(nèi)連體沖壓有若干弧形舌片（3）且所述圓柱形本體（1）上具有與所述弧形舌片（3）對應(yīng)的矩形口（4），所述矩形口（4）沿著所述的圓柱形本體（1）周向均勻分布，所述圓柱形本體（1）的側(cè)壁上于相鄰所述矩形口（4）之間設(shè)有沿所述圓柱形本體（1）軸向排布的排孔（5）；本實用新型不易串結(jié)，通量大，阻力小，散堆效果好。
【專利說明】
一種DC環(huán)填料
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實用新型涉及一種DC環(huán)填料。
【背景技術(shù)】
[0002]填料主要用于填料塔，為氣、液兩相提供充分的接觸面，并為提高其湍動程度創(chuàng)造條件，以利于傳質(zhì)及傳熱。它們應(yīng)能使氣、液接觸面大、傳質(zhì)系數(shù)高，同時通量大而阻力小，所以要求填料層空隙率高、比表面積大、表面濕潤性能好，并在結(jié)構(gòu)上還要有利于兩相密切接觸，促進湍流，以及吸附煙氣中的雜質(zhì)等，多在煉油、冶金、煤氣、制氧等行業(yè)的干燥塔、吸收塔、冷卻塔、洗滌塔、再生塔中使用。
[0003 ]現(xiàn)有的DC環(huán)填料結(jié)構(gòu)存在易串結(jié)，通量不足，阻力大的缺點。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是，克服以上現(xiàn)有技術(shù)的缺點:提供一種不易串結(jié)，通量大，阻力小，散堆效果好的DC環(huán)填料。
[0005]本實用新型的技術(shù)解決方案如下:一種DC環(huán)填料，包括由金屬薄片構(gòu)成的圓柱形本體，所述圓柱形本體軸向的兩端設(shè)有波浪形凸緣;所述的圓柱形本體的側(cè)壁中部徑向向內(nèi)連體沖壓有若干弧形舌片且所述圓柱形本體上具有與所述弧形舌片對應(yīng)的矩形口，所述矩形口沿著所述的圓柱形本體周向均勻分布，所述圓柱形本體的側(cè)壁上于相鄰所述矩形口之間設(shè)有沿所述圓柱形本體軸向排布的排孔。
[0006]所述弧形舌片沿著所述圓柱形本體周向的彎曲方向相同。
[0007]作為優(yōu)化，所述的弧形舌片為5-6個。
[0008]作為優(yōu)選，所述的圓柱形本體的內(nèi)徑與其高度之間的比值為1:1.5。
[0009]作為優(yōu)選，所述的矩形口的寬度為所述圓柱形本體高度的1/3。
[0010]作為優(yōu)選，所述排孔的孔數(shù)為5個。
[0011]本實用新型的有益效果是:采用本實用新型的結(jié)構(gòu)，由于波浪形凸緣的設(shè)置可有效防止了填料之間的串結(jié)，改善散堆效果，排孔的設(shè)計在不影響強度的同時，提高了填料徑向的空隙率，更利于液體的分散均勻，減少阻力，并提高傳質(zhì)效率。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型DC環(huán)填料的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2為本實用新型DC環(huán)填料的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0014]下面用具體實施例對本實用新型做進一步詳細說明，但本實用新型不僅局限于以下具體實施例。實施例
[0015]如圖1-2所示，一種DC環(huán)填料，包括由金屬薄片構(gòu)成的圓柱形本體1，所述圓柱形本體I軸向的兩端設(shè)有波浪形凸緣2;所述的圓柱形本體I的側(cè)壁中部徑向向內(nèi)連體沖壓有若干弧形舌片3且所述圓柱形本體I上具有與所述弧形舌片3對應(yīng)的矩形口 4，所述矩形口 4沿著所述的圓柱形本體I周向均勻分布，所述圓柱形本體I的側(cè)壁上于相鄰所述矩形口 4之間設(shè)有沿所述圓柱形本體I軸向排布的排孔5。
[0016]所述弧形舌片3沿著所述圓柱形本體I周向的彎曲方向相同。
[0017]所述的弧形舌片3為5-6個。
[0018]所述的圓柱形本體I的內(nèi)徑與其高度之間的比值為1:1.5。
[0019]所述的矩形口4的寬度為所述圓柱形本體I高度的1/3。
[0020]所述排孔5的孔數(shù)為5個。
[0021]以上僅是本實用新型的特征實施范例，對本實用新型保護范圍不構(gòu)成任何限制。凡采用同等交換或者等效替換而形成的技術(shù)方案，均落在本實用新型權(quán)利保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種DC環(huán)填料，其特征在于:包括由金屬薄片構(gòu)成的圓柱形本體(I)，所述圓柱形本體(I)軸向的兩端設(shè)有波浪形凸緣(2);所述的圓柱形本體(I)的側(cè)壁中部徑向向內(nèi)連體沖壓有若干弧形舌片(3)且所述圓柱形本體(I)上具有與所述弧形舌片(3)對應(yīng)的矩形口(4)，所述矩形口(4)沿著所述的圓柱形本體(I)周向均勻分布，所述圓柱形本體(I)的側(cè)壁上于相鄰所述矩形口(4)之間設(shè)有沿所述圓柱形本體(I)軸向排布的排孔(5)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的DC環(huán)填料，其特征在于:所述弧形舌片(3)沿著所述圓柱形本體(I)周向的彎曲方向相同。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的DC環(huán)填料，其特征在于:所述的弧形舌片(3)為5-6個。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的DC環(huán)填料，其特征在于:所述的圓柱形本體(I)的內(nèi)徑與其高度之間的比值為1:1.5。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的DC環(huán)填料，其特征在于:所述的矩形口(4)的寬度為所述圓柱形本體(I)高度的1/3。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的DC環(huán)填料，其特征在于:所述排孔(5)的孔數(shù)為5個。
【文檔編號】B01J19/30GK205550294SQ201620394079
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年5月4日
【發(fā)明人】段世榮, 馮世萍
【申請人】萍鄉(xiāng)市華順環(huán)?；ぬ盍嫌邢薰?br>