專利名稱：一種電沉積方法制備金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層裝置。
背景技術(shù)：
利用電沉積方法可得到純金屬或合金鍍層，以起到裝飾性、保護(hù)性、耐磨性、自潤滑性以及如電接觸性、可焊性等功能性的作用，后經(jīng)學(xué)者證實(shí)，在純金屬或合金屬鍍層中加入不溶性微米、納米級顆粒，并使其與基質(zhì)金屬在陰極上共沉積，形成的具有優(yōu)異性能的新型鍍層的工藝，即得到具有一定含量的超細(xì)微粒與金屬組成的復(fù)合鍍層，其鍍層的性能與純金屬、合金鍍層相比有很大的改善，如鍍層硬度、耐磨性、耐腐蝕性提高等。金屬基復(fù)合鍍層的常規(guī)制備方法，在向電解槽內(nèi)加入磁性顆粒時(shí)，其顆粒易沉降難以在電鍍液中保持懸浮，因而顆粒不易在陰極上沉積，同時(shí)，金屬基復(fù)合鍍層中的磁性顆粒復(fù)合量不易控制，顆粒分布不均，復(fù)合量少。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是為解決現(xiàn)有金屬基復(fù)合鍍層的常規(guī)制備方法存在磁性顆粒不易在陰極上沉積，以及金屬基復(fù)合鍍層中的磁性顆粒復(fù)合量不易控制，顆粒分布不均勻的問題，進(jìn)而提供一種電沉積方法制備金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層的裝置。本實(shí)用新型為解決上述問題而采取的技術(shù)方案是本實(shí)用新型的一種電沉積方法制備金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層的裝置包括電解單元，該電解單元包括電解槽、陽極、陰極、電源和攪拌槳，電解槽內(nèi)設(shè)有陽極和陰極，陽極和陰極平行并分別與電解槽的槽底垂直設(shè)置，陽極的上端通過導(dǎo)線與電源的正極相連，陰極的上端通過導(dǎo)線與電源的負(fù)極相連，攪拌槳置于電解槽內(nèi)，電解槽內(nèi)盛有含有磁性顆粒的電鍍液，該裝置還包括磁力單元，該磁力單元包括磁石、固定套、調(diào)節(jié)臂、連接臂和掛架，所述的連接臂分別是上連接臂和下連接臂， 所述的掛架包括底座、橫板和兩個(gè)立板，兩個(gè)立板分別是第一立板和第二立板，兩個(gè)立板的下端與底座連接，兩個(gè)立板的上端與橫板連接，兩個(gè)立板中靠近電解槽一側(cè)的立板上由上至下設(shè)有多個(gè)第一通孔，每個(gè)通孔的中心線與橫板的長度方向相平行，磁石與電解槽磁耦合，磁石置于電解槽的外部并固定于固定套內(nèi)，固定套與上連接臂的一端固接，上連接臂的另一端與橫板的一端鉸接，下連接臂的一端與固定套固接，下連接臂的另一端與調(diào)節(jié)臂的一端鉸接，調(diào)節(jié)臂的另一端設(shè)有第二通孔，調(diào)節(jié)臂的另一端與靠近電解槽一側(cè)的立板通過穿過第二通孔和任意一個(gè)第一通孔內(nèi)的螺栓可拆卸連接。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型利用磁石對磁性顆粒的吸引，通過調(diào)節(jié)臂的另一端與靠近電解槽的一側(cè)的立板上不同位置的第一通孔連接，會改變磁石與豎直方向之間的夾角，使磁石與陰極間距離至上而下增加，而磁場力逐漸減少，顆粒在電鍍液中保持懸浮狀態(tài)，使顆粒在陰極上易沉積，顆粒均勻分布于陰極表面，被還原析出的金屬包裹而形成復(fù)合鍍層，金屬基復(fù)合鍍層中磁性顆粒復(fù)合量易控制，同時(shí)，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，設(shè)計(jì)合理，使用方便。
圖1是本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)主視圖，圖2是圖1的A向視圖，圖3是圖1的B向視圖。
具體實(shí)施方式
具體實(shí)施方式
一結(jié)合圖1 圖3說明本實(shí)施方式，本實(shí)施方式的一種電沉積方法制備金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層的裝置包括電解單元，該電解單元包括電解槽11、陽極 12、陰極10、電源13和攪拌槳14，電解槽11內(nèi)設(shè)有陽極12和陰極10，陽極12和陰極10平行并分別與電解槽11的槽底垂直設(shè)置，陽極12的上端通過導(dǎo)線與電源13的正極相連，陰極10的上端通過導(dǎo)線與電源13的負(fù)極相連，攪拌槳14置于電解槽11內(nèi)，電解槽11內(nèi)盛有含有磁性顆粒的電鍍液，該裝置還包括磁力單元，該磁力單元包括磁石2、固定套1、調(diào)節(jié)臂9、連接臂和掛架，所述的連接臂分別是上連接臂3-1和下連接臂3-2，所述的掛架包括底座8、橫板7和兩個(gè)立板，兩個(gè)立板分別是第一立板5-1和第二立板5-2，兩個(gè)立板的下端與底座8連接，兩個(gè)立板的上端與橫板7連接，兩個(gè)立板中靠近電解槽11 一側(cè)的立板上由上至下設(shè)有多個(gè)第一通孔5-3，每個(gè)通孔5-3的中心線與橫板7的長度方向相平行，磁石2與電解槽11磁耦合，磁石2置于電解槽11的外部并固定于固定套1內(nèi)，固定套1與上連接臂 3-1的一端固接，上連接臂3-1的另一端與橫板7的一端鉸接，下連接臂3-2的一端與固定套1固接，下連接臂3-2的另一端與調(diào)節(jié)臂9的一端鉸接，調(diào)節(jié)臂9的另一端設(shè)有第二通孔 9-1，調(diào)節(jié)臂9的另一端與靠近電解槽11 一側(cè)的立板通過穿過第二通孔9-1和任意一個(gè)第一通孔5-3內(nèi)的螺栓可拆卸連接。
具體實(shí)施方式
二 結(jié)合圖1和圖2說明本實(shí)施方式，本實(shí)施方式所述的磁石2的形狀為長方體形。如此設(shè)置，結(jié)構(gòu)合理，滿足設(shè)計(jì)要求。其它與具體實(shí)施方式
一相同。
具體實(shí)施方式
三結(jié)合圖1說明本實(shí)施方式，本實(shí)施方式所述的磁石2與電解槽 11相鄰一側(cè)的端面與豎直方向的夾角α為0-15°。如此設(shè)置，滿足設(shè)計(jì)要求。其它與具體實(shí)施方式
一或二相同。工作原理電鍍液中的磁性顆粒在攪拌槳作用下與陰極接觸，由于受磁場吸引力作用，會促使磁性粒子在陰極表面吸附沉積，當(dāng)陰極上發(fā)生還原反應(yīng)有金屬析出時(shí)，將粒子包裹而形成金屬基復(fù)合鍍層，磁石距離磁性粒子越近，粒子所受磁場力越大，溶液中粒子在陰極上的吸附量越大，鍍層中粒子含量即越高，因此改變磁場力大小會改變鍍層中粒子含量。由于粒子的沉降，下部溶液粒子含量較高，上部溶液粒子含量較低，會影響粒子在陰極表面鍍層中分布，在相同的攪拌作用和磁場力作用下，會造成陰極由上而下粒子含量逐漸增加，因此，改變磁石與陰極間距離可調(diào)整粒子所受磁場力大小。使用時(shí)，將調(diào)節(jié)臂的另一端與靠近電解槽的一側(cè)的立板上的不同位置的第一通孔連接，會改變磁石與豎直方向之間的夾角，即會使磁石與陰極間距離至上而下增加，使磁場力逐漸減少，彌補(bǔ)粒子由沉降作用而不易在陰極上沉積以及鍍層中粒子分布不均勻的現(xiàn)象。
權(quán)利要求1.一種電沉積方法制備金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層的裝置，該裝置包括電解單元， 該電解單元包括電解槽(11)、陽極(12)、陰極(10)、電源(13)和攪拌槳(14)，電解槽(11) 內(nèi)設(shè)有陽極(12)和陰極(10)，陽極(12)和陰極(10)平行并分別與電解槽(11)的槽底垂直設(shè)置，陽極(12)的上端通過導(dǎo)線與電源(13)的正極相連，陰極(10)的上端通過導(dǎo)線與電源(13)的負(fù)極相連，攪拌槳(14)置于電解槽(11)內(nèi)，電解槽(11)內(nèi)盛有含有磁性顆粒的電鍍液，其特征在于該裝置還包括磁力單元，該磁力單元包括磁石O)、固定套(1)、調(diào)節(jié)臂(9)、連接臂和掛架，所述的連接臂分別是上連接臂(3-1)和下連接臂(3-2)，所述的掛架包括底座(8)、橫板(7)和兩個(gè)立板，兩個(gè)立板分別是第一立板(5-1)和第二立板(5-2)， 兩個(gè)立板的下端與底座( 連接，兩個(gè)立板的上端與橫板(7)連接，兩個(gè)立板中靠近電解槽 (11) 一側(cè)的立板上由上至下設(shè)有多個(gè)第一通孔(5-3)，每個(gè)通孔(5- 的中心線與橫板(7) 的長度方向相平行，磁石⑵與電解槽(11)磁耦合，磁石⑵置于電解槽(11)的外部并固定于固定套(1)內(nèi)，固定套(1)與上連接臂(3-1)的一端固接，上連接臂(3-1)的另一端與橫板(7)的一端鉸接，下連接臂(3-2)的一端與固定套(1)固接，下連接臂(3-2)的另一端與調(diào)節(jié)臂(9)的一端鉸接，調(diào)節(jié)臂(9)的另一端設(shè)有第二通孔(9-1)，調(diào)節(jié)臂(9)的另一端與靠近電解槽(11) 一側(cè)的立板通過穿過第二通孔(9-1)和任意一個(gè)第一通孔(5-3)內(nèi)的螺栓可拆卸連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電沉積方法制備金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層的裝置， 其特征在于所述的磁石O)的形狀為長方體形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種電沉積方法制備金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層的裝置，其特征在于磁石O)與電解槽(11)相鄰一側(cè)的端面與豎直方向的夾角(α)為 0-15° 。
專利摘要一種電沉積方法制備金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層的裝置，它涉及一種金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層裝置，以解決現(xiàn)有金屬基復(fù)合鍍層的常規(guī)制備方法存在磁性顆粒不易在陰極上沉積，以及金屬基復(fù)合鍍層中的磁性顆粒復(fù)合量不易控制，顆粒分布不均勻的問題。該裝置包括電解單元，該電解單元包括電解槽、陽極、陰極、電源和攪拌槳，電解槽內(nèi)設(shè)有陽極和陰極，該裝置還包括磁力單元，該磁力單元包括磁石、固定套、調(diào)節(jié)臂、連接臂和掛架，所述的掛架包括底座、橫板和兩個(gè)立板，兩個(gè)立板的下端與底座連接，兩個(gè)立板的上端與橫板連接，磁石與電解槽磁耦合，固定套與上連接臂的一端固接。本實(shí)用新型適用于制備金屬基磁性顆粒材料復(fù)合鍍層。
文檔編號C25D15/00GK202175728SQ20112031906
公開日2012年3月28日 申請日期2011年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月29日
發(fā)明者初紅濤, 王軍, 王穎, 蘇立強(qiáng) 申請人:齊齊哈爾大學(xué)