一種磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置，包括呈方形的閥體、閥蓋、氣缸、2個(gè)擴(kuò)散泵和連接管，所述閥體的下面設(shè)有閥口，所述閥口通過連接管與磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的真空鍍膜室連接，所述閥蓋安裝于氣缸的伸縮桿；2個(gè)所述擴(kuò)散泵均安裝于閥體的下面，2個(gè)所述擴(kuò)散泵的抽氣口與閥體的內(nèi)腔連通，且2個(gè)所述擴(kuò)散泵分別位于連接管抽兩側(cè)；當(dāng)擴(kuò)散泵停止抽氣時(shí)，所述閥蓋與連接管密封連接。本實(shí)用新型提高了抽真空的效率，同時(shí)使真空鍍膜室的真空度更高。
【專利說明】 一種磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線設(shè)備，具體涉及一種磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線常用于生產(chǎn)玻璃。為使磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線中的真空鍍膜室達(dá)到真空效果，需要使用抽氣設(shè)備對真空鍍膜室進(jìn)行抽真空處理。目前的抽氣設(shè)備雖然可以對真空鍍膜室進(jìn)行抽真空處理，但還是存在以下技術(shù)缺陷:1、抽真空的效率低，完成真空處理的效果差，即真空鍍膜室的真空度較低；2、結(jié)構(gòu)復(fù)雜，不便于安裝；3、需要的控制系統(tǒng)較復(fù)雜，不便于操作。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型的目的是為了克服以上現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供了一種結(jié)構(gòu)簡單、合理，便于操作、效率高的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置。
[0004]本實(shí)用新型的目的通過以下的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):本磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置，包括呈方形的閥體、閥蓋、氣缸、2個(gè)擴(kuò)散泵和連接管，所述閥體的下面設(shè)有閥口，所述閥口通過連接管與磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的真空鍍膜室連接，所述閥蓋安裝于氣缸的伸縮桿；2個(gè)所述擴(kuò)散泵均安裝于閥體的下面，2個(gè)所述擴(kuò)散泵的抽氣口與閥體的內(nèi)腔連通，且2個(gè)所述擴(kuò)散泵分別位于連接管抽兩側(cè)；當(dāng)擴(kuò)散泵停止抽氣時(shí)，所述閥蓋與連接管密封連接。
[0005]優(yōu)選的，所述閥體的長度a為1500mm?2000mm，其寬度b為600mm?650mm，而其高度c為150mm?250mm。閥體的尺寸根據(jù)真空鍍膜室的大小、擴(kuò)散泵的功率大小等因素而決定，以保證擴(kuò)散泵的抽氣效率。
[0006]優(yōu)選的，所述氣缸的缸體固定于閥體的上面，且所述氣缸的伸縮桿插入閥體內(nèi)與閥蓋連接。采用此設(shè)計(jì)方便穩(wěn)定地安裝氣缸，保證工作的有效進(jìn)行。
[0007]優(yōu)選的，所述氣缸的伸縮桿穿過閥體處設(shè)有密封組件。采用密封組件可提高了閥體的密封性，進(jìn)一步提高抽氣效率及真空鍍膜室的真空度。為了簡化設(shè)計(jì)，密封組件可直接自市場中進(jìn)行購買，減少研發(fā)時(shí)間。
[0008]優(yōu)選的，所述閥體的閥口位于閥體的下面中間，2個(gè)所述擴(kuò)散泵相對于閥口對稱分布。采用此設(shè)計(jì)，這可達(dá)到均勻抽真空的效果，更進(jìn)一步提高了抽真空的效率。
[0009]優(yōu)選的，所述連接管通過法蘭與閥口密封連接。采用此設(shè)計(jì)，方便部件的安裝，且密封性能好。
[0010]本實(shí)用新型相對于現(xiàn)有技術(shù)具有如下的優(yōu)點(diǎn):本磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置主要由呈方形的閥體、閥蓋、氣缸、2個(gè)擴(kuò)散泵和連接管構(gòu)成，2個(gè)擴(kuò)散泵通過閥體同時(shí)對真空鍍膜室進(jìn)行抽真空處理，同時(shí)，多個(gè)磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置可進(jìn)行組合同時(shí)對真空鍍膜室進(jìn)行抽真空處理，從而提高了抽真空的效率，同時(shí)使真空鍍膜室的真空度更高；本磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置的結(jié)構(gòu)簡單，這方便安裝和維護(hù)；本磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置進(jìn)行工作時(shí)，僅需要令氣缸和擴(kuò)散泵進(jìn)行動作，這使其只需要簡單的控制系統(tǒng)即可完成工作，大大方便了工作人員的操作，降低了勞動強(qiáng)度。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1是本實(shí)用新型的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖2是本實(shí)用新型的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置的左視圖。
[0013]圖3是圖1中A-A方向的剖視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0015]如圖1至圖3所示，所示的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置，包括呈方形的閥體1、閥蓋2、氣缸3、2個(gè)擴(kuò)散泵4和連接管5，所述閥體1的下面設(shè)有閥口，所述閥口通過連接管5與磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的真空鍍膜室連接，所述閥蓋2安裝于氣缸3的伸縮桿；2個(gè)所述擴(kuò)散泵4均安裝于閥體1的下面，2個(gè)所述擴(kuò)散泵4的抽氣口與閥體1的內(nèi)腔連通，且2個(gè)所述擴(kuò)散泵4分別位于連接管5抽兩側(cè)；當(dāng)擴(kuò)散泵4停止抽氣時(shí)，所述閥蓋3與連接管5密封連接。所述閥體1的長度a為1700mm，其寬度b為620mm，而其高度c為200mm。閥體呈方形，這方便安裝氣缸3，同時(shí)閥體1的內(nèi)腔呈扁平狀，可保證擴(kuò)散泵4的抽氣效率。連接管5通過焊接的方式與真空鍍膜室連接，這使兩者之間的連接更有很好的密封性，保證真空鍍膜室具有高的真空度。
[0016]所述氣缸3的缸體固定于閥體1的上面，且所述氣缸3的伸縮桿插入閥體1內(nèi)與閥蓋連接。采用此設(shè)計(jì)方便穩(wěn)定地安裝氣缸3，保證工作的有效進(jìn)行。
[0017]所述氣缸3的伸縮桿穿過閥體1處設(shè)有密封組件6。采用密封組件6可提高了閥體1的密封性，進(jìn)一步提高抽氣效率及真空鍍膜室的真空度。為了簡化設(shè)計(jì)，密封組件可直接自市場中進(jìn)行購買，減少研發(fā)時(shí)間。
[0018]所述閥體1的閥口位于閥體1的下面中間，2個(gè)所述擴(kuò)散泵4相對于閥口對稱分布。采用此設(shè)計(jì)，這可達(dá)到均勻抽真空的效果，更進(jìn)一步提高了抽真空的效率。
[0019]所述連接管5通過法蘭7與閥口密封連接。采用此設(shè)計(jì)，方便部件的安裝，且密封性能好。同時(shí)，為使連接管5與閥口更穩(wěn)定連接，連接管與閥口連接的端部外壁設(shè)有筋板8。
[0020]在實(shí)際工作中，當(dāng)擴(kuò)散泵進(jìn)行抽氣時(shí)，氣缸的伸縮桿處于收縮狀態(tài)，此時(shí)閥口被打開，則擴(kuò)散泵對真空鍍膜室進(jìn)行抽真空處理；而當(dāng)擴(kuò)散泵停止抽氣后，氣缸的伸縮桿伸出，閥蓋下移，使關(guān)閉閥口，令真空鍍膜室完全密封，保證真空鍍膜室具有高的真空度。為了進(jìn)一步提高抽真空效率，本磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置可多個(gè)使用，本實(shí)施例中磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置的個(gè)數(shù)為20個(gè)，從而可對真空鍍膜室進(jìn)行快速抽真空處理。
[0021]上述【具體實(shí)施方式】為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并不能對本實(shí)用新型進(jìn)行限定，其他的任何未背離本實(shí)用新型的技術(shù)方案而所做的改變或其它等效的置換方式，都包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置，其特征在于:包括呈方形的閥體、閥蓋、氣缸、2個(gè)擴(kuò)散泵和連接管，所述閥體的下面設(shè)有閥口，所述閥口通過連接管與磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的真空鍍膜室連接，所述閥蓋安裝于氣缸的伸縮桿；2個(gè)所述擴(kuò)散泵均安裝于閥體的下面，2個(gè)所述擴(kuò)散泵的抽氣口與閥體的內(nèi)腔連通，且2個(gè)所述擴(kuò)散泵分別位于連接管抽兩側(cè)；當(dāng)擴(kuò)散泵停止抽氣時(shí)，所述閥蓋與連接管密封連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置，其特征在于:所述閥體的長度a為1 500mm?2000mm，其寬度b為600mm?650mm，而其高度c為150mm?250mmo
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置，其特征在于:所述氣缸的缸體固定于閥體的上面，且所述氣缸的伸縮桿插入閥體內(nèi)與閥蓋連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置，其特征在于:所述氣缸的伸縮桿穿過閥體處設(shè)有密封組件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置，其特征在于:所述閥體的閥口位于閥體的下面中間，2個(gè)所述擴(kuò)散泵相對于閥口對稱分布。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的抽氣閥裝置，其特征在于:所述連接管通過法蘭與閥口密封連接。
【文檔編號】F04F9/08GK204186661SQ201420613953
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2014年10月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月22日
【發(fā)明者】蘇貴方 申請人:肇慶市大力真空設(shè)備有限公司