1.一種X射線源，配置為提供X射線輻射的全向傳輸，所述X射線源包括：
- 陽(yáng)極；
- 場(chǎng)發(fā)射陰極；
- 對(duì)于X射線輻射為透明的真空室，陽(yáng)極和場(chǎng)發(fā)射陰極布置在真空外殼內(nèi)部，
其中，真空外殼是延伸的管狀真空室，場(chǎng)發(fā)射陰極布置為與延伸的管狀真空室的內(nèi)表面相鄰，陽(yáng)極中心地布置在延伸的管狀真空室的內(nèi)部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線源，其特征在于，場(chǎng)發(fā)射陰極對(duì)X射線輻射基本上是透明的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1和2中任意一項(xiàng)所述的X射線源，其特征在于，陽(yáng)極具有一個(gè)延伸形狀，延伸形狀與延伸的管狀真空室內(nèi)部的至少一個(gè)部分相匹配且沿著該部分延伸。
4.根據(jù)前面權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的X射線源，其特征在于，X射線源配置為連接至一個(gè)可控的高壓源，在X射線源的操作期間，電子沿著朝向陽(yáng)極的方向從場(chǎng)發(fā)射陰極加速，并且從陽(yáng)極朝向場(chǎng)發(fā)射陰極全方向輻射X射線輻射以及輻射出X射線源。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線源，其特征在于，X射線輻射透射通過(guò)場(chǎng)發(fā)射陰極。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線源，其特征在于，場(chǎng)發(fā)射陰極形成為透射陰極。
7.根據(jù)前面權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的X射線源，其特征在于，場(chǎng)發(fā)射陰極包括多個(gè)納米結(jié)構(gòu)。
8.一種X射線系統(tǒng)，包括：
- 根據(jù)前面權(quán)利要求中任意一項(xiàng)所述的X射線源，以及
- 連接至X射線源用于為X射線源供電的可控高壓電源。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X射線系統(tǒng)，進(jìn)一步包括用于控制電源操作的控制單元。
10.根據(jù)權(quán)利要求8和9中任意一項(xiàng)所述的X射線系統(tǒng)，進(jìn)一步包括用于將X射線源放置于水生環(huán)境中的防水裝置。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的X射線系統(tǒng)，進(jìn)一步包括：
- 用于接收受污染液體流的入口；以及
- 用于輸出處理后的液體流的出口，
其中，X射線輻射朝著受污染液體流全方向地輻射。
12.根據(jù)權(quán)利要求8和9中任意一項(xiàng)所述的X射線系統(tǒng)，進(jìn)一步包括：
- 用于接收受污染空氣流的處理空氣路徑；以及
- 用于在處理空氣路徑內(nèi)布置X射線源的裝置，
其中，X射線輻射朝向處理空氣路徑中的空氣流全方向地輻射。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的X射線系統(tǒng)，其特征在于，X射線源布置為靜電除塵器的部件，進(jìn)一步包括至少一個(gè)收集板。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的X射線系統(tǒng)，其特征在于，X射線系統(tǒng)為空氣凈化器。
15.根據(jù)權(quán)利要求12-14中任意一項(xiàng)所述的X射線系統(tǒng)，進(jìn)一步包括用于顆粒收集的過(guò)濾介質(zhì)，其中，過(guò)濾介質(zhì)沿著空氣流的方向布置在X射線源的下游。