一種密封可靠的主端頭的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種主端頭,具體是一種密封可靠的主端頭。
【背景技術(shù)】
[0002]安裝在減速馬達(dá)輸出軸上的同步帶輪,通過同步帶將動(dòng)力傳遞驅(qū)動(dòng)軸,帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)陰極轉(zhuǎn)動(dòng)。真空密封架與殼體之間屬靜密封,很少發(fā)生漏氣;真空密封架內(nèi)骨架油封與驅(qū)動(dòng)軸結(jié)合面的密封為動(dòng)密封,由于驅(qū)動(dòng)軸不斷旋轉(zhuǎn),骨架油封內(nèi)唇很易磨損,因而引起漏氣。從某種意義上講,骨架油封與驅(qū)動(dòng)軸結(jié)合面的密封效果好壞是主端頭能否使用的關(guān)鍵。很多骨架油封由于質(zhì)量不過關(guān),使用壽命不足半年,頻繁的返修不僅影響客戶生產(chǎn),而且加大了維修工作量。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種密封可靠的主端頭,以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0005]一種密封可靠的主端頭,包括殼體,所述殼體上端設(shè)有連接銅板,連接銅板為帶電體,連接銅板上方固定設(shè)有水電輸入組件;連接銅板上方設(shè)有鋁基座,鋁基座與連接銅板之間設(shè)有絕緣墊。殼體內(nèi)部設(shè)有真空密封架,殼體與真空密封架之間為靜密封,殼體內(nèi)部左側(cè)上端設(shè)有水密封架;殼體左端設(shè)有磁性軸法蘭,磁性軸法蘭右側(cè)設(shè)有驅(qū)動(dòng)軸,殼體右側(cè)下端設(shè)有靶材端頭,靶材端頭下方設(shè)有開合螺母。殼體右側(cè)上端設(shè)有磁流體,磁流體外側(cè)設(shè)有磁流體密封座,磁流體上端安裝有同步帶輪,同步帶輪外側(cè)設(shè)有同步帶。
[0006]作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案:所述連接銅板內(nèi)部開設(shè)有與同步帶相配合的凹槽。
[0007]作為本實(shí)用新型再進(jìn)一步的方案:所述殼體內(nèi)部開設(shè)有與連接銅板上的凹槽相配合的槽。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理,密封效果好,提高了設(shè)備的使用壽命,穩(wěn)定性好,降低了維修頻率和維修的工作量,提高了生產(chǎn)效率和生產(chǎn)質(zhì)量。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2為圖1的A-A剖視圖。
[0011]圖3為本實(shí)用新型中殼體的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖中:1-水電輸入,2-鋁基座,3-絕緣墊,4-連接銅板,5-殼體,6-真空密封架,
7-水密封架,8-磁性軸法蘭,9-驅(qū)動(dòng)軸,10-靶材端頭,11-開合螺母,12-磁流體密封座,13-磁流體,14-同步帶輪,15-同步帶。
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0014]請參閱圖1?3,本實(shí)用新型實(shí)施例中,一種密封可靠的主端頭,包括殼體5,所述殼體5上端設(shè)有連接銅板4,連接銅板4為帶電體,連接銅板4上方固定設(shè)有水電輸入組件I ;連接銅板4上方設(shè)有鋁基座2,鋁基座2與連接銅板4之間設(shè)有絕緣墊3,為了防止鋁基座2帶電,用套有絕緣螺套的螺釘將鋁基座2與連接銅板4連接。殼體5內(nèi)部設(shè)有真空密封架6,殼體5與真空密封架6之間為靜密封,殼體5內(nèi)部左側(cè)上端設(shè)有水密封架7 ;殼體5左端設(shè)有磁性軸法蘭8,磁性軸法蘭8右側(cè)設(shè)有驅(qū)動(dòng)軸9,殼體5右側(cè)下端設(shè)有靶材端頭10,靶材端頭10下方設(shè)有開合螺母11。殼體5右側(cè)上端設(shè)有磁流體13,磁流體13外側(cè)設(shè)有磁流體密封座12,磁流體13上端安裝有同步帶輪14,同步帶輪14外側(cè)設(shè)有同步帶15。
[0015]進(jìn)一步的,本實(shí)用新型所述殼體5內(nèi)部開設(shè)有與連接銅板4上的凹槽相配合的槽。
[0016]本實(shí)用新型所述磁流體13可以按照實(shí)際需求訂制。
[0017]本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理,密封效果好,提高了設(shè)備的使用壽命,穩(wěn)定性好,降低了維修頻率和維修的工作量,提高了生產(chǎn)效率和生產(chǎn)質(zhì)量。
[0018]對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,顯然本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié),而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下,能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。因此,無論從哪一點(diǎn)來看,均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定,因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0019]此外,應(yīng)當(dāng)理解,雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述,但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案,說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個(gè)整體,各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合,形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種密封可靠的主端頭,包括殼體(5),所述殼體(5)上端設(shè)有連接銅板(4),連接銅板(4)為帶電體,連接銅板(4)上方固定設(shè)有水電輸入組件(I);連接銅板(40上方設(shè)有鋁基座(2 ),鋁基座(2 )與連接銅板(4 )之間設(shè)有絕緣墊(3 );殼體(5 )內(nèi)部設(shè)有真空密封架(6 ),殼體(5)與真空密封架(6)之間為靜密封,殼體(5)內(nèi)部左側(cè)上端設(shè)有水密封架(7);殼體(5)左端設(shè)有磁性軸法蘭(8),磁性軸法蘭(8)右側(cè)設(shè)有驅(qū)動(dòng)軸(9),殼體(5)右側(cè)下端設(shè)有靶材端頭(10),靶材端頭(10)下方設(shè)有開合螺母(11);其特征在于:殼體(5)右側(cè)上端設(shè)有磁流體(13),磁流體(13)外側(cè)設(shè)有磁流體密封座(12),磁流體(13)上端安裝有同步帶輪(14),同步帶輪(14)外側(cè)設(shè)有同步帶(15)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種密封可靠的主端頭,其特征在于:所述連接銅板(4)內(nèi)部開設(shè)有與同步帶(15)相配合的凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種密封可靠的主端頭,其特征在于:所述殼體(5)內(nèi)部開設(shè)有與連接銅板(4)上的凹槽相配合的槽。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種密封可靠的主端頭,包括殼體,所述殼體上端設(shè)有連接銅板,連接銅板為帶電體,連接銅板上方固定設(shè)有水電輸入組件;連接銅板上方設(shè)有鋁基座,鋁基座與連接銅板之間設(shè)有絕緣墊。殼體內(nèi)部設(shè)有真空密封架,殼體與真空密封架之間為靜密封,殼體內(nèi)部左側(cè)上端設(shè)有水密封架;殼體左端設(shè)有磁性軸法蘭,磁性軸法蘭右側(cè)設(shè)有驅(qū)動(dòng)軸,殼體右側(cè)下端設(shè)有靶材端頭,靶材端頭下方設(shè)有開合螺母。殼體右側(cè)上端設(shè)有磁流體,磁流體外側(cè)設(shè)有磁流體密封座,磁流體上端安裝有同步帶輪,同步帶輪外側(cè)設(shè)有同步帶。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)合理,密封效果好,提高了設(shè)備的使用壽命,穩(wěn)定性好,降低了維修頻率和維修的工作量,提高了生產(chǎn)效率和生產(chǎn)質(zhì)量。
【IPC分類】F16J15-02
【公開號】CN204459135
【申請?zhí)枴緾N201420793375
【發(fā)明人】魏慶瑄, 張俊峰, 李桂良, 張富
【申請人】上海子創(chuàng)鍍膜技術(shù)有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2014年12月16日