專利名稱：引線框架的電鍍方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種引線框架的制造方法，特別是涉及一種表面局部電鍍的引線框架
的電鍍方法。
背景技術(shù)：
集成電路的引線框架(比如行業(yè)通用型號QFN—方型扁平無引腳封裝、QFP—四 側(cè)引腳扁平封裝等)是制造集成電路半導(dǎo)體元件的基本部件。為滿足制造集成電路半導(dǎo)體 元件的需求，集成電路的引線框架表面的局部區(qū)域需電鍍金屬銀或鎳鈀金，其余部分不要 求有鍍層，否則無法滿足制造集成電路半導(dǎo)體元件的需求，所以集成電路引線框架進(jìn)行電 鍍時需要用電鍍掩膜對其表面不需要進(jìn)行電鍍的部分進(jìn)行保護(hù)?，F(xiàn)有技術(shù)集成電路引線框 架的電鍍方法(如圖1所示的工序圖)為貼干膜；曝光；顯影；電鍍；退干膜，而這種電鍍 方法采用全涂干膜加曝光和顯影的工藝步驟，來形成電鍍掩膜，但是由于干膜的價格較高， 且在工藝過程中需要在集成電路引線框架的表面全貼干膜，在進(jìn)行曝光顯影去掉需電鍍區(qū) 對應(yīng)的干膜，則干膜的用量大，所以電鍍的成本很高，不利于引線框架的批量生產(chǎn)；同時由 于引線框架的側(cè)邊無法進(jìn)行貼干膜，電鍍時容易被鍍上鍍層，這就容易造成電路的短路，導(dǎo) 致成品率較低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為解決以上技術(shù)問題，提供一種電鍍成本較低，有利于批量生產(chǎn) 且成品率高的引線框架的電鍍方法。
本發(fā)明的技術(shù)方案是一種引線框架的電鍍方法，它包括以下步驟 ①.準(zhǔn)備濕菲林溶液，所述的濕菲林溶液的濃度為50% 80% ; ②.將引線框架接上導(dǎo)線后，放入濕菲林溶液中進(jìn)行電鍍，電鍍時間為5 20秒，
溫度為3(TC 7(TC，電鍍后引線框架的四周表面均被鍍上菲林膜層； ③.將電鍍后的引線框架用清水進(jìn)行清洗，并烘干，烘干溫度為8(TC 12(TC，時 間為20 100秒; .對烘干后的引線框架進(jìn)行曝光，曝光要求在無塵的環(huán)境下進(jìn)行，曝光時間為 10 30秒，光照強度為100 1400MJ，環(huán)境溫度為10°C 50°C ; ⑤.對曝光后的引線框架進(jìn)行顯影，顯影時間為100 200秒，顯影后用清水沖洗 并晾干； .將步驟⑤處理完的引線框架接上導(dǎo)線后，放入電鍍液中進(jìn)行電鍍，完成后使 用清水進(jìn)行清洗并晾干； ⑦.對電鍍完的引線框架進(jìn)行退膜處理，噴灑去膜水去除菲林膜層，噴灑時間 100 600秒，溫度為40°C 80°C ; ⑧.將步驟⑦處理完的引線框架用清水清洗完，并晾干即可。
所述的濕菲林溶液的濃度為55% 75%。
所述的步驟②中的電鍍時間為10 15秒。
所述的步驟②中的溫度為40°C 60°C。 所述的步驟③中的烘干溫度為90°C ll(TC，時間為30 90秒。 所述的步驟④中的曝光時間為15 25秒，光照強度為300 1200MJ，環(huán)境溫度為
15°C 45°C。 所述的步驟⑤中的顯影時間為120 180秒。 所述的步驟⑦中的噴灑時間為150 450秒，溫度為50°C 70°C 。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明由于在引線框架電鍍金屬層前使用了電鍍菲林來對弓I線
框架進(jìn)行掩膜處理，這就使得引線框架的側(cè)邊也被鍍上了掩膜，則在曝光顯影后進(jìn)行的電
鍍金屬層時就無法將金屬鍍層鍍上引線框架的側(cè)邊，保證引線框架的電鍍質(zhì)量；同時菲林
的價格要低于干膜的價格。因此本發(fā)明電鍍成本較低，有利于批量生產(chǎn)且成品率高。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)引線框架的電鍍方法的工序示意圖。
圖2為本發(fā)明引線框架的電鍍方法的工序示意圖。
具體實施例方式
下面結(jié)合具體實施實例說明，但本發(fā)明不僅限于以下具體實施實例
實施例1 ①.準(zhǔn)備濕菲林溶液5，所述的濕菲林溶液5的濃度為55%，菲林是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為EAGLE 2100 ED PHOTORESIST; ②.將引線框架l接上導(dǎo)線后，如圖2(a)所示放入濕菲林溶液5中進(jìn)行電鍍，電鍍時間為10 12秒，溫度為40°C 5(TC，如圖2(b)所示電鍍后引線框架1的四周表面均被鍍上菲林膜層6 ; ③.將電鍍后的引線框架1用清水進(jìn)行清洗，并烘干，烘干在常規(guī)的鋸爐中進(jìn)行，烘干溫度為90°C IO(TC，時間為80 90秒； .對烘干后的引線框架1進(jìn)行曝光，曝光要求在無塵的環(huán)境下進(jìn)行，如圖2(c)所示曝光時在引線框架1的上下表面放上玻璃掩膜3，玻璃掩膜3上設(shè)有遮光部3a，遮光部3a用遮擋曝光時的光線防止對應(yīng)的菲林膜層6曝光，曝光時間為20 25秒，光照強度為300 1200MJ，環(huán)境溫度為15°C 25°C ; ⑤.對曝光后的引線框架l進(jìn)行顯影，顯影時間為120 140秒，顯影后用清水沖洗并晾干，顯影液是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為EAGLE 2005 DEVELOPER,則如圖2 (d)所示，可以除去菲林膜層6未被光線照射到的部分，達(dá)到精密掩膜的目的；
.將步驟⑤處理完的引線框架l接上導(dǎo)線后，放入電鍍液中進(jìn)行電鍍，依次進(jìn)行鎳Ni、鈀Pd、金Au的電鍍，完成后使用清水進(jìn)行清洗并晾干，如圖2(e)所示在引線框架1上無菲林膜層6的部分形成鍍層4，電鍍方法及參數(shù)采用現(xiàn)有技術(shù)的方法及參數(shù)；
⑦.對電鍍完的引線框架1進(jìn)行退膜處理，噴灑去膜水去除菲林膜層6，則可以得到如圖2(f)所示的只帶鍍層4的引線框架l，去膜水是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為EAGLE 2007，噴灑時間150 250秒，溫度為50°C 60°C ;
⑧.將步驟⑦處理完的引線框架1用清水清洗完，并晾干即可。
實施例2 ①.準(zhǔn)備濕菲林溶液5，所述的濕菲林溶液5的濃度為65%，菲林是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為EAGLE 2100 ED PHOTORESIST; ②.將引線框架l接上導(dǎo)線后，如圖2(a)所示放入濕菲林溶液5中進(jìn)行電鍍，電鍍時間為12 14秒，溫度為45t: 55t:，如圖2(b)所示電鍍后引線框架1的四周表面均被鍍上菲林膜層6 ; ③.將電鍍后的引線框架1用清水進(jìn)行清洗，并烘干，烘干在常規(guī)的鋸爐中進(jìn)行，烘干溫度為95°C 105°C，時間為60 80秒； .對烘干后的引線框架1進(jìn)行曝光，曝光要求在無塵的環(huán)境下進(jìn)行，如圖2(c)所示曝光時在引線框架1的上下表面放上玻璃掩膜3，玻璃掩膜3上設(shè)有遮光部3a，遮光部3a用遮擋曝光時的光線防止對應(yīng)的菲林膜層6曝光，曝光時間為18 22秒，光照強度為300 1200MJ，環(huán)境溫度為25°C 35°C ; ⑤.對曝光后的引線框架l進(jìn)行顯影，顯影時間為140 160秒，顯影后用清水沖
洗并晾干，顯影液是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為EAGLE 2005 DEVELOPER,則如圖2 (d)
所示，可以除去菲林膜層6未被光線照射到的部分，達(dá)到精密掩膜的目的； .將步驟⑤處理完的引線框架l接上導(dǎo)線后，放入電鍍液中進(jìn)行電鍍，依次進(jìn)行
鎳Ni、鈀Pd、銀Ag的電鍍，完成后使用清水進(jìn)行清洗并晾干，如圖2(e)所示在引線框架1
上無菲林膜層6的部分形成鍍層4，電鍍方法及參數(shù)采用現(xiàn)有技術(shù)的方法及參數(shù)； ⑦.對電鍍完的引線框架1進(jìn)行退膜處理，噴灑去膜水去除菲林膜層6，則可以得
到如圖2(f)所示的只帶鍍層4的引線框架l，去膜水是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為
EAGLE 2007，噴灑時間250 350秒，溫度為55°C 65°C ; ⑧.將步驟⑦處理完的引線框架1用清水清洗完，并晾干即可。 實施例3 ①.準(zhǔn)備濕菲林溶液5，所述的濕菲林溶液5的濃度為75%，菲林是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為EAGLE 2100 ED PHOTORESIST; ②.將引線框架l接上導(dǎo)線后，如圖2(a)所示放入濕菲林溶液5中進(jìn)行電鍍，電鍍時間為13 15秒，溫度為50°C 6(TC，如圖2(b)所示電鍍后引線框架1的四周表面均被鍍上菲林膜層6 ; ③.將電鍍后的引線框架1用清水進(jìn)行清洗，并烘干，烘干在常規(guī)的鋸爐中進(jìn)行，烘干溫度為100°C ll(TC，時間為30 60秒； .對烘干后的引線框架1進(jìn)行曝光，曝光要求在無塵的環(huán)境下進(jìn)行，如圖2(c)所示曝光時在引線框架1的上下表面放上玻璃掩膜3，玻璃掩膜3上設(shè)有遮光部3a，遮光部3a用遮擋曝光時的光線防止對應(yīng)的菲林膜層6曝光，曝光時間為15 20秒，光照強度為300 1200MJ，環(huán)境溫度為35°C 45°C ; ⑤.對曝光后的引線框架l進(jìn)行顯影，顯影時間為160 180秒，顯影后用清水沖洗并晾干，顯影液是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為EAGLE 2005 DEVELOPER,則如圖2 (d)所示，可以除去菲林膜層6未被光線照射到的部分，達(dá)到精密掩膜的目的；
.將步驟⑤處理完的弓I線框架1接上導(dǎo)線后，放入電鍍液中進(jìn)行電鍍銀Ag的電鍍，完成后使用清水進(jìn)行清洗并晾干，如圖2(e)所示在引線框架1上無菲林膜層6的部分形成鍍層4，電鍍方法及參數(shù)采用現(xiàn)有技術(shù)的方法及參數(shù)； ⑦.對電鍍完的引線框架1進(jìn)行退膜處理，噴灑去膜水去除菲林膜層6，則可以得
到如圖2(f)所示的只帶鍍層4的引線框架l，去膜水是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為
EAGLE 2007，噴灑時間350 450秒，溫度為60°C 70°C ; ⑧.將步驟⑦處理完的引線框架1用清水清洗完，并晾干即可。 實施例4 ①.準(zhǔn)備濕菲林溶液5，所述的濕菲林溶液5的濃度為75%，菲林是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為EAGLE 2100 ED PHOTORESIST; ②.將引線框架l接上導(dǎo)線后，如圖2(a)所示放入濕菲林溶液5中進(jìn)行電鍍，電鍍時間為13 15秒，溫度為50°C 6(TC，如圖2(b)所示電鍍后引線框架1的四周表面均被鍍上菲林膜層6 ; ③.將電鍍后的引線框架1用清水進(jìn)行清洗，并烘干，烘干在常規(guī)的鋸爐中進(jìn)行，烘干溫度為100°C ll(TC，時間為30 60秒； .對烘干后的引線框架1進(jìn)行曝光，曝光要求在無塵的環(huán)境下進(jìn)行，如圖2(c)所示曝光時在引線框架1的上下表面放上玻璃掩膜3，玻璃掩膜3上設(shè)有遮光部3a，遮光部3a用遮擋曝光時的光線防止對應(yīng)的菲林膜層6曝光，曝光時間為15 25秒，光照強度為300 1200MJ，環(huán)境溫度為35°C 45°C ; ⑤.對曝光后的引線框架l進(jìn)行顯影，顯影時間為160 180秒，顯影后用清水沖
洗并晾干，顯影液是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為EAGLE 2005 DEVELOPER,則如圖2 (d)
所示，可以除去菲林膜層6未被光線照射到的部分，達(dá)到精密掩膜的目的； .將步驟⑤處理完的引線框架l接上導(dǎo)線后，放入電鍍液中進(jìn)行電鍍，依次進(jìn)行
銅Cu、鎳Ni、鈀Pd、金Au的電鍍，完成后使用清水進(jìn)行清洗并晾干，如圖2(e)所示在引線框
架1上無菲林膜層6的部分形成鍍層4，電鍍方法及參數(shù)采用現(xiàn)有技術(shù)的方法及參數(shù)； ⑦.對電鍍完的引線框架1進(jìn)行退膜處理，噴灑去膜水去除菲林膜層6，則可以得
到如圖2(f)所示的只帶鍍層4的引線框架l，去膜水是美國羅門哈斯公司生產(chǎn)的型號為
EAGLE 2007，噴灑時間350 450秒，溫度為60°C 70°C ; ⑧.將步驟⑦處理完的引線框架1用清水清洗完，并晾干即可。 以上的生產(chǎn)設(shè)備均采用常規(guī)技術(shù)的生產(chǎn)設(shè)備。
權(quán)利要求
一種引線框架的電鍍方法，其特征在于它包括以下步驟①.準(zhǔn)備濕菲林溶液(5)，所述的濕菲林溶液(5)的濃度為50％～80％；②.將引線框架(1)接上導(dǎo)線后，放入濕菲林溶液(5)中進(jìn)行電鍍，電鍍時間為5～20秒，溫度為30℃～70℃，電鍍后引線框架(1)的四周表面均被鍍上菲林膜層(6)；③.將電鍍后的引線框架(1)用清水進(jìn)行清洗，并烘干，烘干溫度為80℃～120℃，時間為20～100秒；④.對烘干后的引線框架(1)進(jìn)行曝光，曝光要求在無塵的環(huán)境下進(jìn)行，曝光時間為10～30秒，光照強度為100～1400MJ，環(huán)境溫度為10℃～50℃；⑤.對曝光后的引線框架(1)進(jìn)行顯影，顯影時間為100～200秒，顯影后用清水沖洗并晾干；⑥.將步驟⑤處理完的引線框架(1)接上導(dǎo)線后，放入電鍍液中進(jìn)行電鍍，完成后使用清水進(jìn)行清洗并晾干；⑦.對電鍍完的引線框架(1)進(jìn)行退膜處理，噴灑去膜水去除菲林膜層(6)，噴灑時間100～600秒，溫度為40℃～80℃；⑧.將步驟⑦處理完的引線框架(1)用清水清洗完，并晾干即可。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的引線框架的電鍍方法，其特征在于所述的濕菲林溶液(5) 的濃度為55% 75%。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的引線框架的電鍍方法，其特征在于所述的步驟②中的電鍍 時間為10 15秒。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的引線框架的電鍍方法，其特征在于所述的步驟②中的溫度為40°C 60°C。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的引線框架的電鍍方法，其特征在于所述的步驟③中的烘干 溫度為90°C ll(TC，時間為30 90秒。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的引線框架的電鍍方法，其特征在于所述的步驟④中的曝光 時間為15 25秒，光照強度為300 1200MJ，環(huán)境溫度為15°C 45°C。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的引線框架的電鍍方法，其特征在于所述的步驟⑤中的顯影 時間為120 180秒。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的引線框架的電鍍方法，其特征在于所述的步驟⑦中的噴灑 時間為150 450秒，溫度為50°C 70°C。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種引線框架的電鍍方法，它包括以下步驟①準(zhǔn)備濕菲林溶液(5)；②電鍍菲林層；③清洗，并烘干；④曝光；⑤顯影；⑥電鍍金屬層；⑦退膜處理；⑧清洗，并晾干。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于在引線框架電鍍金屬層前使用了電鍍菲林來對引線框架進(jìn)行掩膜處理，這就使得引線框架的側(cè)邊也被鍍上了掩膜，則在進(jìn)行的電鍍金屬層時就無法將金屬鍍層鍍上引線框架的側(cè)邊，保證引線框架的電鍍質(zhì)量；同時菲林的價格要低于干膜的價格。因此本發(fā)明電鍍成本較低，有利于批量生產(chǎn)且成品率高。
文檔編號C25D9/02GK101707185SQ20091015458
公開日2010年5月12日 申請日期2009年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月10日
發(fā)明者鄧道斌, 鄭康定, 馬葉軍 申請人:寧波康強電子股份有限公司