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      一種電鍍浮架的制作方法

      文檔序號(hào):8334437閱讀:351來(lái)源:國(guó)知局
      一種電鍍浮架的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及PCB制作技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種電鍍中使用的電鍍浮架。
      【背景技術(shù)】
      [0002] PCB (Printed Circuit Board)是電子工業(yè)的重要部件之一,是電子元器件的支撐 體,電氣連接的載體。伴隨著電子類產(chǎn)品功能增多,體積的減小,促使PCB不斷向精密性、高 密度化、小型化方向發(fā)展。
      [0003] 在PCB的生產(chǎn)制作過(guò)程中,為了使孔內(nèi)或電路達(dá)到特定的聯(lián)通狀態(tài),需對(duì)加工中 的電路板進(jìn)行電鍍處理。電鍍處理所用的電鍍裝置主要包括電鍍槽,設(shè)在電鍍槽兩側(cè)壁的 陽(yáng)極,以及設(shè)在電鍍槽中用于固定待加工電路板(掛板)的電鍍浮架。電鍍浮架的作用除 了固定掛板外,還可保護(hù)掛板的下邊緣,防止掛板下邊緣集中過(guò)多電力線。而為了使掛板的 下邊緣不被完全阻擋,通常會(huì)在電鍍浮架的側(cè)壁上設(shè)置固定數(shù)量和固定孔徑的通孔。然而, 現(xiàn)有的電鍍浮架在側(cè)壁上設(shè)置固定數(shù)量和固定直徑的通孔,存在以下缺陷:1、由于掛板表 面的圖形分布較為復(fù)雜,固定直徑的通孔可能會(huì)導(dǎo)致板面上銅鍍層的均勻性較低,尤其是 設(shè)有密集的槽孔或線路圖形的區(qū)域,容易出現(xiàn)孔壁的銅層厚度偏薄,銅層厚度達(dá)不到要求, 而槽孔或線路較稀疏的區(qū)域的銅鍍層則較厚;2、若將每個(gè)電鍍槽內(nèi)的電鍍浮架設(shè)計(jì)成含有 不同數(shù)量和不同直徑的通孔,雖然提高了針對(duì)性和選擇性,但這必將會(huì)增加誤操作率,并且 由于不同產(chǎn)品的數(shù)量差異較大,如果每個(gè)電鍍槽內(nèi)設(shè)置不同的電鍍浮架,這不利于生產(chǎn)效 率的提尚。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004] 本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有PCB生產(chǎn)制作過(guò)程中所用的電鍍浮架,因其側(cè)壁上的通孔大小固 定不變,影響電鍍均勻性的問(wèn)題,提供一種側(cè)壁上的通孔大小可變,可滿足具有不同圖形分 布的電路板鍍層要求的電鍍浮架。
      [0005] 為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案,一種電鍍浮架,包括平行的兩側(cè)壁, 以及與兩側(cè)壁連接的槽底,所述側(cè)壁上設(shè)有通孔,沿所述通孔的四周設(shè)有若干可旋轉(zhuǎn)葉片, 調(diào)整可旋轉(zhuǎn)葉片的位置可改變通孔的孔徑;所述通孔與可旋轉(zhuǎn)葉片組成可調(diào)節(jié)通孔。
      [0006] 優(yōu)選的,所述可調(diào)節(jié)通孔的最大孔徑為1. 5-2cm。
      [0007] 優(yōu)選的,所述兩側(cè)壁的垂直距離為10-20cm。
      [0008] 優(yōu)選的,所述側(cè)壁上設(shè)有三行可調(diào)節(jié)通孔。
      [0009] 優(yōu)選的,所述槽底為一 V型底,槽底的深度為1. 5-2cm。
      [0010] 與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明通過(guò)在通孔的四周設(shè)置可旋轉(zhuǎn)葉 片,通過(guò)調(diào)節(jié)可旋轉(zhuǎn)葉片的位置可改變孔徑的大小,使電鍍浮架可根據(jù)待加工電路板的圖 形情況作針對(duì)性調(diào)整,從而提高鍍層厚度的均勻性;并且針對(duì)多樣化的電路板提供更具個(gè) 體差異的電鍍浮架,滿足不同圖形分布的電路板的鍍層要求。在側(cè)壁上設(shè)置緊密排列的可 調(diào)節(jié)通孔,當(dāng)電路板較小時(shí),將最上端的一行通孔完全打開(kāi)可減少電路板被遮擋的面積,從 而可以有效改善尺寸較小的電路板的鍍層均勻性。此外,在側(cè)壁上設(shè)置三行可調(diào)節(jié)通孔,并 且每行可調(diào)節(jié)通孔按同一孔徑參數(shù)統(tǒng)一控制,可降低操作的復(fù)雜度,降低誤操作率。
      【附圖說(shuō)明】
      [0011] 圖1為實(shí)施例中電鍍浮架的立體結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0012] 圖2為實(shí)施例中電鍍浮架的正視圖;
      [0013] 圖3為實(shí)施例中電鍍浮架上的可調(diào)節(jié)通孔處于完全閉合狀態(tài)的示意圖;
      [0014] 圖4為實(shí)施例中電鍍浮架上的可調(diào)節(jié)通孔處于完全打開(kāi)狀態(tài)的示意圖;
      [0015] 圖5為測(cè)試板中測(cè)試點(diǎn)的分布示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0016] 為了更充分理解本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容,下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作 進(jìn)一步介紹和說(shuō)明。
      [0017] 實(shí)施例
      [0018] 參照?qǐng)D1-4,本實(shí)施例提供一種電鍍浮架,包括兩側(cè)壁1、槽底2、通孔和可旋轉(zhuǎn)葉 片。槽底2為一 V型底,且槽底2的深度為2cm,槽底2的最大寬度為20cm。兩側(cè)壁1分別 與槽底2的兩邊固定連接,兩側(cè)壁1相互平行,兩側(cè)壁1的垂直距離為20cm。在每一側(cè)壁1 上分別設(shè)置緊密排列的三行圓形通孔,通孔的孔徑是2cm。沿通孔的四周設(shè)有六塊可旋轉(zhuǎn)葉 片,通過(guò)調(diào)節(jié)可旋轉(zhuǎn)葉片的位置可改變通孔的孔徑,使通孔完全閉合(如圖3所示)或使通 孔完全打開(kāi)(如圖4所示),孔徑為2cm。由通孔與可旋轉(zhuǎn)葉片組成可調(diào)節(jié)通孔3,即可調(diào)節(jié) 通孔3的結(jié)構(gòu)與虹膜式光圈的結(jié)構(gòu)類似。在其它實(shí)施方案中,還可以在通孔的四周設(shè)置其 它數(shù)量的可旋轉(zhuǎn)葉片,如設(shè)置八塊或十塊可旋轉(zhuǎn)葉片等。
      [0019] 在其它實(shí)施方案中,還可將槽底2的深度設(shè)為1.5-2cm,槽底2的最大寬度設(shè) 為10-20cm,兩側(cè)壁1的垂直距離設(shè)為10-20cm,并可將可調(diào)節(jié)通孔3的最大孔徑設(shè)為 L 5_2cm〇
      [0020] 應(yīng)用本實(shí)施例所述的電鍍浮架以及其它電鍍?cè)O(shè)備(如電鍍槽、陽(yáng)極等),對(duì)測(cè)試板 進(jìn)行電鍍處理,然后檢測(cè)測(cè)試板上的電鍍層的均勻性(檢測(cè)測(cè)試板中的50個(gè)測(cè)試點(diǎn)處的鍍 層厚度并計(jì)算均勻性;測(cè)試板中的測(cè)試點(diǎn)排成十行五列,如圖5所示,圖中的圓圈標(biāo)示測(cè)試 點(diǎn))。電鍍條件及測(cè)試方法如下:測(cè)試板的尺寸457mmX610mm,板厚1. 5mm,底銅1. 0/1. 00Z ; 電鍍面積C/S = S/S = 27. 88dm2,電流參數(shù)2. 0ASDX60min ;極差值=(MAX - MIN),均勻性 =1-(MAX - MIN)/2X 平均值。
      [0021] 各測(cè)試點(diǎn)的檢測(cè)結(jié)果如下表所示。
      [0022]
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1. 一種電鍍浮架,包括平行的兩側(cè)壁,以及與兩側(cè)壁連接的槽底,所述側(cè)壁上設(shè)有通 孔,其特征在于:沿所述通孔的四周設(shè)有若干可旋轉(zhuǎn)葉片,調(diào)整可旋轉(zhuǎn)葉片的位置可改變通 孔的孔徑;所述通孔與可旋轉(zhuǎn)葉片組成可調(diào)節(jié)通孔。
      2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述一種電鍍浮架,其特征在于:所述可調(diào)節(jié)通孔的最大孔徑為 L 5_2cm〇
      3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述一種電鍍浮架,其特征在于:所述兩側(cè)壁的垂直距離為 10-20cm〇
      4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述一種電鍍浮架,其特征在于:所述側(cè)壁上設(shè)有三行可調(diào)節(jié)通孔。
      5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述一種電鍍浮架,其特征在于:所述槽底為一 V型底,槽底的深度 為 L 5_2cm〇
      【專利摘要】本發(fā)明涉及PCB制作技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種電鍍浮架。本發(fā)明通過(guò)在通孔的四周設(shè)置可旋轉(zhuǎn)葉片,通過(guò)調(diào)節(jié)可旋轉(zhuǎn)葉片的位置可改變孔徑的大小,使電鍍浮架可根據(jù)待加工電路板的圖形情況作針對(duì)性調(diào)整,從而提高鍍層厚度的均勻性;并且針對(duì)多樣化的電路板提供更具個(gè)體差異的電鍍浮架,滿足不同圖形分布的電路板的鍍層要求。在側(cè)壁上設(shè)置緊密排列的可調(diào)節(jié)通孔,當(dāng)電路板較小時(shí),將最上端的一行通孔完全打開(kāi)可減少電路板被遮擋的面積,從而可以有效改善尺寸較小的電路板的鍍層均勻性。此外,在側(cè)壁上設(shè)置三行可調(diào)節(jié)通孔,并且每行可調(diào)節(jié)通孔按同一孔徑參數(shù)統(tǒng)一控制,可降低操作的復(fù)雜度,降低誤操作率。
      【IPC分類】C25D17-06
      【公開(kāi)號(hào)】CN104651912
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510047043
      【發(fā)明人】申亮, 彭衛(wèi)紅, 常文智, 翟青霞
      【申請(qǐng)人】深圳崇達(dá)多層線路板有限公司
      【公開(kāi)日】2015年5月27日
      【申請(qǐng)日】2015年1月29日
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