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      支撐架的制作方法_3

      文檔序號(hào):9724914閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
      第一抵接面111未抵壓第二表面21及第二抵壓塊210之第二抵接面211未抵壓于第二表面21時(shí),第一抵接面111與第一表面11之距離D4及第二抵接面211與第二表面21之距離D5系相等且均大于第一表面11與第二表面21之距離D6。通過(guò)例如將第二架體20以樞轉(zhuǎn)方向T相對(duì)第一架體10樞轉(zhuǎn),即可使得第一抵壓塊110之第一抵接面111抵壓于第二表面21及第二抵壓塊210之第二抵接面211抵壓于第一表面11以產(chǎn)生靜摩擦力。故,類似于前述實(shí)施例的使用方式,當(dāng)施加于第二架體20的外力未使第二架體20未克服第一抵壓塊110抵壓于第二表面21與第二抵壓塊210抵壓于第一表面11所產(chǎn)生的靜摩擦力時(shí),受力推抵的第二架體20得以帶動(dòng)第一架體10相對(duì)于電子裝置9轉(zhuǎn)動(dòng),即第二架體20與第一架體10可相對(duì)電子裝置9同步轉(zhuǎn)動(dòng)。但當(dāng)外力克服第一抵壓塊110抵壓于第二表面21與第二抵壓塊210抵壓于第一表面11所產(chǎn)生的靜摩擦力時(shí),則可令第二架體20相對(duì)第一架體10轉(zhuǎn)動(dòng)。
      [0064]接著,又例如圖9A?9B,圖9A系根據(jù)本發(fā)明之第三實(shí)施例之支撐架的第一抵壓塊未抵壓于第二架體的局部放大示意圖,而圖9B系根據(jù)本發(fā)明之第三實(shí)施例之支撐架的第一抵壓塊抵壓于第二架體的局部放大示意圖。如圖所示,系以其中一組相樞接的第一架體10與第二架體20為例。在本實(shí)施例中,每一第一架體10之第一表面11上僅設(shè)置一第一抵壓塊110,但第二架體20上并沒(méi)有設(shè)置任何抵壓塊。在此情況下,第一抵壓塊110之第一抵接面111系可滑動(dòng)地抵壓于第二表面21,且在第一抵壓塊110之第一抵接面111未抵壓于第二表面21時(shí),第一抵接面111與第一表面11之距離D7系大于第一表面11與第二表面21之距離D8。通過(guò)例如將第二架體20以樞轉(zhuǎn)方向T相對(duì)第一架體10樞轉(zhuǎn),即可使得第一抵壓塊110之第一抵接面111抵壓于第二表面21以產(chǎn)生靜摩擦力。故,類似于前述實(shí)施例的使用方式,當(dāng)施加于第二架體20之外力未使第二架體20克服第一抵壓塊110之第一抵接面111與第二表面21之間所產(chǎn)生的靜摩擦力時(shí),第二架體20與第一架體10得以相對(duì)于電子裝置9同步轉(zhuǎn)動(dòng)。但當(dāng)外力克服第一抵壓塊110之第一抵接面111抵壓于第二表面21所產(chǎn)生的靜摩擦力時(shí),則可令第二架體20相對(duì)第一架體10轉(zhuǎn)動(dòng)。
      [0065]因此,可理解的是,本發(fā)明并非受限于第一抵壓塊110所設(shè)置的位置。例如,于其他實(shí)施例中,第一抵壓塊110可設(shè)置于第二架體20之第二表面21。
      [0066]綜上所述,本發(fā)明的支撐架,通過(guò)第一架體與第二架體之間設(shè)置抵壓塊的設(shè)計(jì),可在第一架體與第二架體之間產(chǎn)生靜摩擦力,以讓支撐架在合理的樞轉(zhuǎn)范圍內(nèi)正常使用,但在支撐架相對(duì)于電子裝置樞轉(zhuǎn)至最大角度或受過(guò)大外力抵壓時(shí)得以令第二架體與第一架體相對(duì)樞轉(zhuǎn),以避免造成支撐架彎曲變形的情形發(fā)生。此外,也可降低手指不慎被支撐架夾傷的機(jī)率。
      [0067]雖然本發(fā)明以前述之實(shí)施例揭露如上,然其并非用以限定本發(fā)明。在不脫離本發(fā)明之精神和范圍內(nèi),所為之更動(dòng)與潤(rùn)飾,均屬本發(fā)明之專利保護(hù)范圍。關(guān)于本發(fā)明所界定之保護(hù)范圍請(qǐng)參考所附之申請(qǐng)專利范圍。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種支撐架,用以支撐一電子裝置,該支架包括: 至少一第一架體,具有一第一表面,該第一架體用以樞接于該電子裝置; 至少一第二架體,具有一第二表面,該第二表面面向該第一表面,該第二架體樞接于該第一架體; 至少一第一抵壓塊,設(shè)置于該第一表面; 至少一第二抵壓塊,設(shè)置于該第二表面,該至少一第一抵壓塊可脫離地抵壓于該至少一第二抵壓塊; 當(dāng)該至少一第一抵壓塊抵壓于該至少一第二抵壓塊,該至少一第二架體與該至少一第一架體彼此固定; 當(dāng)該至少一第一抵壓塊相對(duì)該至少一第二抵壓塊滑移,該至少一第二架體相對(duì)該至少一第一架體轉(zhuǎn)動(dòng)。2.如權(quán)利要求1所述之支撐架,其中該至少一第一抵壓塊與該至少一第二抵壓塊的數(shù)量均為二個(gè)。3.如權(quán)利要求1所述之支撐架,其中該至少一第一抵壓塊具有一第一抵接面,該至少一第二抵壓塊具有一第二抵接面,該第一抵接面可滑移地抵壓于該第二抵接面,當(dāng)該第一抵接面未抵壓于該第二抵接面時(shí),該第一抵接面與該第一表面之距離及該第二抵接面與該第二表面之距離的總和大于該第一表面與該第二表面之距離。4.如權(quán)利要求3所述之支撐架,其中該至少一第一抵壓塊具有連接于該第一抵接面的相對(duì)兩側(cè)的二第一導(dǎo)引斜面,該至少一第二抵壓塊具有連接于該第二抵接面的相對(duì)兩側(cè)的二第二導(dǎo)引斜面,其中一該第一導(dǎo)引斜面可滑移地抵壓于其中一該第二導(dǎo)引斜面,使得該至少一第一抵壓塊之該第一抵接面得以抵壓于該至少一第二抵壓塊之該第二抵接面。5.如權(quán)利要求1所述之支撐架,更包括至少一樞軸,該至少一第二架體經(jīng)由該至少一樞軸樞接于該至少一第一架體,該至少一樞軸位于該二第一抵壓塊之間。6.如權(quán)利要求1所述之支撐架,其中該至少一第一抵壓塊與該至少一第一架體為一體成型,該至少一第二抵壓塊與該至少一第二架體為一體成型。7.一種支撐架,用以支撐一電子裝置,該支架包括: 至少一第一架體,具有一第一表面,該第一架體用以樞接于該電子裝置; 至少一第二架體,具有一第二表面,該第二表面面向該第一表面,該第二架體樞接于該第一架體; 至少一第一抵壓塊,固定于該第一表面與該第二表面之一,并可滑動(dòng)地抵壓于該第一表面與該第二表面之另一,以令該至少一第二架體與該至少一第一架體得以相對(duì)該電子裝置同步轉(zhuǎn)動(dòng); 當(dāng)一外力施加于該支撐架及該電子裝置之一者,且該外力克服該至少一第一抵壓塊抵壓于該第二表面之靜摩擦力時(shí),該至少一第二架體相對(duì)該至少一第一架體轉(zhuǎn)動(dòng)。8.如權(quán)利要求7所述之支撐架,其中該至少一第一抵壓塊固定于該第一表面,該至少一第一抵壓塊具有一第一抵接面可滑動(dòng)地抵壓于該第二表面,當(dāng)該第一抵接面未抵壓于該第二表面時(shí),該第一抵接面與該第一表面之距離大于該第一表面與該第二表面之距離。9.如權(quán)利要求7所述之支撐架,更包括至少一第二抵壓塊,固定于該第二表面,并可滑動(dòng)地抵壓于該第一表面,該至少一第一抵壓塊固定于該第一表面,并可滑動(dòng)地抵壓于該第二表面,以令該至少一第二架體與該至少一第一架體得以相對(duì)于該電子裝置同步轉(zhuǎn)動(dòng),當(dāng)該外力施加于該至少一第二架體,且該外力克服該至少一第一抵壓塊抵壓于該第二表面與該至少一第二抵壓塊抵壓于該第一表面之靜摩擦力時(shí),該外力可令該至少一第二架體相對(duì)該至少一第一架體轉(zhuǎn)動(dòng)。10.如權(quán)利要求9所述之支撐架,其中該至少一第一抵壓塊具有一第一抵接面可滑動(dòng)地抵壓于該第二表面,該至少一第二抵壓塊具有一第二抵接面可滑動(dòng)地抵壓于該第一表面,當(dāng)該第一抵接面未抵壓于該第二表面且該第二抵接面未抵壓于該第一表面時(shí),該第一抵接面與該第一表面之距離及該第二抵接面與該第二表面之距離相等且均大于該第一表面與該第二表面之距離。
      【專利摘要】一種支撐架,用以支撐一電子裝置。支架包括至少一第一架體、至少一第二架體、至少一第一抵壓塊及至少一第二抵壓塊。至少一第一架體具有一第一表面。第一架體用以樞接于電子裝置。至少一第二架體具有一第二表面。第二表面面向第一表面。第二架體樞接于第一架體。至少一第一抵壓塊設(shè)置于第一表面。至少一第二抵壓塊設(shè)置于第二表面。第一抵壓塊可脫離地抵壓于第二抵壓塊。當(dāng)?shù)谝坏謮簤K抵壓于第二抵壓塊,第二架體與第一架體彼此固定。當(dāng)?shù)谝坏謮簤K相對(duì)第二抵壓塊滑移,第二架體相對(duì)第一架體轉(zhuǎn)動(dòng)。
      【IPC分類】F16M13/00
      【公開(kāi)號(hào)】CN105485491
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510816144
      【發(fā)明人】朱斌璋, 莊金瑞, 王寶隆
      【申請(qǐng)人】英業(yè)達(dá)科技有限公司, 英業(yè)達(dá)股份有限公司
      【公開(kāi)日】2016年4月13日
      【申請(qǐng)日】2015年11月20日
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