本技術(shù)屬于設備潤滑降溫，具體公開一種蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置。

背景技術(shù)：

1、蒸汽煅燒爐是純堿生產(chǎn)中用蒸汽間接加熱使物料發(fā)生分解反應的一類滾筒式反應設備，由爐體、進堿、出堿、加熱及傳動裝置等部分組成，爐體為一由鋼板卷焊而成的圓筒，爐體前后有兩個滾圈，架在兩個托輪上，爐體向后傾斜1.5%一2%。爐尾滾圈附近裝有齒輪圈，由電動機通過減速器、浮動聯(lián)軸器、齒輪圈帶動爐體回轉(zhuǎn)。進堿、出堿部分均采用螺旋輸送機。重堿(碳酸氫鈉)和返堿由加料器加人爐內(nèi)，隨爐體的轉(zhuǎn)動被加熱管內(nèi)蒸汽間接加熱，重堿分解成純堿，生成的純堿由螺旋輸送機卸出，一部分作為返堿返回爐內(nèi)。

2、托輪在蒸汽煅燒爐的所有配件匯總中起到支撐作用，在托輪運行的過程中，良好的潤滑是保證蒸汽煅燒爐安全運行關鍵，由于托輪的運行具有高負載、連續(xù)運轉(zhuǎn)、高溫環(huán)境的特點，托輪表面易出現(xiàn)麻點，即點蝕現(xiàn)象，當點蝕面積較小時，對蒸汽煅燒爐的運行尚無大的妨礙，若發(fā)展下去，即會出現(xiàn)掉渣掉塊、裂紋、嚴重磨損不均、多邊形或小波紋等現(xiàn)象，引起蒸汽煅燒爐支承振動、不能維持蒸汽煅燒爐的正常運行，為了解決這個問題，一般都會采用潤滑劑和一些降溫措施對其進行保護，在進行潤滑時一般需要將裝置停止或者拆卸下來進行潤滑保護，但由于托輪與輪帶的造價較高，更換不易，如需更換，需要使得整體裝置停止運行，影響生產(chǎn)進度，針對上述問題，我們提出一種蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為了解決背景技術(shù)中問題，本實用新型公開一種蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，冷卻單元為石墨塊降溫，推塊組件保證石墨塊與托輪可靠接觸形成石墨粉潤滑膜，減少托輪的維保次數(shù)，降低蒸汽煅燒爐的維護成本。

2、為解決上述技術(shù)問題，本實用新型所采用的技術(shù)方案是：

3、一種蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，包括上下間隔設置的頂板和底板，在頂板和底板間設置有若干立梁，所述立梁分別設置在頂板和底板的左右兩側(cè)，在同側(cè)的立梁之間設有水平設置的橫梁，頂板、底板和橫梁共同圍成的空間用于容納石墨塊，在頂板和底板內(nèi)分別設置有冷卻單元，所述冷卻單元用于為石墨塊降溫，在頂板和底板之間設有推塊組件，推塊組件包括與石墨塊后端面抵緊接觸的推塊，所述推塊與橫梁滑動連接，在驅(qū)動機構(gòu)作用下，推塊能夠推動石墨塊沿底板的軸向向前移動。

4、進一步地，所述蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，所述推塊是十字形板，在推塊靠近石墨塊的一側(cè)設置有壓力傳感器，在推塊兩端底部分別設置有滑塊，在橫梁頂部分別設有與對應滑塊匹配設置的導軌，所述導軌沿底板的軸向延伸，在橫梁的后端分別設置有伸縮桿，所述伸縮桿的末端與對應的滑塊連接，壓力傳感器的信息輸出端與控制器的信息輸入端連接，控制器的信息輸出端與伸縮桿的控制端連接。

5、進一步地，所述蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，冷卻單元包括嵌設在頂板和底板朝中的散熱片、半導體制冷片和散熱扇，所述散熱片嵌設在頂板和底板靠近石墨塊的一側(cè)，所述半導體制冷片的制冷面朝向散熱片，半導體制冷片的制熱面朝向散熱扇，所述頂板和底板上與散熱扇對應的位置分別設置有通風口，所述控制器的信息輸出端分別與半導體制冷片及散熱扇的控制端連接。

6、進一步地，所述蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，在頂板和底板內(nèi)至少前后間隔設置有兩個冷卻單元，兩個冷卻單元中的半導體制冷片及散熱扇的控制端分別與控制器的信息輸出端連接。

7、進一步地，所述蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，在所述立梁的上端分別上下間隔設置有若干安裝孔，頂板和立梁之間及底板和立梁之間分別通過穿設在所述安裝孔中的鎖緊螺栓可拆卸連接。

8、進一步地，所述蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，頂板和底板分別是u行結(jié)構(gòu)，且頂板和底板的開口相對設置。

9、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果如下：

10、本實用新型公開的蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，包括上下間隔設置的頂板和底板，在頂板和底板間設置有若干立梁，所述立梁分別設置在頂板和底板的左右兩側(cè)，在同側(cè)的立梁之間設有水平設置的橫梁，頂板、底板和橫梁共同圍成的空間用于容納石墨塊，在頂板和底板內(nèi)分別設置有冷卻單元，所述冷卻單元能夠為石墨塊降溫，在頂板和底板之間設有推塊組件，推塊組件包括與石墨塊后端面抵緊接觸的推塊，推塊與橫梁滑動連接，在驅(qū)動機構(gòu)作用下，推塊能夠推動石墨塊沿底板的軸向向前移動，推塊組件保證石墨塊與托輪可靠接觸形成石墨粉潤滑膜，減少托輪的維保次數(shù)，降低蒸汽煅燒爐的維護成本；

11、本實用新型公開的蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，在推塊靠近石墨塊的一側(cè)設置有壓力傳感器，壓力傳感器檢測壓力數(shù)據(jù)并將檢測到的壓力數(shù)據(jù)傳送給控制器，控制器根據(jù)壓力傳感器檢測到壓力數(shù)據(jù)控制伸縮桿的伸縮量，使推塊始終抵緊石墨塊，保證石墨塊與托輪可靠接觸。

技術(shù)特征：

1.一種蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，其特征在于：包括上下間隔設置的頂板和底板，在頂板和底板間設置有若干立梁，所述立梁分別設置在頂板和底板的左右兩側(cè)，在同側(cè)的立梁之間設有水平設置的橫梁，頂板、底板和橫梁共同圍成的空間用于容納石墨塊，在頂板和底板內(nèi)分別設置有冷卻單元，所述冷卻單元用于為石墨塊降溫，在頂板和底板之間設有推塊組件，推塊組件包括與石墨塊后端面抵緊接觸的推塊，推塊與橫梁滑動連接，在驅(qū)動機構(gòu)作用下，所述推塊能夠推動石墨塊沿底板的軸向向前移動。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，其特征在于：所述推塊是十字形板，在推塊靠近石墨塊的一側(cè)設置有壓力傳感器，在推塊兩端底部分別設置有滑塊，在橫梁頂部分別設有與對應滑塊匹配設置的導軌，所述導軌沿底板的軸向延伸，在橫梁的后端分別設置有伸縮桿，所述伸縮桿的末端與對應的滑塊連接，壓力傳感器的信息輸出端與控制器的信息輸入端連接，控制器的信息輸出端與伸縮桿的控制端連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，其特征在于：所述冷卻單元包括嵌設在頂板和底板朝中的散熱片、半導體制冷片和散熱扇，所述散熱片嵌設在頂板和底板靠近石墨塊的一側(cè)，所述半導體制冷片的制冷面朝向散熱片，半導體制冷片的制熱面朝向散熱扇，在頂板和底板上與所述散熱扇對應的位置分別設置有通風口，所述控制器的信息輸出端分別與半導體制冷片及散熱扇的控制端連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，其特征在于：在頂板和底板內(nèi)至少前后間隔設置有兩個冷卻單元，兩個冷卻單元中的半導體制冷片及散熱扇的控制端分別與控制器的信息輸出端連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，其特征在于：在所述立梁的上端分別上下間隔設置有若干安裝孔，頂板和立梁之間及底板和立梁之間分別通過穿設在所述安裝孔中的鎖緊螺栓可拆卸連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，其特征在于：頂板和底板分別是u行結(jié)構(gòu)，且頂板和底板的開口相對設置。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)屬于潤滑技術(shù)領域，具體公開一種蒸汽煅燒爐托輪潤滑降溫裝置，頂板、底板和橫梁共同圍成的空間用于容納石墨塊，在頂板和底板內(nèi)分別設置有冷卻單元，所述冷卻單元能夠為石墨塊降溫，在頂板和底板之間設有推塊組件，推塊組件包括與石墨塊后端面抵緊接觸的推塊，推塊與橫梁滑動連接，在驅(qū)動機構(gòu)作用下，推塊能夠推動石墨塊沿底板的軸向向前移動，推塊組件保證石墨塊與托輪可靠接觸形成石墨粉潤滑膜，減少托輪的維保次數(shù)，降低蒸汽煅燒爐的維護成本。

技術(shù)研發(fā)人員：尚海洋,趙源泉,李清波,董文林
受保護的技術(shù)使用者：河南金大地化工有限責任公司
技術(shù)研發(fā)日：20240326
技術(shù)公布日：2024/12/19