本實用新型涉及一種電磁閥，具體涉及一種用于純水機的雙重密封電磁閥。

背景技術：
電磁閥，包括有電磁控制機構、閥體以及隔膜組件，所述閥體上設置有進水流道和出水流道，在進水流道和出水流道銜接處設置有閥座，所述隔膜組件上設置有進水通孔和出水通孔，電磁控制機構的伸縮桿與出水通孔配合實現(xiàn)隔膜組件與閥座之間的關閉和導通配合，所述隔膜組件對應出水通孔位置設置有向閥座方向延伸的延伸柱?，F(xiàn)有的電磁閥，其長期使用后，顆粒雜質容易進入隔膜組件與閥座之間的密封位置，從而影響了隔膜組件與閥座之間的密封效果。

技術實現(xiàn)要素：
針對現(xiàn)有技術存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種結構簡單、有效提高密封性能的雙重密封電磁閥。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了如下技術方案：一種雙重密封電磁閥，包括有電磁控制機構、閥體以及隔膜組件，所述閥體上設置有進水流道和出水流道，在進水流道和出水流道銜接處設置有閥座，所述隔膜組件上設置有進水通孔和出水通孔，電磁控制機構的伸縮桿與出水通孔配合實現(xiàn)隔膜組件與閥座之間的關閉和導通配合，所述隔膜組件對應出水通孔位置設置有向閥座方向延伸的延伸柱，所述延伸柱上套設有與閥座的內孔相配合的密封圈。通過采用本實用新型技術方案，平面密封基礎上疊加軸向密封，電磁閥關閉時，如果有顆粒雜質進入隔膜組件與閥座之間的密封位置，而使得隔膜組件端面密封失效的情況下，密封圈受隔膜組件上下腔壓力差作用，強制進入閥座的內孔，獨立完成軸向密封。因此，同時起雙重密封作用，從而有效提高了密封性能。本實用新型進一步設置：所述閥座的內孔頂部的內壁與閥座的頂端壁通過圓弧壁過渡。通過采用本實用新型技術方案，密封圈能夠沿著圓弧壁更加順利的進入閥座的內孔以實現(xiàn)軸向密封。本實用新型進一步設置：所述延伸柱上設置有對密封圈進行定位的定位凸臺。通過采用本實用新型技術方案，通過定位凸臺對密封圈進定位，提高了穩(wěn)定性。本實用新型進一步設置：所述閥體內設置有向相對電磁控制機構另一側方向凹陷的納污凹腔。通過采用本實用新型技術方案，純水機制水時，電磁閥通電，隔膜組件升程小，主流道半開狀態(tài)，水流量小，水的沖力小，水里的細小顆粒雜質落在納污凹腔；純水機沖洗時，電磁閥通電，膜片升程大，主流道全開狀態(tài)，水流量大，水的沖力大，將納污凹腔里的顆粒雜質沖出。本實用新型進一步設置：所述納污凹腔置于所述進水流道的內側一端，并且所述納污凹腔向所述進水流道相對電磁控制機構另一側方向凹陷。通過采用本實用新型技術方案，純水機制水時，顆粒雜質更加容易堆積在納污凹腔內；而純水機沖洗時，更加容易將納污凹腔里的顆粒雜質沖出。附圖說明圖1為本實用新型實施例的關閉狀態(tài)結構圖；圖2為圖1的A部放大圖；圖3為本實用新型實施例的制水狀態(tài)結構圖；圖4為本實用新型實施例的沖洗狀態(tài)結構圖。具體實施方式參見附圖1-附圖4，本實用新型公開的雙重密封電磁閥，包括有電磁控制機構1、閥體2以及隔膜組件3，優(yōu)選的，隔膜組件3包括膜片301及其支架302，所述閥體2上設置有進水流道201和出水流道202，在進水流道201和出水流道202銜接處設置有閥座203，所述隔膜組件3上設置有進水通孔31和出水通孔32，電磁控制機構1的伸縮桿與出水通孔32配合實現(xiàn)隔膜組件3與閥座203之間的關閉和導通配合，所述隔膜組件3對應出水通孔32位置設置有向閥座203方向延伸的延伸柱33，所述延伸柱33上套設有與閥座203的內孔相配合的密封圈4。通過采用本實用新型技術方案，平面密封基礎上疊加軸向密封，電磁閥關閉時，如果有顆粒雜質進入隔膜組件3與閥座203之間的密封位置，而使得隔膜組件3端面密封失效的情況下，密封圈4受隔膜組件3上下腔壓力差作用，強制進入閥座203的內孔，獨立完成軸向密封。因此，同時起雙重密封作用，從而有效提高了密封性能。本實施例優(yōu)選的，進水通孔31還設置有與其配合的清潔鋼針5，隔膜組件3還設置有助力彈簧6。需要說明的是，電磁控制機構1在現(xiàn)有電磁閥中比較常見，因此本實施例中不再詳細描述。本實施例進一步設置：所述閥座203的內孔頂部的內壁與閥座203的頂端壁通過圓弧壁過渡。通過采用本實用新型技術方案，密封圈4能夠沿著圓弧壁更加順利的進入閥座203的內孔以實現(xiàn)軸向密封。本實施例進一步設置：所述延伸柱33上設置有對密封圈4進行定位的定位凸臺34。通過采用本實用新型技術方案，通過定位凸臺34對密封圈4進定位，提高了穩(wěn)定性。本實施例進一步設置：所述閥體2內設置有向相對電磁控制機構1另一側方向凹陷的納污凹腔204。通過采用本實用新型技術方案，純水機制水時，電磁閥通電，隔膜組件3升程小，主流道半開狀態(tài)，水流量小，水的沖力小，水里的細小顆粒雜質落在納污凹腔204；純水機沖洗時，電磁閥通電，隔膜組件3升程大，主流道全開狀態(tài)，水流量大，水的沖力大，將納污凹腔204里的顆粒雜質沖出。本實用新型的納污凹腔204可以設置在閥體2的不同位置，本實施例優(yōu)選的進一步設置：所述納污凹腔204置于所述進水流道201的內側一端，并且所述納污凹腔204向所述進水流道201相對電磁控制機構1另一側方向凹陷。通過采用本實用新型技術方案，純水機制水時，顆粒雜質更加容易堆積在納污凹腔204內；而純水機沖洗時，更加容易將納污凹腔204里的顆粒雜質沖出。