專利名稱：帶電構(gòu)件的再生方法、帶電構(gòu)件與帶電構(gòu)件的再生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種電子照相式圖像形成裝置中所使用的帶電構(gòu)件的再生方法、帶電構(gòu)件與帶電構(gòu)件的再生裝置。
背景技術(shù)：
過(guò)去，在感光體上形成靜電潛像后用碳粉(Toner)使之顯影而得到碳粉圖像的電子照相式圖像形成裝置中，廣泛采用一種帶電構(gòu)件，這種帶電構(gòu)件一邊與感光體表面接觸帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)，一邊將電荷賦予至感光體中。在圖像形成時(shí)，這種帶電構(gòu)件的表面因?yàn)榻o予電荷而容易附著碳粉和紙屑等。于是帶電構(gòu)件的帶電能力隨著這些附著物附著于帶電構(gòu)件表面而降低，亦即因?yàn)樽杩怪瞪仙菀桩a(chǎn)生畫質(zhì)不良的現(xiàn)象。
通常帶電能力處于低落狀態(tài)的帶電構(gòu)件，可通過(guò)洗凈其表面附著物、降低阻抗值，而回復(fù)帶電能力并能夠再次使用。作為帶電構(gòu)件的一種再生方法是將附著有附著物的表面層剝離除去后，再形成表面層的方法，但是這種方法存在有處理成本昂貴的缺點(diǎn)。舉例來(lái)說(shuō)，日本專利特開平6-289755號(hào)案和日本專利特開平7-89627號(hào)案已揭露一種使用有機(jī)溶劑作為清洗液，在有機(jī)溶劑中使用刷子擦洗帶電構(gòu)件，或者在有機(jī)溶劑中利用超音波進(jìn)行清洗的帶電構(gòu)件的清潔方法。
然而，目前的情況是即使以上述的方法洗凈帶電構(gòu)件表面的附著物，也無(wú)法充分的降低阻抗值，且當(dāng)帶電構(gòu)件無(wú)法回復(fù)必要的帶電能力時(shí)，就無(wú)法再使用而必須將其廢棄。如此，對(duì)于經(jīng)洗凈后阻抗值無(wú)法充分降低而無(wú)法回復(fù)必要的帶電能力的帶電構(gòu)件而言，就需要一種能夠改善性質(zhì)而使其可以輕易的再使用的方法。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明以解決上述問(wèn)題并達(dá)成下述目的作為課題。亦即，本發(fā)明的目的在于提供一種使經(jīng)表面洗凈后阻抗值無(wú)法充分降低而無(wú)法回復(fù)必要的帶電能力的帶電構(gòu)件能夠輕易的再次使用的帶電構(gòu)件的再生方法、帶電構(gòu)件與帶電構(gòu)件的再生裝置。
上述課題可利用下述手段來(lái)達(dá)成。
(1)本發(fā)明的帶電構(gòu)件的再生方法是一種擠壓被帶電體表面使上述被帶電體帶電的電子照相用帶電構(gòu)件的再生方法，其特征為，包括對(duì)上述帶電構(gòu)件進(jìn)行加熱處理的加熱處理工藝。
(2)在上述(1)所記載的帶電構(gòu)件的再生方法中，其特征為，在上述加熱處理工藝中，加熱處理溫度為150℃～200℃左右。
(3)在上述(1)所記載的帶電構(gòu)件的再生方法中，其特征為，在上述加熱處理工藝中，加熱處理時(shí)間為15分鐘～120分鐘左右。
(4)在上述(1)所記載的帶電構(gòu)件的再生方法中，其特征為，更包括洗凈上述帶電滾筒表面的洗凈工藝。
(5)在上述(1)所記載的帶電構(gòu)件的再生方法中，其特征為，上述帶電構(gòu)件在芯材上至少具有依序堆棧的由包含有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)的離子導(dǎo)電層與包含碳黑的表面層。
(6)在上述(5)所記載的帶電構(gòu)件的再生方法中，其特征為，在上述帶電構(gòu)件中，表面層的基材為由脂肪族聚酯樹脂與蜜胺(melamine)樹脂進(jìn)行架橋反應(yīng)而得到的熱硬化樹脂。
(7)在上述(5)所記載的帶電構(gòu)件的再生方法中，其特征為，在上述帶電構(gòu)件中，表面層含有氟系高分子化合物及/或硅系高分子化合物的微粒子。
(8)本發(fā)明的帶電構(gòu)件是一種擠壓被帶電體表面使上述被帶電體帶電的電子照相用帶電構(gòu)件，其特征為，上述帶電構(gòu)件是經(jīng)過(guò)加熱處理而再生的。
(9)在上述(8)所記載的帶電構(gòu)件，其特征為，處理溫度為150℃～200℃左右。
(10)在上述(8)所記載的帶電構(gòu)件，其特征為，處理時(shí)間為15分鐘～120分鐘左右。
(11)在上述(8)所記載的帶電構(gòu)件，其特征為，帶電滾筒更包括經(jīng)過(guò)洗凈處理而再生的。
(12)在上述(8)所記載的帶電構(gòu)件，其特征為，上述帶電構(gòu)件在芯材上至少具有依序堆棧的由包含有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)的離子導(dǎo)電層與包含碳黑的表面層。
(13)在上述(12)所記載的帶電構(gòu)件，其特征為，在上述帶電構(gòu)件中，表面層的基材為由脂肪族聚酯樹脂與蜜胺(melamine)樹脂進(jìn)行架橋反應(yīng)而得到的熱硬化樹脂。
(14)在上述(12)所記載的帶電構(gòu)件，其特征為，在上述帶電構(gòu)件中，表面層含有氟系高分子化合物及/或硅系高分子化合物的微粒子。
(15)本發(fā)明的帶電構(gòu)件的再生裝置，其特征為，具備有可對(duì)帶電構(gòu)件施行加熱處理的加熱處理裝置。
(16)在上述(15)所記載的帶電構(gòu)件的再生裝置中，其特征為，更具備有對(duì)帶電構(gòu)件施行洗凈處理的洗凈處理裝置。


圖1為第1實(shí)施例的帶電滾筒的各處理后電阻抗值示意圖。
圖2為第1實(shí)施例的帶電滾筒的各處理后電阻抗值的阻抗變化率與預(yù)測(cè)阻抗產(chǎn)率示意圖。
圖3為參考例的帶電滾筒的加熱處理后與水洗凈后的阻抗值變化示意圖。
圖4為參考例的帶電滾筒的加熱處理后與水洗凈后的外徑變化示意圖。
圖5為參考例的帶電滾筒的加熱處理后與水洗凈后的隆起量變化示意圖。
圖6為參考例的帶電滾筒的加熱處理后與水洗凈后的硬度變化示意圖。
圖7為參考例的帶電滾筒的加熱處理后與水洗凈后的表面粗糙度變化示意圖。
圖8為參考例的帶電滾筒的加熱處理后與水洗凈后的碳黑分散狀態(tài)變化示意圖。
圖9為使用本發(fā)明的再生方法所再生的帶電構(gòu)件再使用的影像形成裝置的一例的概略結(jié)構(gòu)示意圖。
10電子照相感光體11帶電器12電源13圖像輸入器14顯像器15轉(zhuǎn)寫器16清潔器17除電器18固定器20被轉(zhuǎn)寫體具體實(shí)施方式
以下，詳細(xì)的說(shuō)明本發(fā)明。而且，根據(jù)本發(fā)明的帶電構(gòu)件的再生方法、帶電構(gòu)件與帶電構(gòu)件的再生裝置依序加以說(shuō)明。
本發(fā)明的帶電構(gòu)件的再生方法包括回收帶電能力低落而使用完畢的帶電構(gòu)件，然后對(duì)此回收的帶電構(gòu)件施行加熱處理的加熱處理工藝。而且，可視實(shí)際需要而包括洗凈帶電滾筒表面的洗凈工藝。此洗凈工藝可以在加熱處理工藝前進(jìn)行之，也可以在加熱處理工藝后進(jìn)行之。
在本發(fā)明的帶電構(gòu)件的再生方法中，對(duì)使用完畢的帶電構(gòu)件施行加熱處理，而降低阻抗值的機(jī)構(gòu)并不是很清楚，其結(jié)果推測(cè)如下。使用完畢后的帶電構(gòu)件，在經(jīng)表面洗凈后阻抗值無(wú)法充分降低而無(wú)法回復(fù)必要的帶電能力的原因，為帶電構(gòu)件構(gòu)成層(特別是表面層)所包含的導(dǎo)電劑的分散狀態(tài)發(fā)生集中現(xiàn)象，而使的內(nèi)部構(gòu)造產(chǎn)生變化造成阻抗值上升，于是通過(guò)加熱處理可以使內(nèi)部構(gòu)造復(fù)原，亦即使導(dǎo)電劑再一次的均勻分散，而可以充分的降低阻抗值，回復(fù)帶電構(gòu)件的帶電能力。
在加熱處理工藝中，對(duì)帶電構(gòu)件施行加熱處理，從能夠有效率且充分的降低阻抗值的觀點(diǎn)來(lái)看，加熱處理溫度較佳為150℃～200℃左右，更佳為170℃～180℃左右。另一方面，加熱處理時(shí)間較佳為15分鐘～120分鐘左右，更佳為30分鐘～60分鐘左右。當(dāng)加熱處理的熱量不足夠時(shí)，無(wú)法充分的降低阻抗值，當(dāng)加熱處理的熱量太多時(shí)，則會(huì)破壞離子導(dǎo)電層或表面層的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，而無(wú)法作為帶電滾筒使用，于是較佳是能夠適當(dāng)?shù)慕M合加熱處理溫度與時(shí)間。
在加熱處理工藝中，只要能夠?qū)щ姌?gòu)件進(jìn)行加熱處理，其實(shí)施方式并沒(méi)有特別的限定，舉例來(lái)說(shuō)可以將帶電構(gòu)件放入烤箱(Oven)等裝置中以進(jìn)行加熱處理。當(dāng)然，也可以使用輸送帶(Belt Conveyor)等導(dǎo)入烤箱中，以批式處理方式進(jìn)行加熱處理。
洗凈工藝進(jìn)行的目的在于去除帶電構(gòu)件表面的附著物(碳粉和紙屑)。洗凈工藝所使用的清洗液例如是水、有機(jī)溶劑或酸性水溶液。當(dāng)然，在不損傷帶電構(gòu)件表面的情況下，也可以采用將帶電構(gòu)件置于有機(jī)溶劑中，使用刷子進(jìn)行擦洗，并利用超音波洗凈的洗凈方法。
經(jīng)過(guò)上述的工藝后，帶電能力低落的使用完畢的帶電構(gòu)件就可以回復(fù)帶電能力而能夠再度使用(本發(fā)明的帶電構(gòu)件)。就此種帶電構(gòu)件的再生方法所適用的再生裝置(本發(fā)明的帶電構(gòu)件的再生裝置)而言，具備有進(jìn)行上述各工藝的裝置(舉例來(lái)說(shuō)，加熱處理裝置例如是以輸送帶導(dǎo)入的烤箱，洗凈處理裝置例如是超音波洗凈裝置等)。
在本發(fā)明的帶電構(gòu)件的再生方法中，為對(duì)象物的帶電構(gòu)件，在表面洗凈中無(wú)法充分的降低阻抗值而無(wú)法回復(fù)必要的帶電構(gòu)件能力，于是通過(guò)施行加熱處理，而可以使其回復(fù)成具有必要帶電能力的帶電構(gòu)件。但是，如上述一般，經(jīng)由加熱處理后，由于使帶電構(gòu)件構(gòu)成層(特別是表面層)所包含的導(dǎo)電劑的分散狀態(tài)回復(fù)成均一的狀態(tài)，而可以充分的降低阻抗值、回復(fù)帶電能力所做的推論并不是很明確。因此，只要是經(jīng)由加熱處理就可以降低阻抗值而回復(fù)帶電能力的帶電構(gòu)件，就可以適用于本發(fā)明。
就此種帶電構(gòu)件的具體實(shí)例而言，舉例來(lái)說(shuō)，包括下述說(shuō)明的帶電構(gòu)件(以下稱為“帶電構(gòu)件”)—帶電構(gòu)件—帶電構(gòu)件具備有在芯材上至少依序堆棧的包含有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)的離子導(dǎo)電層和包含有碳黑的表面層。
一般而言，帶電構(gòu)件會(huì)具有導(dǎo)電性彈性體層，在本發(fā)明中，離子導(dǎo)電層可兼做為導(dǎo)電性彈性體層，當(dāng)然離子導(dǎo)電層也可以設(shè)置在獨(dú)立的導(dǎo)電性彈性體層上(包括在兩者之間插入其它層之情況)，亦即在芯材與離子導(dǎo)電層之間至少設(shè)置有導(dǎo)電性彈性體層。
—芯材—在本發(fā)明中，芯材例如是可以使用鐵、鍍鎳電鍍處理的鐵、銅、不銹鋼等公知的金屬。芯材的形狀與公知帶電構(gòu)件所使用的芯材一樣為軸心狀。
—離子導(dǎo)電層—離子導(dǎo)電層為包含有機(jī)離子導(dǎo)電物質(zhì)的層，一般而言，其為在作為基礎(chǔ)的基材中分散、摻合有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)與其它視實(shí)際需要的導(dǎo)電性物質(zhì)(碳黑或金屬氧化物等)。
就有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)而言，其包括四級(jí)銨鹽(例如月桂基三甲基銨(1auryl trimethylammonium)、硬脂醯三甲基銨(stearyltrimethylammonium)、十八烷基三甲基銨、十二烷基三甲基銨、十六烷基三甲基銨、變性脂肪酸二甲基乙基銨等的過(guò)氯酸鹽、氯酸鹽、氟硼酸氫酸鹽、硫酸鹽、乙氧磺酸鹽(ethosulfates)、鹵素苯甲基鹽(溴化苯甲基鹽、氯化苯甲基鹽等)等)、脂肪族磺酸鹽、高級(jí)醇硫酸酯鹽、高級(jí)醇環(huán)氧乙烷附加硫酸酯鹽、高級(jí)醇磷酸酯鹽、高級(jí)醇環(huán)氧乙烷附加磷酸酯鹽、各種三甲基銨內(nèi)酯、高級(jí)醇環(huán)氧乙烷、聚乙烯乙二醇脂肪酸酯、多價(jià)醇脂肪酸酯等。
就有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)而言，其也可以是多價(jià)醇(1，4-丁二醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、聚乙二醇)及其衍生物與金屬鹽的錯(cuò)合物、單醇(乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚等)與金屬鹽的錯(cuò)合物等。金屬鹽例如是LiClO4、LiCF3SO3、LiAsF6、LiBF4、NaClO4、NaSCN、KSCN、NaCl等周期表第一族的金屬鹽、NH4+的鹽的電解質(zhì)、Ca(ClO4)2、Ca(ClO4)2等周期表第二族的金屬鹽、至少含以一個(gè)氫氧基、羧基、與一級(jí)至二級(jí)胺基等異氰酸酯反應(yīng)而具有活性氫的化合物等。具體而言，此種錯(cuò)合物例如是PEL(LiClO4與聚乙二醇的錯(cuò)合物)等。
其中，就有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)而言，從與基材的相溶性觀點(diǎn)來(lái)看，其較佳為四級(jí)銨鹽。此四級(jí)銨鹽從滲出(Bleed)的觀點(diǎn)來(lái)看，其平均分子量(Mw)較佳為100～600，更佳為150～300。而且，此四級(jí)銨鹽從上述滲出(Bleed)的觀點(diǎn)來(lái)看較佳是具有一個(gè)以上的苯環(huán)。
有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)可以單獨(dú)使用或者兩種以上組合使用而摻合在基材中，也要需要根據(jù)除了電阻抗外(表面阻抗率、體積阻抗率)，力學(xué)強(qiáng)度、硬度、反彈彈性率等特性而使整個(gè)系統(tǒng)達(dá)到要求，來(lái)?yè)胶嫌袡C(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)。對(duì)于上述有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)至基材的摻合量而言，相對(duì)于100重量份基材較佳是添加0.01～10重量份，更佳是0.1～5重量份。
作為導(dǎo)電性物質(zhì)所使用的金屬氧化物而言，舉例來(lái)說(shuō)，其包括氧化鋅、氧化鈦、氧化錫、銻摻雜氧化錫等。
在此，也可以使用碳黑作為導(dǎo)電性物質(zhì)，特別是使用酸性的碳黑，即使一部分流通過(guò)剩的電流，重復(fù)的施加電壓，也難以受到氧化影響，而且其表面在附著有含氧官能基的效果下，可以提高至基材的分散性、縮小阻抗偏差，同時(shí)可以使電場(chǎng)的依存性變小，經(jīng)由通電后也難以引起電場(chǎng)集中。結(jié)果，由于通電后可防止阻抗變化、改善電阻抗的均一性、縮小電場(chǎng)依存性、減小因環(huán)境所造成的阻抗變化、而能夠均一的帶電。于是，就可以防止碳黑的大凝集體所造成的電場(chǎng)集中、絕緣破壞以及針孔漏電(Pinhole leak)等的漏電放電，并且也可以防止碳粉附著。此外，因阻抗變化或阻抗的偏差所造成的帶電不穩(wěn)定或漏電放電所造成的畫質(zhì)缺陷、因環(huán)境變動(dòng)所造成的圖像濃度變動(dòng)會(huì)變小，于是經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間后也可以得到高畫質(zhì)圖像。而且，碳黑并不需要進(jìn)行為了提高分散性的耦合處理或添加絕緣粒子或金屬氧化物等，因此其制造程序變得簡(jiǎn)單。此外，碳黑因?yàn)槭请娮觽鲗?dǎo)，因此不會(huì)像利用離子導(dǎo)電的離子導(dǎo)電性材料(例如含有醚節(jié)段的載體有被污染的傾向)容易受到污染(滲出)的問(wèn)題。于是，不需要特別設(shè)置滲出防止層，同樣的可使制造程序變得容易。
就碳黑而言，酸性的碳黑在表面具有大量的含氧官能基(羧酸基、羥基(例如苯酚羥基)、內(nèi)酯基、醌基等官能基)。一般而言，在碳黑表面的含氧官能基會(huì)給予只由碳所組成的碳黑極性，提升碳黑與基材(黏和劑聚合物)的親和性，而能夠均一的分散。在此，通常認(rèn)為是含有墨水、涂料等溶劑的系統(tǒng)，當(dāng)然以干式的方式進(jìn)行混練分散的情況也可以成立。
碳黑可以利用接觸法來(lái)制造。此種接觸法例如是通道法、天然氣碳黑法等。而且，碳黑也可以使用天然氣或石油為原料，以爐管碳黑(Furnace black)法來(lái)制造。而且，在進(jìn)行上述處理后，可以視實(shí)際需要而利用硝酸等進(jìn)行液相酸處理。此外，雖然碳黑可以使用接觸法來(lái)制造，但是接觸法會(huì)有大氣污染等問(wèn)題，因此現(xiàn)在幾乎不使用此法來(lái)生產(chǎn)碳黑，一般都是使用密閉式的爐管法來(lái)制造。然而，利用爐管法通常無(wú)法制造高pH值低揮發(fā)成分的碳黑，因此可以通過(guò)進(jìn)行上述的液相酸處理來(lái)調(diào)整pH值。因此，將爐管法所得到碳黑，利用后處理工藝調(diào)整pH值以下的碳黑，也視作包含在本發(fā)明中。
就碳黑而言，具體來(lái)說(shuō)包括DEGUSA(デクサ)公司制的“碳黑FW2000”(pH2.5，揮發(fā)分20％)、同“FW2”(pH2.5，揮發(fā)分16.5％)、同“FW2V”(pH2.5，揮發(fā)分20％)、“特別碳黑6”(pH2.5，揮發(fā)分18％)、同“5”(pH3，揮發(fā)分15％)、同“4”(pH3，揮發(fā)分14％)、同“4A”(pH3，揮發(fā)分14％)、“PRINDISC(プリンテックス)150T”(pH4，揮發(fā)分10％)[這是利用與通道法類似的天然氣碳黑法制造的，目前業(yè)界將其從通道碳黑分類出來(lái)]、KAIBOT(キヤボット)公司的“REGAL 400R”(pH4.0，揮發(fā)分3.5％)、同“MONARCH 1000”(pH2.5，揮發(fā)分9.5％)、同“MOGUL(モ-グル)L”(pH2.5，揮發(fā)分4.5％)、三菱化學(xué)公司“3030B”(pH6.5，揮發(fā)分0.5％)。
導(dǎo)電性物質(zhì)可以單獨(dú)使用或者兩種以上組合使用而摻合在基材中，除了作為彈性體層的電阻抗外(表面阻抗率、體積阻抗率)，也需要力學(xué)強(qiáng)度、硬度、反彈彈性率等特性使整個(gè)系統(tǒng)達(dá)到要求，來(lái)?yè)胶蠈?dǎo)電性物質(zhì)。對(duì)于導(dǎo)電性物質(zhì)至基材的摻合量而言，必須要滿足系統(tǒng)全體的要求而適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，相對(duì)于100重量份基材一般較佳是添加5～50重量份。
就離子導(dǎo)電層的基材而言，并沒(méi)有特別的限制，而可以使用公知的材料。特別是在兼作為導(dǎo)電性彈性體層的情況下，其較佳是具有彈性的材料。舉例來(lái)說(shuō)，其包括聚醯亞胺、聚酯、聚乙醚乙醚酮、聚醯胺、聚碳酸酯、聚氟化乙烯叉(PVDF)、聚氟化乙烯-乙烯共聚合物(ETFE)等樹脂材料；聚胺基甲酸乙酯、氯化聚異戊二烯、丙烯腈丁二烯橡膠(NBR)、氯丁二烯樹脂、乙烯丙二烯橡膠(EPDM)、加氫聚丁二烯、丁基橡膠、硅橡膠、丙烯酸橡膠、環(huán)氧氯丙烷橡膠等的彈性材料等。其中，熱可塑性彈性體、熱收縮性(熱硬化)橡膠、發(fā)泡性橡膠、不限上述所舉出的二烯系或非二烯系橡膠等都可以使用。當(dāng)然摻合兩種以上材料的合金(摻合物)也可以使用。
其中，以環(huán)氧氯丙烷橡膠為主體的基材，具有較佳的阻抗均一性與阻抗安定性等的優(yōu)點(diǎn)。而且，“以環(huán)氧氯丙烷橡膠為主體”是指基材的主成分為環(huán)氧氯丙烷橡膠，在基材中成分占有50％以上者包含有“為主體”的概念。
在離子導(dǎo)電層中，除了上述有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)，特定碳黑與上述基材以外，也可以視實(shí)際需要而使用硬化劑、可塑劑、加硫促進(jìn)劑等。而且，在發(fā)泡的情況下，則可以使用適當(dāng)?shù)陌l(fā)泡劑。
離子導(dǎo)電層的厚度以0.8mm以上為佳，1～5mm為較佳，2～5mm為更佳，離子導(dǎo)電層的厚度低于0.8mm時(shí)，離子導(dǎo)電層中的離子成分會(huì)受到施加電壓影響而解離，導(dǎo)致阻抗上升，且?guī)щ婋娢籚h顯著降低的情況。
在離子導(dǎo)電層兼作為導(dǎo)電性彈性體層的情況下，其厚度為了能夠發(fā)揮導(dǎo)電性彈性體的機(jī)能，也希望具有較厚的厚度。具體而言，其厚度并沒(méi)有特別限制，以1～10mm為較佳，2～5mm為更佳，
離子導(dǎo)電層可通過(guò)將上述基材、上述有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)、特定的碳黑與視其它需要而添加的其它物質(zhì)溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲泻?，涂布于芯材或形成于芯材上的?dǎo)電性彈性體層上、將有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)與基材混練復(fù)合化所得到的產(chǎn)物，纏繞壓印在芯材或形成于芯材上的導(dǎo)電性彈性體層上或射出成形等公知的成形法來(lái)制作之。在使用涂布方式形成離子導(dǎo)電層的情況下，為了確保所設(shè)定的厚度，而必需重復(fù)涂布。
—離子導(dǎo)電層與獨(dú)立的導(dǎo)電性彈性體層—在離子導(dǎo)電層不兼作于導(dǎo)電性彈性體層的情況下，在芯材與離子導(dǎo)電層之間，至少要設(shè)置獨(dú)立的導(dǎo)電性彈性體層。
導(dǎo)電性彈性體層是由具有導(dǎo)電性的彈性體所組成，而且其必須要滿足上述的體積阻抗率的規(guī)定。導(dǎo)電性彈性體層只要是具有此種特性的話即可，而沒(méi)有特別限定其材料或組成，通常導(dǎo)電性彈性體層是在為基礎(chǔ)的基材中分散摻合導(dǎo)電劑而形成之。導(dǎo)電性物質(zhì)例如是有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)、碳黑、金屬氧化物等。這里的導(dǎo)電性物質(zhì)可以使用上述離子導(dǎo)電層的項(xiàng)目中所述的材料。
導(dǎo)電性物質(zhì)可以單獨(dú)使用或者兩種以上組合使用而摻合在基材中，除了電阻抗外(表面阻抗率、體積阻抗率)，也需要力學(xué)強(qiáng)度、硬度、反彈彈性率等特性使整個(gè)系統(tǒng)達(dá)到要求來(lái)?yè)胶蠈?dǎo)電性物質(zhì)。對(duì)于導(dǎo)電性物質(zhì)至基材的摻合量而言，必須要滿足上述體積阻抗率的規(guī)定而適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，一般而言，較佳是0.01～200phr(“phr”是指相對(duì)于100重量份基材的重量份數(shù))。
導(dǎo)電性彈性體層所使用的基材可以直接使用上述離子導(dǎo)電層的項(xiàng)目中所述的材料。導(dǎo)電性彈性體層也可以視實(shí)際需要而使用硬化劑、可塑劑、加硫促進(jìn)劑等。而且，在發(fā)泡的情況下，則可以使用適當(dāng)?shù)陌l(fā)泡劑。導(dǎo)電性彈性體層的厚度并沒(méi)有特別的限定，其以1～10mm為較佳，2～5mm為更佳。
導(dǎo)電性彈性體層可通過(guò)將基材、上述導(dǎo)電劑與視其它需要而添加的其它物質(zhì)溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲泻?，涂布于芯材上、將?dǎo)電性物質(zhì)與基材混練復(fù)合化所得到的產(chǎn)物，纏繞壓印在芯材上或射出成形等公知的成形法來(lái)制作之。在使用涂布方式形成導(dǎo)電性彈性體層的情況下，為了確保所設(shè)定的厚度，而必需重復(fù)涂布。
—表面層—表面層是為了調(diào)整阻抗、阻擋來(lái)自彈性層或離子導(dǎo)電層的滲出、避免污染而使用的一層物質(zhì)，表面層是在為基礎(chǔ)的基材中分散導(dǎo)電劑而形成之。在表面層中含有作為導(dǎo)電性物質(zhì)的碳黑，當(dāng)然也可以與其它導(dǎo)電性物質(zhì)(有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)或金屬氧化物)合并使用。作為導(dǎo)電性物質(zhì)的有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)導(dǎo)電劑、碳黑與金屬氧化物可以使用上述離子導(dǎo)電層的項(xiàng)目中所述的相同材料，且較佳為pH值為6.0以下的材料。
導(dǎo)電性物質(zhì)可以單獨(dú)使用或者兩種以上組合使用而摻合在基材中，除了電阻抗外(表面阻抗率、體積阻抗率)，也需要力學(xué)強(qiáng)度、硬度、反彈彈性率等特性使整個(gè)系統(tǒng)達(dá)到要求來(lái)?yè)胶蠈?dǎo)電性物質(zhì)。對(duì)于導(dǎo)電性物質(zhì)至基材的摻合量而言，一般較佳是0.01～200phr「phr」是指相對(duì)于100重量份基材的重量份數(shù))。
表面層所使用的基材可以使用上述離子導(dǎo)電層或?qū)щ娦詮椥泽w層的項(xiàng)目中所述的相同材料，當(dāng)然從膜強(qiáng)度與滲出的觀點(diǎn)來(lái)看，表面層中較佳是使用由脂肪族聚酯樹脂與蜜胺樹脂經(jīng)架橋反應(yīng)而得到的熱硬化性樹脂。
就脂肪族聚酯樹脂與蜜胺樹脂的混合比率而言，對(duì)于脂肪族聚酯樹脂100重量份，蜜胺樹脂較佳為30～70重量份，更佳為40～60重量份。如果蜜胺樹脂未滿30重量份則殘留的未架橋部分會(huì)使得到的表面層具有黏著性，在表面層與感光體之間會(huì)容易產(chǎn)生皺折，蜜胺樹脂超過(guò)70重量份則架橋度高會(huì)使得到的表面層易脆、變硬而容易產(chǎn)生裂痕，因此兩者都不好。
在表面層的基材中使用上述熱硬化性樹脂之情況下，從避免碳粉附著等污染與阻抗環(huán)境安定性的觀點(diǎn)來(lái)看，則希望表面層中更含有氟系高分子化合物及/或硅系高分子化合物。從耐久性、表面特性的觀點(diǎn)來(lái)看，氟系高分子化合物及/或硅系高分子化合物希望含有粒子徑15μm以下的微粒子。此微粒子的粒子徑較佳為在0.1～5μm的范圍內(nèi)。
氟系高分子化合物及/或硅系高分子化合物的含有量，對(duì)于上述熱硬化性樹脂100重量份，較佳是在5～100重量份的范圍內(nèi)，更佳為在20～60重量份的范圍內(nèi)。如果氟系高分子化合物及/或硅系高分子化合物的含有量低于5重量份則沒(méi)有效果，其含量超過(guò)100重量份時(shí)，加工性明顯降低，而且膜會(huì)變脆，增加含量后也會(huì)沒(méi)有防止碳粉附著的效果。再者，由于成本變高也不好。
表面層可通過(guò)將上述基材、上述導(dǎo)電劑與視其它需要而添加的其它物質(zhì)溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲泻螅坎加谛静纳?、將?dǎo)電性物質(zhì)與基材混練復(fù)合化所得到的產(chǎn)物，纏繞壓印在芯材上或射出成形等公知的成形法來(lái)制作之。在使用涂布方式形成導(dǎo)電性彈性體層的情況下，為了確保所設(shè)定的厚度，而必需重復(fù)涂布。而且，在使用熱硬化性樹脂作為基材的情況下，在涂布或成形之后，較佳是在充分的溫度下加熱硬化。
本發(fā)明的帶電構(gòu)件的再生方法中，作為對(duì)象物而得到的其它帶電構(gòu)件如下所示。
在芯材上依序堆棧含有SBR(苯乙烯丁二烯橡膠)、可塑劑與碳黑的彈性層，含有ECO(環(huán)氧氯丙烷樹脂)與離子導(dǎo)電劑的阻抗層，含有PA(聚醯胺)、碳黑與SnO2的表面層所得到的帶電構(gòu)件。
在芯材上依序堆棧含有EPDM(乙烯-丙二烯共聚合橡膠)與碳黑的彈性層，含有ECO(環(huán)氧氯丙烷樹脂)與離子導(dǎo)電劑的阻抗層，含有PA(聚醯胺)、碳黑與SnO2的表面層所得到的帶電構(gòu)件。
在芯材上依序堆棧含有EPDM(乙烯-丙二烯共聚合橡膠)與碳黑的彈性層，含有NBR(丙烯腈-丁二烯共聚合橡膠)、碳黑與離子導(dǎo)電劑的阻抗層，含有丙烯酸系樹脂的表面層所得到的帶電構(gòu)件。
在芯材上依序堆棧含有BR(丁二烯橡膠)、IR(聚異戊二烯橡膠)、可塑劑與碳黑的彈性層，含有胺基甲酸乙酯、碳黑與導(dǎo)電劑的阻抗層，移動(dòng)防止層，含有PA(聚醯胺)、碳黑與SnO2的表面層所得到的帶電構(gòu)件。
在芯材上依序堆棧含有胺基甲酸乙酯與碳黑的彈性層，含有胺基甲酸乙酯、碳黑與SnO2的阻抗層(表面層)所得到的帶電構(gòu)件。
在芯材上依序堆棧含有胺基甲酸乙酯與碳黑的彈性層，含有丙烯橡膠與碳黑的阻抗層，含有氯化乙烯叉PTEF(聚四氟乙烯)的混合物與熱可塑性聚酯(PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)、PBT(聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯))的表面層所得到的帶電構(gòu)件。
在芯材上依序堆棧含有硅樹脂與碳黑的彈性層，含有PA(聚醯胺)、碳黑、Mg與SnO2的表面層所得到的帶電構(gòu)件。
在芯材上依序堆棧含有EPDM(乙烯-丙二烯共聚合橡膠)與碳黑的彈性層，含有熱可塑性聚胺基甲酸乙酯、碳黑與SnO2的表面層所得到的帶電構(gòu)件。
在芯材上依序堆棧含有ECO(環(huán)氧氯丙烷樹脂)、碳黑與離子導(dǎo)電劑的彈性層，含有聚胺基甲酸乙酯的表面層所得到的帶電構(gòu)件。
在芯材上依序堆棧含有SBR(苯乙烯丁二烯橡膠)與碳黑的彈性層，含有PA(聚醯胺)與碳黑的阻檔層，含有含有ECO(環(huán)氧氯丙烷樹脂)與離子導(dǎo)電劑的彈性層阻抗層，含有尼龍的表面層所得到的帶電構(gòu)件。
上述說(shuō)明的帶電構(gòu)件，可作為本發(fā)明帶電構(gòu)件的再生方法的處理段巷，但是對(duì)于較適當(dāng)?shù)膸щ姌?gòu)件在此并沒(méi)有特別的限定。
利用上述說(shuō)明的本發(fā)明帶電構(gòu)件的再生方法所再生的帶電構(gòu)件可以適用于作為復(fù)印機(jī)、激光打印機(jī)、無(wú)線電傳真機(jī)如此的復(fù)合OA機(jī)器等的電子照相式圖像形成裝置中接觸式帶電方式的帶電器的帶電構(gòu)件而再次使用。
利用本發(fā)明的帶電構(gòu)件的再生方法所再生的帶電構(gòu)件被再次使用的電子照相式圖像形成裝置，使用圖式以詳細(xì)說(shuō)明之。圖9所繪示為適用本發(fā)明的帶電構(gòu)件的電子照相式圖像形成裝置的一實(shí)例的模式剖面圖。圖9所示的電子照相式圖像形成裝置具有電子照相感光體10、使電子照相感光體10表面帶電，且由本發(fā)明的帶電構(gòu)件所組成的帶電器11、于帶電器11中施加電壓的電源12、于電子照相感光體10表面形成潛像的圖像輸入器13、利用碳粉使形成于電子照相感光體10表面的潛像顯像而得到碳粉圖像的顯像器14、將形成的碳粉圖像轉(zhuǎn)寫在被轉(zhuǎn)寫體20表面的轉(zhuǎn)寫器15、除去電子照相式感光體10表面的殘留碳粉等的清潔器16、除去電子照相式感光體10表面殘存電位的除電器17、利用熱及/或壓力等使轉(zhuǎn)寫至被轉(zhuǎn)寫體20上的碳粉圖像固定的固定器18。
由帶電構(gòu)件組成的帶電體11利用電源12所供應(yīng)的電壓而動(dòng)作，使感光體表面帶電。其它構(gòu)件如圖像輸入器13、顯像器14、轉(zhuǎn)寫器15、清潔器16、除電器17、固定器18等，在本發(fā)明中并沒(méi)有特別的限制，而直接使用電子照相領(lǐng)域中公知的裝置。而且，除電器17也不是一定要設(shè)置的。
接著，說(shuō)明圖9的電子照相式圖像形成裝置的動(dòng)作。首先利用帶電器11使電子照相感光體10表面均一的帶電，并利用圖像輸入器13于電子照相感光體10表面形成潛像。電子照相感光體10表面所形成的潛像，利用顯像器14內(nèi)藏的碳粉顯像而形成碳粉圖像。接著，在電子照相感光體10表面形成的碳粉圖像被轉(zhuǎn)寫在插入通過(guò)電子照相感光體10與設(shè)置于電子照相感光體10相對(duì)側(cè)的轉(zhuǎn)寫器15之間的被轉(zhuǎn)寫體20表面，然后利用固定器18的熱及/或壓力等使轉(zhuǎn)寫至被轉(zhuǎn)寫體20上的碳粉圖像固定。另一方面，轉(zhuǎn)寫后的電子照相感光體10表面殘留的碳粉可利用清潔器16除去之。然后在進(jìn)行下一圖像循環(huán)之前，電子照相感光體10表面的殘留電位可以利用除電器17除去之。
以下，列舉實(shí)施例以具體說(shuō)明本發(fā)明。但是，各實(shí)施例并不是用以限制本發(fā)明。
<實(shí)施例1>
作為對(duì)象的帶電滾筒，使用富士全錄(XEROX，ゼロックス)株式會(huì)社制造的激光復(fù)印機(jī)(產(chǎn)品名稱Able 1320)中使用的顯影筒用帶電滾筒，進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。
(帶電滾筒)準(zhǔn)備長(zhǎng)度331mm、8mmФ的不銹鋼制芯材。在此芯材上通過(guò)苯酚系導(dǎo)電性接著劑(“U-20”東洋化學(xué)研究所制)而依序形成下述表1所示組成與膜厚的兼作為導(dǎo)電性彈性體層的離子導(dǎo)電層與表面層，以制造出帶電滾筒。其中，離子導(dǎo)電層所使用的碳黑(三菱化學(xué)公司制，3030B)的DBP吸油量為130ml/100g。
表1

TT二硫化四甲基秋藍(lán)姆DM二硫化二苯并噻唑碳黑(離子導(dǎo)電層)三菱化學(xué)“3030B”四級(jí)銨鹽氯化芐基三乙基銨蜜胺樹脂Dic“SUPER-BEKAMIN(ス-パ-ベッカミン)G821-60”聚酯樹脂東洋紡織“拜綸30SS”氟素樹脂DAIKIN(ダィキン)“LBURON(ルブロン)L-2”碳黑(表面層)DEGUSA(デグサ)“FW2000”而且，上述帶電滾筒中的離子導(dǎo)電層與表面層是形成下述的規(guī)格。
—離子導(dǎo)電層—將上述表1中所記載的離子導(dǎo)電層形成用材料置于開放滾筒(Open Roller)中混練，并使用印壓成形機(jī)而可得到15mmФ的滾筒，之后將其研磨成14mmФ的規(guī)格。
—表面層—將上述表1中所記載的表面層形成用材料置于DAIN(ダィノ)研磨機(jī)中均勻的分散而制作出表面層形成溶液。將形成離子導(dǎo)電層的滾筒浸漬、涂布所得到的表面層形成溶液，并在160℃/30分下加熱燒成，而得到表1所示厚度的表面層。
(實(shí)驗(yàn))以上述帶電滾筒形成23500幅圖像后，從上述復(fù)印機(jī)的顯像筒中取出，并制作成測(cè)試用樣品。使用此樣品根據(jù)表2測(cè)量進(jìn)行各種處理后(洗凈處理或加熱處理)的電阻抗值。以每三個(gè)帶電滾筒進(jìn)行各實(shí)驗(yàn)，結(jié)果如表2所示。表2的結(jié)果繪示在圖1中。阻抗平均值的范圍為4.5～5.6(LogΩcm)。而且在圖1中，選擇從市場(chǎng)回收的帶電滾筒(與上述同樣的組成)10個(gè)，并顯示其回收時(shí)與水洗凈后的電阻抗值做為參考值。
圖2所示為根據(jù)此結(jié)果的阻抗變化率與預(yù)測(cè)阻抗產(chǎn)率的關(guān)系圖。阻抗變化率為對(duì)上述3個(gè)帶電滾筒進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)中，由各處理后的阻抗平均值除處理前的阻抗平均值來(lái)算出，然后再以N＝3平均求出之值。預(yù)測(cè)阻抗產(chǎn)率是對(duì)市場(chǎng)回收品進(jìn)行水洗凈后的阻抗平均值各自除各處理的阻抗變化率再平均后求出之值。對(duì)市場(chǎng)回收品進(jìn)行水洗凈后的阻抗平均值數(shù)據(jù)如表3所示。
在此，加熱處理是將樣品裝入烤箱中進(jìn)行的。
而且洗凈處理是使用各洗凈液，以海綿擦洗后，利用水進(jìn)行洗滌。此外，醇類是使用甲醇，酸液是使用DL-頻果酸的1％水溶液。
電阻抗值之測(cè)定是在23℃、53％RH的測(cè)定環(huán)境中，使帶電滾筒以一定荷重接觸50mm寬的電極滾筒，一邊旋轉(zhuǎn)帶電滾筒一邊對(duì)帶電滾筒的芯材施加100V直流電壓，通過(guò)測(cè)量電流值以進(jìn)行之。
表2


表3

從表2(圖1與圖2)的結(jié)果，如果只進(jìn)行洗凈，無(wú)法降低至所需要的阻抗值，施行加熱處理后可以大幅度降低阻抗值，而能夠再度使用。而且，從阻抗變化率及預(yù)測(cè)阻抗產(chǎn)率來(lái)看，對(duì)使用完的帶電滾筒施加的熱量越多，阻抗變化率及預(yù)測(cè)阻抗產(chǎn)率可得到良好的結(jié)果。
(參考例)將和實(shí)施例1相同的帶電滾筒裝入富士全錄(ゼロックス，XEROX)株式會(huì)社制造的激光復(fù)印機(jī)(產(chǎn)品名稱Able 1320)，形成23500幅圖像后回收之，進(jìn)行下述的實(shí)驗(yàn)。而且各實(shí)驗(yàn)以10個(gè)帶電滾筒進(jìn)行之。
—加熱處理后與水洗凈后的阻抗值—使用后的帶電滾筒回收時(shí)、水洗凈后、加熱處理后(在烤箱中180℃、60分)的各電阻抗值是以與實(shí)施例相同的方法測(cè)定。其結(jié)果如表4所示。而且，表4的結(jié)果如圖3所示。表4

由表4(圖3)的結(jié)果，全部10個(gè)帶電滾筒的阻抗值，經(jīng)由加熱處理可以大幅度的降低。
—加熱處理后與水洗凈后的外徑變化—測(cè)定新品(NEW)、水洗凈后、加熱處理后的帶電滾筒的外徑。各自測(cè)定外徑為D1從帶電滾筒(表面層)的一末端朝向軸方向20mm內(nèi)側(cè)的位置，D2中央部，D3從帶電滾筒(表面層)的另一末端朝向軸方向20mm內(nèi)側(cè)的位置。而且，新品(NEW)的外徑數(shù)據(jù)為另一組制作的樣品的數(shù)據(jù)(參考值)。結(jié)果如表5所示，表5的結(jié)果圖如圖4所示。表5

表5(圖3)的結(jié)果，經(jīng)過(guò)加熱處理會(huì)使外徑收縮0.02mm程度，在實(shí)用標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)，因而可在良好的狀態(tài)下再度使用。
—加熱處理后與水洗凈后之隆起變化—根據(jù)表5的結(jié)果，利用下式計(jì)算出隆起量變化。隆起量＝D2-(D1+D3)。新品(NEW)的外徑數(shù)據(jù)為另一組制作的樣品的數(shù)據(jù)(參考值)。隆起量的范圍為50μm～10μm。其結(jié)果如表6所示。而且表6的結(jié)果如圖5所示。
表6加熱處理后與水洗凈后的隆起量變化 單位μm

表6(圖5)的結(jié)果，經(jīng)過(guò)加熱處理后隆起量幾乎沒(méi)有變化，因而可在良好的狀態(tài)下再度使用。
—加熱處理后與水洗凈后的硬度變化—測(cè)定新品(NEW)、水洗凈后、加熱處理后的帶電滾筒的硬度變化。而且，新品(NEW)的硬度數(shù)據(jù)為另一組制作的樣品的數(shù)據(jù)(參考值)。硬度的范圍為73°～79°。其結(jié)果如表7所示。而且表7的結(jié)果如圖6所示。
其中，硬度的測(cè)定是根據(jù)JIS K-6301標(biāo)準(zhǔn)的ァスカ(ascar)-C，利用ァスカ(ascar)-C型硬度計(jì)(高分子計(jì)器公司制)的壓針接觸帶電構(gòu)件的表面，在荷重1000g的條件下測(cè)定。
表7加熱處理后與水洗凈后的硬度變化 單位

表7(圖6)的結(jié)果，經(jīng)過(guò)加熱處理后的硬度幾乎沒(méi)有變化，因而可在良好的狀態(tài)下再度使用。
—加熱處理后與水洗凈后的表面粗糙度(Rz)變化—測(cè)定新品(NEW)、水洗凈后、加熱處理后的帶電滾筒的表面粗糙度(Rz)變化。而且，新品(NEW)的表面粗糙度(Rz)數(shù)據(jù)為另一組制作的樣品的數(shù)據(jù)(參考值)。表面粗糙度(Rz)的范圍為13μm。其結(jié)果如表8所示。而且表8的結(jié)果如圖7所示。
其中，表面粗糙度(Rz十點(diǎn)平均表面粗糙度)的測(cè)定是在23℃55RH％的環(huán)境下，使用接觸式表面粗糙度測(cè)定裝置(SAFU橡膠(サ-フコム)570A，東京精密公司)，測(cè)定距離為2.5mm，使用尖端為鉆石(5μmR、90°圓錐)的接觸針，改變場(chǎng)所反復(fù)測(cè)定3次后，計(jì)算平均值求出帶電構(gòu)件Rz。
表8加熱處理后與水洗凈后的表面粗糙度變化 單位μm

表8(圖7)的結(jié)果，經(jīng)過(guò)加熱處理后的表面粗糙度幾乎沒(méi)有變化，因而可在良好的狀態(tài)下再度使用。
—加熱處理后與水洗凈后的表面層的碳黑分散狀態(tài)—利用TEM測(cè)定新品(NEW)、市場(chǎng)回收品、水洗凈加熱處理后的使用完畢帶電滾筒的表面層的碳黑分散狀態(tài)。圖8A為新品的帶電滾筒、圖8B為市場(chǎng)回收后的使用完畢帶電滾筒、圖8C為水洗凈加熱處理后的使用完畢帶電滾筒的表面層的碳黑分散狀態(tài)模式圖。
圖8所示，新品的帶電滾筒中，碳黑為均勻的分散，相對(duì)的市場(chǎng)回收使用完畢的帶電滾筒中，碳黑為凝聚在一起。另一方面，水洗凈加熱處理后的帶電滾筒，碳黑再次均勻的分散。因此，此帶電滾筒的碳黑因機(jī)械壓力的影響而凝聚并使帶電能力降低，通過(guò)施行加熱處理可以再回到均一的狀態(tài)，而恢復(fù)其帶電能力。
從參考例可以明白經(jīng)由加熱處理可以使帶電構(gòu)件除了阻抗值以外的其它特性不會(huì)變化，且加熱處理后的帶電滾筒具有良好的狀態(tài)而可以再次使用。
以上，就本發(fā)明提供一種使經(jīng)表面洗凈后阻抗值無(wú)法充分降低而無(wú)法回復(fù)必要的帶電能力的帶電構(gòu)件能夠輕易的再次使用的帶電構(gòu)件的再生方法、帶電構(gòu)件與帶電構(gòu)件的再生裝置。
權(quán)利要求
1.一種帶電構(gòu)件的再生方法，為擠壓一被帶電體表面使該被帶電體帶電的電子照相用帶電構(gòu)件的再生方法，其特征為，包括對(duì)該帶電構(gòu)件進(jìn)行加熱處理的一加熱處理工藝。
2.如權(quán)利要求1所述的帶電構(gòu)件的再生方法，其特征為，該加熱處理工藝的加熱處理溫度為150℃～200℃左右。
3.如權(quán)利要求1所述的帶電構(gòu)件的再生方法，其特征為，該加熱處理工藝的加熱處理時(shí)間為15分鐘～120分鐘左右。
4.如權(quán)利要求1所述的帶電構(gòu)件的再生方法，其特征為，更包括洗凈該帶電構(gòu)件表面的一洗凈工藝。
5.如權(quán)利要求1所述的帶電構(gòu)件的再生方法，其特征為，該帶電構(gòu)件在芯材中至少具有依序堆棧的層壓結(jié)構(gòu)包括包含有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)的一離子導(dǎo)電層與包含碳黑的一表面層。
6.如權(quán)利要求5所述的帶電構(gòu)件的再生方法，其特征為，在該帶電構(gòu)件中，該表面層的基材為由脂肪族聚酯樹脂與蜜胺樹脂進(jìn)行架橋反應(yīng)而得到的熱硬化樹脂。
7.如權(quán)利要求5所述的帶電構(gòu)件的再生方法，其特征為，在該帶電構(gòu)件中，該表面層含有氟系高分子化合物及/或硅系高分子化合物的微粒子。
8.一種帶電構(gòu)件，為一種擠壓一被帶電體表面使該被帶電體帶電的電子照相用帶電構(gòu)件，其特征為，該帶電構(gòu)件是經(jīng)過(guò)加熱處理而再生的。
9.如權(quán)利要求8所述的帶電構(gòu)件，其特征為，處理溫度為150℃～200℃。
10.如權(quán)利要求8所述的帶電構(gòu)件，其特征為，處理時(shí)間為15分鐘～120分鐘。
11.如權(quán)利要求8所述的帶電構(gòu)件，其特征為，該帶電構(gòu)件更包括經(jīng)過(guò)洗凈處理而再生的。
12.如權(quán)利要求8所述的帶電構(gòu)件，其特征為，該帶電構(gòu)件在芯材上至少具有依序堆棧的層壓結(jié)構(gòu)包括包含有機(jī)離子導(dǎo)電性物質(zhì)的一離子導(dǎo)電層與包含碳黑的一表面層。
13.如權(quán)利要求8所述的帶電構(gòu)件，其特征為，在該帶電構(gòu)件中，該表面層的基材為由脂肪族聚酯樹脂與蜜胺樹脂進(jìn)行架橋反應(yīng)而得到的熱硬化樹脂。
14.如權(quán)利要求12所述的帶電構(gòu)件，其特征為，在該帶電構(gòu)件中，該表面層含有氟系高分子化合物及/或硅系高分子化合物的微粒子。
15.一種帶電構(gòu)件的再生裝置，其特征為，具備有可對(duì)帶電構(gòu)件施行加熱處理的一加熱處理裝置。
16.如權(quán)利要求15所述的帶電構(gòu)件的再生裝置中，其特征為，更具備有可對(duì)該帶電構(gòu)件施行洗凈處理的一洗凈處理裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供一種使經(jīng)表面洗凈后阻抗值無(wú)法充分降低而無(wú)法回復(fù)必要的帶電能力的帶電構(gòu)件能夠輕易的再次使用的帶電構(gòu)件的再生方法、帶電構(gòu)件與帶電構(gòu)件的再生裝置。一種擠壓被帶電體表面使上述被帶電體帶電的電子照相用帶電構(gòu)件與帶電構(gòu)件的再生裝置，其特征為，具有對(duì)帶電構(gòu)件進(jìn)行加熱處理的加熱處理工藝。
文檔編號(hào)F16C13/00GK1484087SQ0312123
公開日2004年3月24日 申請(qǐng)日期2003年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月19日
發(fā)明者齋藤新一郎, 室伏利昭, 古賀一成, 成, 昭 申請(qǐng)人:富士全錄株式會(huì)社