本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種電鍍機(jī)及其隔膜支撐件。

背景技術(shù)：

諸如半導(dǎo)體裝置的微電子裝置通常是制造在基板或晶圓上和/或制造在所述基板或晶圓中。在典型制造工藝中，一或多層金屬或其他導(dǎo)電材料是形成在電鍍機(jī)中的晶圓上。電鍍機(jī)可具有保持在電解液收容槽中的電解液浴，其中一或多個(gè)陽極在所述電解液收容槽中。晶圓本身可被保持在蓋體中的轉(zhuǎn)子中，所述蓋體可移動(dòng)到電解液收容槽中以便處理以及移動(dòng)離開電解液收容槽以便裝卸。轉(zhuǎn)子上的接觸環(huán)通常具有大量接觸指，所述接觸指與晶圓產(chǎn)生電接觸。隔膜可位于電解液收容槽中且在陽極和晶圓之間。隔膜允許某些離子通過，而阻止其他分子通過，改進(jìn)的電鍍結(jié)果和性能。

在許多電鍍機(jī)中，隔膜是經(jīng)由機(jī)械支撐件支撐在蓋體和底部上。隔膜材料被浸濕時(shí)可能顯著地膨脹。由于電解液收容槽中的液體壓力，導(dǎo)致隔膜材料伸展。如果隔膜沒有被支撐，那么隔膜可能傾向于下垂，影響陽極與電鍍液的接觸面積。

現(xiàn)有技術(shù)中公開了一種隔膜支撐件，如圖1所示，該隔膜支撐件呈雪花片狀，具有數(shù)個(gè)間隔開的徑向臂和在所述徑向壁之間的楔形通過開口，隔膜安裝于該隔膜支撐件的上側(cè)。但是該隔膜支撐件因自身設(shè)計(jì)原因，在晶圓作業(yè)的高溫環(huán)境下常常發(fā)生形變，而導(dǎo)致隔膜往下墜落。因此，需要頻繁的更換隔膜支撐件，而且拆裝過程中，可能導(dǎo)致隔膜損壞，增加經(jīng)濟(jì)成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種電鍍機(jī)及其隔膜支撐件，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中隔膜支撐件容易發(fā)生形變，導(dǎo)致隔膜下垂的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種用于電鍍機(jī)的隔膜支撐件，所述隔膜支撐件包括由多個(gè)正六邊形環(huán)依次相連組成單層蜂窩型板，相鄰的所述正六邊形環(huán)均呈共邊排列，所述正六邊形環(huán)的中空部分構(gòu)成電解液的通過開口，所述正六邊形環(huán)的內(nèi)鈍角為120°，所述正六邊形環(huán)的外銳角為60°。

于本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中，所述隔膜支撐件厚度為0.1-0.5mm。

于本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中，所述正六邊形環(huán)的邊寬為0.5-0.9mm。

于本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中，所述正六邊形環(huán)的邊長為50-60mm。

于本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中，所述單層蜂窩型板由聚醚醚酮材質(zhì)構(gòu)成。

于本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中，所述單層蜂窩型板由全氟烷氧基樹脂材質(zhì)構(gòu)成。

本實(shí)用新型還公開一種電鍍機(jī)，包括：電解液收容槽；隔膜，設(shè)置于所述電解液收容槽中，以將所述電解液收容槽分割成上、下兩個(gè)腔室；如上述所述的用于電鍍機(jī)的隔膜支撐件，設(shè)置于所述隔膜下側(cè)；蓋體，其設(shè)置于所述電解液收容槽的上側(cè)，其具有用于移動(dòng)晶圓的轉(zhuǎn)子，以適于所述蓋體可將晶圓放置于所述電解液收容槽中。

于本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中，所述隔膜的周邊覆蓋于所述隔膜支撐件的周邊上，且且所述隔膜的周邊、所述隔膜支撐件的周邊均由所述電解液收容槽的周邊密封和/或夾持元件進(jìn)行夾緊。

于本實(shí)用新型的一實(shí)施方式中，所述隔膜支撐件呈向下凹形。

如上所述，本實(shí)用新型的電鍍機(jī)及其隔膜支撐件，具有以下有益效果：

本實(shí)用新型采用蜂巢型結(jié)構(gòu)的隔膜支撐件，中心點(diǎn)的支撐比現(xiàn)有設(shè)計(jì)更有力，且蜂巢式力學(xué)結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定，可以滿足提升需求；蜂巢型結(jié)構(gòu)中相鄰六邊型的邊交叉點(diǎn)為受力強(qiáng)點(diǎn)，隔膜支撐件的受力強(qiáng)點(diǎn)分布均勻，能有效增加支撐強(qiáng)度。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中隔膜支撐件的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的電鍍機(jī)的結(jié)構(gòu)剖視圖。

圖3為本實(shí)用新型的隔膜支撐件的結(jié)構(gòu)示意圖。

元件標(biāo)號(hào)說明

1 電鍍機(jī)

11 電解液收容槽

12 蓋體

13 隔膜

14 上腔室

15 下腔室

16 隔膜支撐件

17 周邊密封

18 晶圓

161 正六邊形環(huán)

162 通過開口

163 邊緣

具體實(shí)施方式

以下由特定的具體實(shí)施例說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，熟悉此技術(shù)的人士可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)及功效。

請(qǐng)參閱圖2至圖3。須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀，并非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的限定條件，故不具技術(shù)上的實(shí)質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實(shí)用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)仍落在本實(shí)用新型所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時(shí)，本說明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的范圍，其相對(duì)關(guān)系的改變或調(diào)整，在無實(shí)質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)亦視為本實(shí)用新型可實(shí)施的范疇。

如圖2所示，本實(shí)用新型提供一種電鍍機(jī)1，包括：電解液收容槽11、隔膜13、隔膜支撐件16和蓋體12。隔膜13設(shè)置于電解液收容槽11中，以將電解液收容槽11分割成上腔室14、下腔室15兩個(gè)部分，下腔室15包含在隔膜13下方的一或多個(gè)陽極和陽極電解液，上腔室14包含陰極電解液；隔膜支撐件16設(shè)置于隔膜13下側(cè)，從下方支撐隔13，隔膜13和隔膜支撐件16的邊緣可經(jīng)由周邊密封17和/或夾持元件夾緊；蓋體12具有用于移動(dòng)晶圓18的轉(zhuǎn)子，蓋體12通過轉(zhuǎn)子可將晶圓18放置于電解液收容槽11中。

隔膜支撐件16可以由柔性材質(zhì)構(gòu)成，比如薄塑料材料，作為示例，薄塑料材料為全氟烷氧基樹脂材質(zhì)(PFA)或聚醚醚酮(PEEK)。隔膜支撐件16的板厚度控制在0.1-0.5mm。作為示例，隔膜支撐件16的板厚度為0.4mm。

如圖3所示，隔膜支撐件16包括由多個(gè)正六邊形環(huán)161依次相連組成單層蜂窩型板以及設(shè)置于單層蜂窩型板周圍的邊緣163，相鄰的正六邊形環(huán)161均呈共邊排列，正六邊形環(huán)161的中空部分構(gòu)成電解液的通過開口162，正六邊形環(huán)161的內(nèi)鈍角為120°，正六邊形環(huán)161的外銳角為60°。正六邊形環(huán)161在隔膜13上的任一點(diǎn)至任何下部支撐表面的最大尺寸可以降低。隔膜支撐件16呈向下凹形，使得隔膜支撐件16更加接近且均勻地符合隔膜13的所需形狀和位置，使得隔膜13可被保持在隔膜支撐件16之上的位置，避免隔膜13顯著地下垂或折疊。

正六邊形環(huán)161的邊寬為0.5-0.9mm；作為示例，正六邊形環(huán)161的邊寬為0.7mm。正六邊形環(huán)161的邊長為50-60mm；作為示例，正六邊形環(huán)161的邊長為57.8mm。

邊緣163可設(shè)計(jì)成圓形、橢圓形、方形等形狀。作為示例，邊緣163呈圓形，如圖所示。

如上所述，本實(shí)用新型采用蜂巢型結(jié)構(gòu)的隔膜支撐件，中心點(diǎn)的支撐比現(xiàn)有設(shè)計(jì)更有力，且蜂巢式力學(xué)結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定，可以滿足提升需求；蜂巢型結(jié)構(gòu)中相鄰六邊型的邊交叉點(diǎn)為受力強(qiáng)點(diǎn)，隔膜支撐件的受力強(qiáng)點(diǎn)分布均勻，能有效增加支撐強(qiáng)度。

上述實(shí)施例僅例示性說明本實(shí)用新型的原理及其功效，而非用于限制本實(shí)用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實(shí)用新型的精神及范疇下，對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者在未脫離本實(shí)用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實(shí)用新型的權(quán)利要求所涵蓋。