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      超高電流密度電解或電積槽的制作方法

      文檔序號:5274126閱讀:571來源:國知局
      專利名稱:超高電流密度電解或電積槽的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及有色金屬電解或電積技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種超高電流密度電解或電積槽。
      背景技術(shù)
      電解精煉是有色金屬冶煉過程中金屬精煉的主要手段,也是有色金屬冶煉的一個最終環(huán)節(jié),其技術(shù)及設(shè)備的先進(jìn)與否直接影響到金屬的質(zhì)量好壞和產(chǎn)能高低。在有色金屬中,銅、鉛、鋅和鎳的電解或電積過程均基于電化學(xué)原理,將陰極和陽極置于盛有含金屬離子的溶液的槽中,通電后在電極上發(fā)生電化學(xué)反應(yīng),陰極上有金屬不斷析出、沉積。由于溶液中各種金屬離子的電極電位決定了它們在陰極和陽極上反應(yīng)的順序,在陰極上優(yōu)先析出的是電極電位較高的金屬,而各金屬的電極電位是由標(biāo)準(zhǔn)電極電位和該金屬離子的濃度確定的。目前,為提高產(chǎn)能同時(shí)考慮建設(shè)成本,唯一的途徑就是提高電流密度。但在生產(chǎn)實(shí)踐中,當(dāng)電流密度升高時(shí),在陰極上析出金屬的速度加快,這往往會造成陰極附近的金屬離子濃度降低而引起電極電位的降低,即產(chǎn)生了濃差極化,使主要的金屬不能在陰極上優(yōu)先析出,導(dǎo)致雜質(zhì)金屬的析出,影響產(chǎn)品質(zhì)量。因此,濃差極化是導(dǎo)致銅、鉛、鋅和鎳在電解或電積過程中電流密度提高受到限制的主要原因。在保證陰極金屬質(zhì)量的前提下,如何提高電流密度、強(qiáng)化電解生產(chǎn)、提高電解槽的生產(chǎn)效率,這一直是金屬電解生產(chǎn)領(lǐng)域研究的課題。比如,授權(quán)公告號為CN101376990B的中國專利文獻(xiàn)公開了一種銅電解槽及其運(yùn)行方法,該銅電解槽包括多個的豎直且彼此平行設(shè)置的陽極板和陰極板、縱側(cè)的電解液進(jìn)口以及電解液出口,其中,電解液進(jìn)口包括在槽的一個縱向壁上一直延伸到電極下邊緣的區(qū)域中的封閉的進(jìn)口箱,進(jìn)口箱可掛在槽的端面上,并且可和電解液源連接,并且設(shè)置了用于固定地設(shè)置每個陰極板的裝置,以及在電極高度的下面的三分之一處延伸的、且分布和電極中間腔室相對應(yīng)的區(qū)域中設(shè)置至少一個孔,用于定向地輸送電解液。上述專利文獻(xiàn)報(bào)道了一種強(qiáng)化電解循環(huán)的方法和相應(yīng)的電解裝置,通過電解液供液裝置改變電解液流動方式強(qiáng)化電解液的循環(huán),提高金屬離子的遷移速度,降低電解生產(chǎn)過程中的濃差極化,可實(shí)現(xiàn)電流密度最高達(dá)540A/m2的電解。但是,由于該裝置的電解液進(jìn)液箱掛在電解槽壁上,陰極或陽極在實(shí)際生產(chǎn)中極易觸及進(jìn)液箱體而造成對箱體的損壞,嚴(yán)重時(shí)還會損壞電解槽內(nèi)壁的防腐層而造成電解槽滲漏,不利于生產(chǎn)順利、安全運(yùn)行。

      發(fā)明內(nèi)容
      為了解決以上技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種超高電流密度電解或電積槽,該電解或電積槽能保證安全運(yùn)行,利于生產(chǎn)。本發(fā)明提供一種超高電流密度電解或電積槽,包括槽體,所述槽體上設(shè)置有進(jìn)液口,所述進(jìn)液口的外部設(shè)置有法蘭;

      所述槽體內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有面板,所述面板與槽體內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔,所述封閉空腔與所述槽體上的進(jìn)液口相通,所述面板上設(shè)置有電解液噴射裝置和極板限位裝置;所述槽體內(nèi)放置有陽極板和陰極板;所述槽體上設(shè)置有出液裝置。優(yōu)選的,所述槽體內(nèi)側(cè)壁具有凹槽,所述面板平直且與所述槽體內(nèi)側(cè)壁的凹槽形成封閉空腔。優(yōu)選的,所述凹槽的四周預(yù)埋有螺栓,通過螺母將所述面板固定在所述槽體內(nèi)側(cè)壁上。優(yōu)選的,所述封閉空腔的下邊沿與所述槽體底部較高的一端的距離為150mm 500mmo優(yōu)選的,所述電解液噴射裝置與水平的夾角為O 30°。優(yōu)選的,所述極板限位裝置為三個三角型限位塊連體式裝置。優(yōu)選的,所述電解液噴射裝置和極板限位裝置通過螺絲或子口固定在所述面板上。優(yōu)選的,所述出液裝置為設(shè)置在所述槽體兩端上部的溢流口。優(yōu)選的,所述槽體為耐腐蝕材料一次整體澆鑄成型。優(yōu)選的,所述面板的數(shù)量為一個,所述面板與槽體一側(cè)內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔。

      與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明提供的電解或電積槽包括槽體,所述槽體上設(shè)置有進(jìn)液口,所述進(jìn)液口的外部設(shè)置有法蘭;所述槽體內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有面板,所述面板與槽體內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔,所述封閉空腔與所述槽體上的進(jìn)液口相通,所述面板上設(shè)置有電解液噴射裝置和極板限位裝置;所述槽體內(nèi)放置有陽極板和陰極板;所述槽體上設(shè)置有出液裝置。生產(chǎn)時(shí),外部供液系統(tǒng)通過法蘭連接槽體,向其供給電解液,外部供給的電解液通過進(jìn)液口進(jìn)入封閉空腔內(nèi),沿其均勻分配,通過電解液噴射裝置沿平行于極板方向噴出,然后,噴出的電解液通過極板與槽體側(cè)壁之間的空腔、極板與槽體底部之間的空腔向槽體兩端運(yùn)動,最后從槽體兩端返回電解液循環(huán)系統(tǒng)。在本發(fā)明中,面板、槽體內(nèi)側(cè)壁及兩者形成的封閉空腔構(gòu)成一個供液裝置。本發(fā)明將所述供液裝置鑲嵌在槽體內(nèi)側(cè)壁上,利用底部平行于極板的供液方式,保證超高電流密度下電解或電積生產(chǎn)所需要的電解液循環(huán)要求,同時(shí),極板不會觸及鑲嵌在槽體內(nèi)側(cè)壁上的供液裝置,從而保證了供液裝置的安全性,使生產(chǎn)順利、安全運(yùn)行。進(jìn)一步的,所述槽體內(nèi)側(cè)壁具有凹槽,所述面板平直且與所述槽體內(nèi)側(cè)壁的凹槽形成封閉空腔,使槽體內(nèi)側(cè)壁基本沒有凸出的部分,供液裝置的安全性更高。進(jìn)一步的,本發(fā)明所述凹槽的四周預(yù)埋有螺栓,通過螺母將所述面板固定在所述槽體內(nèi)側(cè)壁上,這種分體式結(jié)構(gòu)方便清洗和設(shè)備維護(hù),降低生產(chǎn)運(yùn)行成本。進(jìn)一步的,本發(fā)明所述出液裝置為設(shè)置在所述槽體兩端上部的溢流口,使漂浮陽極泥能及時(shí)排出,減少漂浮陽極泥造成的陰極板長粒子而引起的陰極板短路問題,利于提高電流效率和產(chǎn)品質(zhì)量。


      圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的超高電流密度電解或電積槽的主視圖;圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的超高電流密度電解或電積槽的側(cè)視圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的超高電流密度電解或電積槽的俯視圖;圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的電解或電積槽的面板的結(jié)構(gòu)示意圖;圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的電解或電積槽的極板限位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;圖6為本發(fā)明實(shí)施例電解液在極板之間的運(yùn)行示意圖。
      具體實(shí)施例方式為了進(jìn)一步理解本發(fā)明,下面結(jié)合實(shí)施例對本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方案進(jìn)行描述,但是應(yīng)當(dāng)理解,這些描述只是為進(jìn)一步說明本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn),而不是對本發(fā)明權(quán)利要求的限制。本發(fā)明提供了一種超高電流密度電解或電積槽,包括槽體,所述槽體上設(shè)置有進(jìn)液口,所述進(jìn)液口的外部設(shè)置有法蘭;所述槽體內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有面板,所述面板與槽體內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔,所述封閉空腔與所述槽體上的進(jìn)液口相通,所述面板上設(shè)置有電解液噴射裝置和極板限位裝置;所述槽體內(nèi)放置有陽極板和陰極板;所述槽體上設(shè)置有出液裝置。本發(fā)明提供的電解或電積槽是一個高效、清潔、環(huán)保的先進(jìn)設(shè)備,能應(yīng)用于超高電流密度條件下銅、鉛、 鋅和鎳等有色金屬的電解或電積。本發(fā)明將電解液的供給、分配和平行噴射單元集成于槽上,形成一個電解或電積槽整體,運(yùn)行高效、安全,不但能獲得高品質(zhì)的陰極產(chǎn)品,而且能大幅度降低電解精煉系統(tǒng)投資,有效降低生產(chǎn)運(yùn)行費(fèi)用。本發(fā)明實(shí)施例提供的超高電流密度電解或電積槽的結(jié)構(gòu)參見圖1、圖2和圖3,圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的超高電流密度電解或電積槽的主視圖,圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的超高電流密度電解或電積槽的側(cè)視圖,圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的超高電流密度電解或電積槽的俯視圖。在圖1中,I為槽體,2為進(jìn)液口,3為封閉空腔,4為螺栓,6為面板,9為溢流口,10為第一排液口,11為第二排液口。在圖2中,2為進(jìn)液口,5為法蘭。在圖3中,I為槽體,9為溢流口,10為第一排液口,11為第二排液口,12為陰極板,13為陽極板。在本發(fā)明中,槽體I內(nèi)為進(jìn)行有色金屬電解或電積的場所,其由側(cè)壁、端壁和底部組成,優(yōu)選采用耐腐蝕材料一次整體澆鑄成型。所述耐腐蝕材料可為樹脂砂漿,優(yōu)選為樹脂石英砂砂漿,其中,所述樹脂優(yōu)選為呋喃樹脂、乙烯基酯樹脂、不飽和聚酯樹脂和環(huán)氧樹脂中的任意一種,使所述槽體具有較好的整體防腐性能,抗?jié)B、防漏和絕緣性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)電解槽,安全環(huán)保,且使用壽命可達(dá)傳統(tǒng)電解槽的2.5倍。同時(shí),模具澆鑄精度高,誤差可控制在5mm,便于安裝調(diào)平與配套定位系統(tǒng)。本發(fā)明對所述槽體的容積等沒有特殊限制,在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,槽體I側(cè)壁的厚度為70mm 80mm,優(yōu)選為70mm 75mm。相比壁厚為IlOmm 130mm的傳統(tǒng)電解槽,本發(fā)明實(shí)施例提供的電解槽槽壁薄,可節(jié)約大量廠房面積及管線布置,降低裝配等成本。在本發(fā)明中,槽體I內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有面板6,面板6與槽體I內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔3,面板6上設(shè)置有電解液噴射裝置。即,槽體I內(nèi)側(cè)壁、面板6和兩者之間的封閉空腔3構(gòu)成一個供液裝置。電解液在封閉空腔3內(nèi),沿其均勻分配,通過面板6上的電解液噴射裝置沿平行于極板方向噴出,然后,噴出的電解液通過極板與槽體側(cè)壁之間的空腔、極板與槽體底部之間的空腔向槽體兩端運(yùn)動,最后從槽體兩端返回電解液循環(huán)系統(tǒng)。本發(fā)明將所述供液裝置鑲嵌在槽體內(nèi)側(cè)壁上,利用底部平行于極板的供液方式,保證超高電流密度下電解或電積生產(chǎn)所需要的電解液循環(huán)要求,同時(shí),極板不會觸及鑲嵌在槽體內(nèi)側(cè)壁上的供液裝置,從而保證了供液裝置的安全性。在本發(fā)明中,槽體I上設(shè)置有進(jìn)液口 2,封閉空腔3與進(jìn)液口 2相通;進(jìn)液口 2的外部設(shè)置有法蘭5。外部供液系統(tǒng)通過法蘭5連接槽體1,向其供給電解液,而外部供給的電解液通過進(jìn)液口 2進(jìn)入封閉空腔3內(nèi)。其中,所述法蘭為本領(lǐng)域常用的連接零件,優(yōu)選為方形法蘭。所述進(jìn)液口可根據(jù)所述供液裝置等因素而具體設(shè)置,能使電解液通入即可。所述面板可設(shè)置在槽體一側(cè)或兩側(cè)內(nèi)側(cè)壁的下部,在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,面板6的數(shù)量為一個,其與槽體I 一側(cè)內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔,即,所述供液裝置鑲嵌在所述槽體一側(cè)內(nèi)側(cè)壁上,利于提高設(shè)備安全性,降低設(shè)備生產(chǎn)成本和生產(chǎn)運(yùn)行成本。作為優(yōu)選,所述面板優(yōu)選設(shè)置在槽體縱向內(nèi)側(cè)壁上,以使供液量充足。本發(fā)明對所述面板與槽體內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔的情況沒有特殊限制,可以為槽體內(nèi)側(cè)壁平直,面板相對于內(nèi)側(cè)壁凸起而形成封閉空腔;也可以為槽體內(nèi)側(cè)壁具有凹槽,面板平直且與凹槽形成封閉空腔;還可以為槽體內(nèi)側(cè)壁具有凹槽,面板相對于內(nèi)側(cè)壁平直的部分凸起而形成封閉空腔。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,所述槽體內(nèi)側(cè)壁具有凹槽,所述面板平直且與所述槽體內(nèi)側(cè)壁的凹槽形成封閉空腔,使槽體內(nèi)側(cè)壁基本沒有凸出的部分,供液裝置的安全性更高。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,封閉空腔3的四周預(yù)埋有螺栓4,通過螺母將面板6固定在槽體I內(nèi)側(cè)壁上,使之與槽體I上的凹槽形成一個封閉體。通過采用這種螺絲連接方式的分體式結(jié)構(gòu),可使所述面板很輕松地被拆除,以清除所述腔體和通道內(nèi)的結(jié)晶和結(jié)垢,清洗方便;同時(shí),這種分體式結(jié)構(gòu)比較簡單,容易維護(hù)和更換,制造和維護(hù)的費(fèi)用較低,從而能降低生產(chǎn)運(yùn)行成本?!ぴ诒景l(fā)明中,槽體I底部相對于水平為斜坡狀,在其底部較高的一端設(shè)有第一排液口 10,在另一端設(shè)有第二排液口 11,用于排泥、排液,本發(fā)明沒有特殊限制。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,封閉空腔3的下邊沿與槽體I底部較高的一端的距離為 150mm 500mm,優(yōu)選為 300mm 500mm。在本發(fā)明中,面板6上設(shè)有電解液噴射裝置和極板限位裝置。本發(fā)明對所述面板的材質(zhì)沒有特殊限制,可以采用工程塑料、不銹鋼、鈦合金或碳纖維制成面板。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,面板6的結(jié)構(gòu)參見圖4,圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的電解或電積槽的面板的結(jié)構(gòu)示意圖。在圖4中,6為面板,7為極板限位裝置,8為電解液噴射
      >j-U ρ α裝直。極板限位裝置7能避免極板觸及而損傷電解液噴射裝置8,同時(shí)對陰、陽極起到定位作用,防止陰、陽極短路。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,極板限位裝置7為三個三角型限位塊連體式裝置,其結(jié)構(gòu)如圖5所示,圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的電解或電積槽的極板限位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。本發(fā)明優(yōu)選采用三個三角型限位塊一體式結(jié)構(gòu),增加了限位塊的固定強(qiáng)度,能確保限位塊處于良好的工作狀態(tài),較好地發(fā)揮作用。
      另外,極板限位裝置7優(yōu)選通過螺絲或子口固定在面板6上,方便更換。電解液噴射裝置8起到噴射電解液的作用,其與水平的夾角優(yōu)選為O 30°。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,電解液噴射裝置8設(shè)置在距槽體底部較高的一端300mm 500mm處,并采用與水平呈O 30°夾角的方式,使電解液在每塊陰極板兩側(cè)形成平行且靠近于陰極板的噴射流,如圖6所示,圖6為本發(fā)明實(shí)施例電解液在極板之間的運(yùn)行示意圖。從圖6可以看出,這種電解液噴射裝置的設(shè)置方式可實(shí)現(xiàn)電解液靠近陰極板向上流動,在陽極板附近向下運(yùn)動,在確保整個陰極板表面始終處于電解液循環(huán)狀態(tài)的同時(shí),有利于陽極泥的沉降。另外,電解液噴射裝置8優(yōu)選通過螺絲或子口固定在面板6上。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中,極板限位裝置7和電解液噴射裝置8采用螺絲或子口固定在面板6上,均方便更換。在本發(fā)明中,槽體I上設(shè)置有出液裝置,所述出液裝置優(yōu)選為設(shè)置在所述槽體兩端上部的溢流口 9,使漂浮陽極泥能及時(shí)排出,減少漂浮陽極泥造成的陰極板長粒子而引起的陰極板短路問題,利于提高電流效率和產(chǎn)品質(zhì)量。在本發(fā)明中,槽體I內(nèi)放置有陰極板12和陽極板13。陰極板12和陽極板13為本領(lǐng)域常用的極板,本發(fā)明對其數(shù)量和設(shè)置等沒有特殊限制。將本發(fā)明實(shí)施例提供的電解或電積槽應(yīng)用于電解時(shí),外部供液系統(tǒng)通過法蘭連接供液裝置,向其供給電解液,通電后,所述供給的電解液通過進(jìn)液口進(jìn)入供液裝置的腔體內(nèi),沿腔體均勻分配,通過電解液噴射裝置沿平行且靠近于陰極板方向噴出,然后,噴出的電解液通過極板與槽體側(cè)壁之間的空腔、極板與槽體底部之間的空腔向槽體兩端運(yùn)動,最后從槽體兩端返回電解液循環(huán)系統(tǒng)。在此過程中,陰極板和陽極板在通電的條件下發(fā)生電化學(xué)反應(yīng),在陰極板上不斷析出金屬。所述電解為本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的技術(shù)手段,本發(fā)明對所述電解的工藝沒有特殊限制,所述電解液噴射裝置噴射電解液,電解液的流量可為0.9L/min 1.5L/min,優(yōu)選為
      1.0L/min 1.2L/min ;電解液的壓力可為0.2MPa 0.3MPa。通電電解時(shí),電流密度可為420A/m2 580A/m2,電流效率可為96% 99%,電解的溫度可為45°C 65 °C。本發(fā)明所述電解或電積槽的電解液循環(huán)供液方式使陰極周圍電解液快速流動,有效提高電解過程中的金屬離子遷移速度,減少濃差極化,降低陰、陽極之間的短路,從而實(shí)現(xiàn)在高電流密度下生產(chǎn)出高品質(zhì)的陰極產(chǎn)品,如能得到符合國家標(biāo)準(zhǔn)的高純陰極銅。并且,本發(fā)明將所述電解或電積槽的供液裝置鑲嵌于槽內(nèi),能保證供液裝置的安全性,使生產(chǎn)順利、安全運(yùn)行。為了進(jìn)一步理解本發(fā)明,下面結(jié)合實(shí)施例對本發(fā)明提供的超高電流密度電解或電積槽進(jìn)行具體描述。實(shí)施例1在電解槽中間隔放置54塊粗銅陽極板13和53塊純銅陰極板12,以硫酸和硫酸銅的混合液為電解液,外部供液系統(tǒng)通過法蘭5連接供液裝置,向其供給所述電解液,通電后,所述供給的電解液通過進(jìn)液口 2進(jìn)入供液裝置的封閉腔體3內(nèi),沿其均勻分配,通過面板6上的電解液噴射裝置8沿平行 且靠近于陰極板方向噴出,然后,噴出的電解液通過極板與槽體側(cè)壁之間的空腔、極板與槽體底部之間的空腔向槽體兩端運(yùn)動,最后從槽體兩端的溢流口 9返回電解液循環(huán)系統(tǒng)。電解的工藝參數(shù)如下:電解液的流量為1.0L/min,電解液的壓力為0.2MPa,電流密度為580A/m2,電流效率為98%,電解的溫度為50°C。在上述電解過程中,陰極板和陽極板在通電的條件下發(fā)生電化學(xué)反應(yīng),在陰極板上析出合格的銅產(chǎn)品。由以上實(shí)施例可知,本發(fā)明實(shí)施例提供的電解或電積槽在使用時(shí),可實(shí)現(xiàn)電解液在每塊陰極板兩側(cè)形成平行于陰極板、且靠近陰極板而遠(yuǎn)離陽極板的噴流,使陰極周圍溶液快速流動,大大提高金屬陽離子的對流遷移速率,還可防止極板之間的短路,從而達(dá)到通過大幅度提高電流密度而顯著增加單位電解裝置生產(chǎn)能力的目的,獲得高品質(zhì)的陰極產(chǎn)品。同時(shí),本發(fā)明實(shí)施例提供的電解或電積槽的供液裝置鑲嵌在槽內(nèi),能保證生產(chǎn)順利、安全運(yùn)行。以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以對本發(fā)明進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾,這些·改進(jìn)和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。
      權(quán)利要求
      1.一種超高電流密度電解或電積槽,包括槽體,所述槽體上設(shè)置有進(jìn)液口,所述進(jìn)液口的外部設(shè)置有法蘭; 所述槽體內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有面板,所述面板與槽體內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔,所述封閉空腔與所述槽體上的進(jìn)液口相通,所述面板上設(shè)置有電解液噴射裝置和極板限位裝置; 所述槽體內(nèi)放置有陽極板和陰極板; 所述槽體上設(shè)置有出液裝置。
      2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電解或電積槽,其特征在于,所述槽體內(nèi)側(cè)壁具有凹槽,所述面板平直且與所述槽體內(nèi)側(cè)壁的凹槽形成封閉空腔。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電解或電積槽,其特征在于,所述凹槽的四周預(yù)埋有螺栓,通過螺母將所述面板固定在所述槽體內(nèi)側(cè)壁上。
      4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電解或電積槽,其特征在于,所述封閉空腔的下邊沿與所述槽體底部較高的一端的距離為150mm 500mm。
      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電解或電積槽,其特征在于,所述電解液噴射裝置與水平的夾角為O 30°。
      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電解或電積槽,其特征在于,所述極板限位裝置為三個三角型限位塊連體式裝置。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電解或電積槽,其特征在于,所述電解液噴射裝置和極板限位裝置通過螺絲或子口固定在所述面板上。
      8.根據(jù)權(quán)利要求I 7任一項(xiàng)所述的電解或電積槽,其特征在于,所述出液裝置為設(shè)置在所述槽體兩端上部的溢流口。
      9.根據(jù)權(quán)利要求I 7任一項(xiàng)所述的電解或電積槽,其特征在于,所述槽體為耐腐蝕材料一次整體澆鑄成型。
      10.根據(jù)權(quán)利要求I 7任一項(xiàng)所述的電解或電積槽,其特征在于,所述面板的數(shù)量為一個,所述面板與槽體一側(cè)內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔。
      全文摘要
      本發(fā)明提供了一種超高電流密度電解或電積槽,包括槽體,所述槽體上設(shè)置有進(jìn)液口,所述進(jìn)液口的外部設(shè)置有法蘭;所述槽體內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有面板,所述面板與槽體內(nèi)側(cè)壁形成封閉空腔,所述封閉空腔與所述槽體上的進(jìn)液口相通,所述面板上設(shè)置有電解液噴射裝置和極板限位裝置;所述槽體內(nèi)放置有陽極板和陰極板;所述槽體上設(shè)置有出液裝置。在本發(fā)明中,面板、槽體內(nèi)側(cè)壁及兩者形成的封閉空腔構(gòu)成一個供液裝置。本發(fā)明將所述供液裝置鑲嵌在槽體內(nèi)側(cè)壁上,利用底部平行于極板的供液方式,保證超高電流密度下電解或電積生產(chǎn)所需要的電解液循環(huán)要求,同時(shí),極板不會觸及鑲嵌在槽體內(nèi)側(cè)壁上的供液裝置,從而保證了供液裝置的安全性,使生產(chǎn)順利、安全運(yùn)行。
      文檔編號C25C7/00GK103255443SQ20131016325
      公開日2013年8月21日 申請日期2013年5月6日 優(yōu)先權(quán)日2013年5月6日
      發(fā)明者周松林, 林建平, A.菲爾茲維澤, 王亞民, 柳彥, 寧萬濤, 潘霞, 楊家庭, 王志普 申請人:陽谷祥光銅業(yè)有限公司, 杭州三耐環(huán)保科技有限公司, 奧超冶金優(yōu)化有限公司
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