專利名稱：深基坑放線方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及建筑領(lǐng)域，具體地說，涉及一種深基坑放線方法。
背景技術(shù)：
大型建筑在施工時(shí)，常常先要挖掘ー個(gè)大的基坑。然后在這個(gè)大基坑中放線，以確定各種結(jié)構(gòu)在這個(gè)大基坑中的布局，例如，確定ー個(gè)或多個(gè)要澆筑的獨(dú)立基礎(chǔ)的中心在所述大基坑中的位置。在確定了要澆筑的各個(gè)獨(dú)立基礎(chǔ)的中心在所述大基坑中的位置之后，根據(jù)要澆筑的各個(gè)獨(dú)立基礎(chǔ)的尺寸，在上述大基坑底部的相應(yīng)位置進(jìn)ー步挖掘深基坑，以便在這些深基坑中澆筑所述各個(gè)獨(dú)立基礎(chǔ)。圖I是俯視圖，示出了在大基坑中所確定的ー個(gè)獨(dú)立基礎(chǔ)的位置。如圖I所示，在 大基坑10中，根據(jù)預(yù)定的設(shè)計(jì)圖紙放線，于是可以由經(jīng)線20和緯線31確定要澆筑的獨(dú)立基礎(chǔ)41的中心，然后，根據(jù)獨(dú)立基礎(chǔ)41的尺寸，在大基坑10的底部的相應(yīng)位置挖掘深基坑51，以便在深基坑51中澆筑獨(dú)立基礎(chǔ)41。圖2是俯視圖，示出了在大基坑中所確定的三個(gè)獨(dú)立基礎(chǔ)的位置。如圖2所示，在大基坑10中，根據(jù)預(yù)定的設(shè)計(jì)圖紙放線，于是可以由經(jīng)線20以及緯線31、緯線32和緯線33分別確定要澆筑的獨(dú)立基礎(chǔ)41、獨(dú)立基礎(chǔ)42和獨(dú)立基礎(chǔ)43的中心，然后，根據(jù)獨(dú)立基礎(chǔ)41、獨(dú)立基礎(chǔ)42和獨(dú)立基礎(chǔ)43的尺寸，在大基坑10的底部的相應(yīng)位置分別挖掘深基坑51、深基坑52和深基坑53，以便在深基坑51、深基坑52和深基坑53中分別澆筑獨(dú)立基礎(chǔ)41、獨(dú)立基礎(chǔ)42和獨(dú)立基礎(chǔ)43。如圖I和圖2所示，挖掘好的深基坑51、深基坑52和深基坑53的中心往往與它們所對應(yīng)的要澆筑的獨(dú)立基礎(chǔ)的中心不重合。因此，在挖掘好這些深基坑之后，需要根據(jù)經(jīng)線20以及緯線31、緯線32和緯線33在這些深基坑的底部確定要澆筑的各個(gè)獨(dú)立基礎(chǔ)的中心。具體說，就是要確定經(jīng)線20以及緯線31、緯線32和緯線33在其所對應(yīng)的深基坑的底部的垂直投影線，也就是進(jìn)行二次放線，然后，根據(jù)這些垂直投影線可以確定要澆筑的獨(dú)立基礎(chǔ)的中心在這些深基坑底部的位置，以便在這些深基坑的底部澆筑出位置符合設(shè)計(jì)的獨(dú)立基礎(chǔ)。通常，采用經(jīng)緯儀測繪法進(jìn)行二次放線。圖3是現(xiàn)有技術(shù)中采用經(jīng)緯儀測繪法進(jìn)行二次放線的示意圖。如圖3所示，采用經(jīng)緯儀100在深基坑51中進(jìn)行二次放線時(shí)，由于深基坑51較深，且經(jīng)緯儀100的望遠(yuǎn)鏡的轉(zhuǎn)動(dòng)角度有限，因此，投影常常投不到深基坑51的底部。另外，在每個(gè)深基坑中進(jìn)行二次放線時(shí)都需要架設(shè)一次經(jīng)緯儀100，這樣，如果有多個(gè)深基坑需要進(jìn)行二次放線的話，則需要多次架設(shè)經(jīng)緯儀100，這導(dǎo)致了施工不方便。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是為解決上述技術(shù)問題而做出的，其目的在于提供一種深基坑放線方法，既能準(zhǔn)確地確定標(biāo)線在深基坑底部的垂直投影線，又能簡化放線步驟，提高施工速度。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種深基坑放線方法，該方法包括如下步驟a)在深基坑外的地面上根據(jù)預(yù)先的設(shè)計(jì)放出標(biāo)線，該標(biāo)線橫過所述深基坑的上方；b)將盛有反光液體的開ロ容器放置在所述深基坑坑沿附近的地面上并在所述標(biāo)線的正下方；C)使第一放線人員處于所述深基坑外的開ロ容器附近，使第二放線人員處于所述深基坑的底部并持有標(biāo)記物，該標(biāo)記物包含標(biāo)記點(diǎn)；d)所述第一放線人員沿著垂直于所述標(biāo)線的方向水平移動(dòng)單眼，使得該單眼看到所述標(biāo)線與該標(biāo)線在所述開ロ容器內(nèi)的反光液體中的影子重合，并在此時(shí)指揮所述第二放線人員將所述標(biāo)記物上的標(biāo)記點(diǎn)置于所述標(biāo)線下方的深基坑底部上的不被所述第一放線人員的所述單眼看到的ー個(gè)位置處，并記下該位置；e)重復(fù)步驟
d)以在所述深基坑底部上獲得另ー個(gè)位置，并記下該位置ば)將步驟(d)和步驟(e)中獲得的兩個(gè)位置用直線連接起來，該直線即為所述標(biāo)線在所述深基坑底部的垂直投影線。在上述深基坑放線方法中，所述標(biāo)線的兩端可以分別固定在所述深基坑外的地面上所埋設(shè)的龍門板上。在上述深基坑放線方法中，所述反光液體可以為廢機(jī)油與墨汁的混合物。
在上述深基坑放線方法中，所述標(biāo)記物可以為削尖的鉛筆，該標(biāo)記物中的標(biāo)記點(diǎn)可以為所述鉛筆的筆尖。從上面的描述以及實(shí)踐可知，根據(jù)本發(fā)明，在深基坑中進(jìn)行二次放線時(shí)，一個(gè)放線人員將盛有反光液體的開ロ容器放置在深基坑邊沿處的標(biāo)線下方，然后單眼吊線并指揮另一個(gè)放線人員在深基坑底部確定兩個(gè)投影位置，根據(jù)這兩個(gè)投影位置就可以確定所述標(biāo)線在深基坑中的垂直投影線。本發(fā)明所述的深基坑放線方法簡單快捷，免去了架設(shè)經(jīng)緯儀的繁瑣，而且不受深基坑的深度限制，能準(zhǔn)確地確定標(biāo)線在深基坑底部的垂直投影線。


圖I是俯視圖，示出了在大基坑中所確定的ー個(gè)獨(dú)立基礎(chǔ)的位置；圖2是俯視圖，不出了在大基坑中所確定的ニ個(gè)獨(dú)立基礎(chǔ)的位置；圖3是現(xiàn)有技術(shù)中采用經(jīng)緯儀測繪法進(jìn)行二次放線的剖視示意圖；圖4a_4c是俯視圖，示出了本發(fā)明所述的深基坑放線方法的工作原理；圖5是采用本發(fā)明所述的放線方法在一個(gè)深基坑中進(jìn)行放線的剖視圖；圖6是采用本發(fā)明所述的放線方法在三個(gè)深基坑中進(jìn)行放線的剖視圖。
具體實(shí)施例方式下面將參考附圖來描述本發(fā)明所述的深基坑放線方法的實(shí)施例。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以認(rèn)識到，在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可以用各種不同的方式對所描述的實(shí)施例進(jìn)行修正。因此，附圖和描述在本質(zhì)上是說明性的，而不是用于限制權(quán)利要求的保護(hù)范圍。此外，在本說明書中，相同的附圖標(biāo)記表示相同或相似的部分。首先參考圖4a_4c來說明本發(fā)明所述的深基坑放線方法的工作原理。 圖4a_4c是俯視圖，示出了本發(fā)明所述深基坑放線方法的工作原理。如圖4a_4c所示，在深基坑51外的地面上放出標(biāo)線(例如，圖I和圖2中的經(jīng)線20，下面也記為標(biāo)線20)，該標(biāo)線橫過深基坑51的上方。盛有反光液體61的開ロ容器60放置在深基坑51坑沿附近的地面上，并在標(biāo)線20的正下方。如圖4a所示，當(dāng)?shù)谝环啪€人員的単眼70處于包含標(biāo)線20的垂直平面的一側(cè)時(shí)，該單眼70可以看到標(biāo)線20在反光液體61中的影子20’。此時(shí)若第一放線人員指揮第二放線人員將標(biāo)記點(diǎn)放置在標(biāo)線20下方的深基坑51底部上的不被單眼70看到(即被標(biāo)線20遮住)的位置81或位置82處，那么，位置81和位置82實(shí)際上不在包含標(biāo)線20的垂直平面內(nèi)，而是在該垂直平面的另ー側(cè)。如圖4b所示，當(dāng)?shù)谝环啪€人員沿著垂直于標(biāo)線20的方向水平移動(dòng)單眼70到包含標(biāo)線20的垂直平面的另ー側(cè)吋，該單眼70可以看到標(biāo)線20在反光液體61中的影子20’。此時(shí)若第一放線人員指揮第二放線人員將標(biāo)記點(diǎn)放置在標(biāo)線20下方的深基坑51底部上的不被單眼70看到(即被標(biāo)線20遮住)的位置81或位置82處，那么，位置81和位置82實(shí)際上不在包含標(biāo)線20的垂直平面內(nèi)，而是在該垂直平面的與所述另ー側(cè)相反的ー側(cè)。如圖4c所示，単眼70在上述移動(dòng)過程中只在ー個(gè)位置處可以看到標(biāo)線20與該標(biāo)線20在反光液體61中的影子20’重合。此時(shí)，若第一放線人員指揮所述第二放線人員將標(biāo)記點(diǎn)放置在標(biāo)線20下方的深基坑51底部上的不被單眼70看到(即被標(biāo)線20遮住)的位置81或位置82處，那么，位置81和位置82正好在包含標(biāo)線20的垂直平面內(nèi)。換言之，位 置81和位置82的連線就是標(biāo)線20在深基坑51底部的垂直投影線。采用盛在開ロ容器60中的反光液體61而不采用鏡子等作為反射體的原因是，反光液體61的液面自動(dòng)具有水平水準(zhǔn)，因此，就免去了調(diào)節(jié)反射體的反射面的水平水準(zhǔn)的過程。而反射體的反射面的水平水準(zhǔn)對于本發(fā)明所述的放線方法來說是至關(guān)重要的。下面結(jié)合圖5和圖6來說明本發(fā)明所述的深基坑放線方法。圖5是采用本發(fā)明所述的放線方法在一個(gè)深基坑中進(jìn)行放線的側(cè)面剖視示意圖。如圖5所示，本發(fā)明所述的深基坑放線方法可以包括如下步驟a)在深基坑51外的地面上根據(jù)預(yù)先的設(shè)計(jì)放出標(biāo)線(例如經(jīng)線20)，該標(biāo)線橫過深基坑51的上方。其中，所述標(biāo)線的兩端可以分別固定在深基坑51外的地面上所埋設(shè)的固定物(例如，龍門板90)上。b)將盛有反光液體的開ロ容器60 (例如小鋁盆)放置在深基坑51坑沿附近的地面上并在所述標(biāo)線的正下方。所述反光液體可以為任何反光度較高的液體，以便能夠清楚地看到所述標(biāo)線在該液體中的影子。例如，所述反光液體可以為廢機(jī)油與墨汁的混合物。c)使第一放線人員處于深基坑51外的開ロ容器60附近，使第二放線人員(未示出)處于深基坑51的底部并持有標(biāo)記物，該標(biāo)記物包含標(biāo)記點(diǎn)。所述標(biāo)記物的例子有削尖的鉛筆，該標(biāo)記物中的標(biāo)記點(diǎn)可以為所述鉛筆的筆尖。d)所述第一放線人員沿著垂直于所述標(biāo)線的方向水平移動(dòng)單眼70，使得該單眼70看到所述標(biāo)線與該標(biāo)線在開ロ容器60內(nèi)的反光液體中的影子重合，并在此時(shí)指揮所述第二放線人員將所述標(biāo)記物上的標(biāo)記點(diǎn)置于所述標(biāo)線下方的深基坑51底部上的不被所述第一放線人員的所述單眼70看到(即被所述標(biāo)線遮住)的ー個(gè)位置81處，并記下該位置81。e)重復(fù)步驟d)以在深基坑51底部上獲得另ー個(gè)位置82,并記下該位置82。實(shí)際上，這樣的位置有無窮多，它們都在一條直線上。在實(shí)踐中，只要確定其中的任意兩個(gè)位置即可。f)將步驟(d)和步驟(e)中獲得的位置81和位置82用直線連接起來，該直線即為所述標(biāo)線在深基坑51底部的垂直投影線。這樣，就完成了一次二次放線。采用同樣的方法，還可以針對其它標(biāo)線在深基坑51中進(jìn)行二次放線。
圖6是采用本發(fā)明所述的放線方法在三個(gè)深基坑中進(jìn)行放線的側(cè)面剖視示意圖。如圖6所示，根據(jù)本發(fā)明所述的方法，在每個(gè)深基坑中進(jìn)行二次放線時(shí)，只需要一個(gè)放線人員將盛有反光液體的開ロ容器60放置在該深基坑邊沿處的標(biāo)線下方，然后單眼吊線并指揮另ー個(gè)放線人員在深基坑底部確定兩個(gè)投影位置即可。根據(jù)每個(gè)深基坑中的這兩個(gè)投影位置就可以確定所述標(biāo)線在該深基坑中的垂直投影線。這樣就免去了多次架設(shè)經(jīng)緯儀的繁瑣，而且上述二次放線不受深基坑的深度限制，井能準(zhǔn)確地確定標(biāo)線在深基坑底部的垂直投影線。如上參照附圖以示例的方式描述了本發(fā)明所述的深基坑放線方法。但是，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，對于上述本發(fā)明所提出的深基坑放線方法，還可以在不脫離本發(fā)明內(nèi)容的基礎(chǔ)上做出各種改進(jìn)和組合。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)由所附的權(quán)利要求書的內(nèi)
容確定。
權(quán)利要求
1.一種深基坑放線方法，包括如下步驟 a)在深基坑外的地面上根據(jù)預(yù)先的設(shè)計(jì)放出標(biāo)線，該標(biāo)線橫過所述深基坑的上方； b)將盛有反光液體的開ロ容器放置在所述深基坑坑沿附近的地面上并在所述標(biāo)線的正下方； c)使第一放線人員處于所述深基坑外的開ロ容器附近，使第二放線人員處于所述深基坑的底部并持有標(biāo)記物，該標(biāo)記物包含標(biāo)記點(diǎn)； d)所述第一放線人員沿著垂直于所述標(biāo)線的方向水平移動(dòng)單眼，使得該單眼看到所述標(biāo)線與該標(biāo)線在所述開ロ容器內(nèi)的反光液體中的影子重合，并在此時(shí)指揮所述第二放線人員將所述標(biāo)記物上的標(biāo)記點(diǎn)置于所述標(biāo)線下方的深基坑底部上的不被所述第一放線人員的所述單眼看到的ー個(gè)位置處，并記下該位置； e)重復(fù)步驟d)以在所述深基坑底部上獲得另ー個(gè)位置，并記下該位置； f)將步驟(d)和步驟(e)中獲得的兩個(gè)位置用直線連接起來，該直線即為所述標(biāo)線在所述深基坑底部的垂直投影線。
2.如權(quán)利要求I所述的深基坑放線方法，其中， 所述標(biāo)線的兩端分別固定在所述深基坑外的地面上所埋設(shè)的龍門板上。
3.如權(quán)利要求I所述的深基坑放線方法，其中， 所述反光液體為廢機(jī)油與墨汁的混合物。
4.如權(quán)利要求I所述的深基坑放線方法，其中， 所述標(biāo)記物為削尖的鉛筆，該標(biāo)記物中的標(biāo)記點(diǎn)為所述鉛筆的筆尖。
全文摘要
本發(fā)明提供一種深基坑放線方法，包括a)在深基坑外放出標(biāo)線，該標(biāo)線橫過深基坑的上方；b)將盛有反光液體的開口容器放置在深基坑坑沿附近并在標(biāo)線的正下方；c)使第一人在深基坑外，使第二人在深基坑底部并持有標(biāo)記物；d)第一人垂直于標(biāo)線水平移動(dòng)單眼，使該單眼看到標(biāo)線與標(biāo)線在反光液體中的影子重合，并在此時(shí)指揮第二人將標(biāo)記物上的標(biāo)記點(diǎn)置于標(biāo)線下方的深基坑底部上的不被所述單眼看到的一個(gè)位置處，并記下該位置；e)重復(fù)步驟d)以在深基坑底部上獲得另一個(gè)位置，并記下該位置；f)將所述兩個(gè)位置用直線連接起來，該直線即為標(biāo)線在深基坑底部的垂直投影線。該方法能準(zhǔn)確確定標(biāo)線在深基坑底部的垂直投影線，且簡單快捷。
文檔編號E02D33/00GK102776901SQ201210214469
公開日2012年11月14日 申請日期2012年6月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月25日
發(fā)明者劉宏強(qiáng), 王冶, 趙野 申請人:中國華冶科工集團(tuán)有限公司, 遼寧華冶建設(shè)工程有限公司