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      包含內(nèi)置于流體密封容器中并可在其內(nèi)現(xiàn)場調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)器的氣體儲存和分配系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號:9272701閱讀:535來源:國知局
      包含內(nèi)置于流體密封容器中并可在其內(nèi)現(xiàn)場調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)器的氣體儲存和分配系統(tǒng)的制作方法
      【專利說明】包含內(nèi)置于流體密封容器中并可在其內(nèi)現(xiàn)場調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)器 的氣體儲存和分配系統(tǒng)
      [0001] 分案申請
      [0002] 本申請是中國申請?zhí)枮?1810427.4的發(fā)明專利申請(國際申請?zhí)枮镻CT/ US01/11480)的分案申請。01810427.4號專利申請的申請日為2001年4月9日,發(fā)明名稱 為"包含內(nèi)置于流體密封容器中并可在其內(nèi)現(xiàn)場調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié)器的氣體儲存和分配系統(tǒng)"。
      [0003] 相關(guān)申請的交叉引用
      [0004] 這是在1999年4月28日由王錄平(LupingWang)和GlennM.Tom提交的名為"流 體存儲和氣體分配系統(tǒng)"的美國專利申請09/300, 994的部分繼續(xù)申請,而上述專利申請又 是在1998年4月28日由王錄平(LupingWang)和GlennM.Tom提交的名為"流體存儲和 氣體分配系統(tǒng)"的美國專利申請09/067, 393的部分繼續(xù)申請。
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0005] 本發(fā)明涉及一種加壓的氣體存儲和氣體分配系統(tǒng),用于例如生產(chǎn)半導體材料和裝 置的應(yīng)用中。
      【背景技術(shù)】
      [0006] 在許多工業(yè)生產(chǎn)和應(yīng)用中,都需要可靠的生產(chǎn)氣體源。
      [0007] 這些生產(chǎn)和應(yīng)用領(lǐng)域包括半導體生產(chǎn)、離子注入、平板顯示器生產(chǎn)、醫(yī)學干預和治 療、水處理、緊急呼吸設(shè)備、焊接操作、基于空間的液體和氣體供應(yīng),等等。
      [0008] 本發(fā)明提供了這樣一種可靠的氣體源,它特別適合用于半導體生產(chǎn)設(shè)備,以提供 所需的氣體供應(yīng),例如鹵化合物氣體(例如,BF 3, F2,等等),氫化物氣體(例如,砷化三氫, 磷化氫,等等)和氣態(tài)有機金屬源反應(yīng)物。
      [0009] 在氣體存儲和分配系統(tǒng)的領(lǐng)域中的工藝包括以下美國專利所描述的裝置和方 法:
      [0010] 1998年5月17日授予Karl O.Knollmueller的美國專利4,744,211(砷化三氫的 儲存和分配,吸附地存儲在5-15??讖降姆惺?,通過加熱沸石升高溫度釋放砷化三氫進 行分配);
      [0011] 1996 年 5 月 21 日授予Glenn M. Tom和 James V. McManus 的美國專利 5, 518, 528 (氣 體存儲和分配系統(tǒng),氣體在低壓下吸附地保存在物理的吸附介質(zhì)中,通過壓力差動來調(diào)節(jié) 從吸附介質(zhì)中解吸出的氣體來實現(xiàn)分配);
      [0012] 1999 年 8 月 17 日授予 David A. LeFebre 和 Thomas B. Martin, Jr?的美國專利 5, 937,895 和 1999 年 12 月 28 日授予 Roy V. Semerdjian,David A. LeFebre 和 Thomas B. Marin, Jr.的美國專利6, 007, 609 (具有分配止回閥形式調(diào)節(jié)器的加壓容器和用于流體 分配的流動限制裝置的毛細管);
      [0013] 1998年4月28日由LupingWang和GlennM.Tom提交的在先待批美國專利申請 09/067, 393和1999年4月28日由LupingWang和GlennM.Tom提交的在先待批美國專利 申請09/300, 994 (流體存儲和氣體分配系統(tǒng),包括一個安裝有流體壓力調(diào)節(jié)器的存儲和分 配容器,這樣從容器中分發(fā)出的流體流經(jīng)調(diào)節(jié)器到達下游的流動控制裝置);
      [0014] 授予Stenner的美國專利3, 590, 860 ( -種用于液化丙烷倉的手動可調(diào)節(jié)的調(diào)節(jié) 閥,包括一個調(diào)節(jié)板和傳動彈簧裝置);
      [0015] 授予Coffre等的美國專利4, 836, 242 ( -種用來提供電子級氣體的減壓器,包括 一個風箱和進氣閥,在風箱和低壓出口之間安裝了一個固體顆粒過濾器);
      [0016] 授予Ollivier的美國專利5, 230, 359 (用于高壓氣缸的膜式壓力調(diào)節(jié)器,其中在 調(diào)節(jié)器中安裝了一個閥門用于可調(diào)節(jié)地對壓縮流體節(jié)流);
      [0017] 授予Baranowski, Jr?的美國專利3, 699, 998 ( -種可修正壓力調(diào)節(jié)器,其中葉片 彈簧夾緊器用來把調(diào)節(jié)器的各個部件保持在合適的位置);
      [0018] 授予Mays的美國專利3, 791,412 (用于高壓氣體容器的減壓閥,包括一對閥部件 分發(fā)低壓的節(jié)流液體);
      [0019] 授予Wormser的美國專利3, 972, 346 (特征在于U型環(huán)密封提升閥裝置的壓力調(diào) 節(jié)器);
      [0020] 授予Eidsmore的美國專利4, 793, 379 (用于壓縮氣缸的主要關(guān)閉和流動控制的按 鈕操作式閥門,閥部件使用磁傳動);
      [0021] 授予Senesky的美國專利2, 615, 287 (-種氣體壓力調(diào)節(jié)器,包括隔板和隔板夾緊 部件);
      [0022] 授予Martin的美國專利4, 173, 986 (壓縮氣體流動控制閥,包括壓力調(diào)節(jié)器和響 應(yīng)式提升閥結(jié)構(gòu));
      [0023] 授予Baumann等的美國專利3, 388, 962 (壓縮氣體燃料調(diào)節(jié)裝置,包括燒結(jié)金屬球 流動部件);
      [0024] 授予Jenkins的美國專利1,679, 826 (用于高壓容器的流體壓力調(diào)節(jié)器,利用隔板 部件和包含氈條的氣體過濾裝置);
      [0025] 授予St.Clair的美國專利2, 354, 283 (用于液化石油氣罐的流體壓力調(diào)節(jié)器,包 含壓力致動的隔板,同時節(jié)流器結(jié)構(gòu)的振動最?。?;
      [0026] 授予Lhomer等的美國專利5, 566, 713 (氣流控制分配裝置,包括活塞型的壓力調(diào) 節(jié)器和塊型減壓器/調(diào)節(jié)器裝置);
      [0027] 授予Amidzich的美國專利5, 645, 192 (解除容器中過壓氣體的閥裝置,包含密封 環(huán)/彈簧裝置);
      [0028] 授予Cannet等的美國專利5, 678, 602 (用于壓縮氣罐的氣體控制和分配裝置,包 括具有變址流量計閥門的減壓器和調(diào)節(jié)器裝置);
      [0029] 授予Webster的美國專利2, 793, 504 (用于壓縮流體容器的閥門,包括減壓器和調(diào) 節(jié)器和彈簧偏壓閉合裝置);
      [0030] 授予Harris的美國專利1,659, 263 (用于壓縮氣缸的調(diào)節(jié)器,包括一個擋板和位 于擋板和調(diào)節(jié)器環(huán)形機座之間的抗摩擦墊圈);
      [0031] 授予Thomas的美國專利2, 047339 (液化石油氣存儲裝置,包括流動控制單元和泄 漏防止閥);和
      [0032] 授予Baumann等的美國專利3, 994, 674(用于壓縮液化燃燒氣體容器的可拆離的 燃燒器裝置,包括一個調(diào)節(jié)閥裝置)。
      [0033] 發(fā)明概沐
      [0034] 本發(fā)明涉及一種存儲和分配壓縮氣體的系統(tǒng),用于例如生產(chǎn)半導體產(chǎn)品的應(yīng)用。
      [0035] 在一個方面,本發(fā)明涉及到一種流體存儲和分配系統(tǒng),包含:
      [0036] -個氣體存儲和分配容器,在其封閉的內(nèi)部空間容納壓縮氣體,其中容器包括一 個出口;
      [0037] 一個閥頭,安裝在容器出口處;
      [0038] 一個氣體分配組件,與閥頭氣流連通地連接;
      [0039] 一個位于容器內(nèi)部空間的氣壓調(diào)節(jié)器,定位在閥頭下面,用于使從容器中排出的 氣體壓力保持在預定值;
      [0040] 氣體分配組件可以選擇性地觸發(fā)以使氣體穿過氣壓調(diào)節(jié)器、閥頭和氣體分配組件 從容器的內(nèi)部空間流出,用于從容器中排出氣體。
      [0041] 在該系統(tǒng)的另一個方面,前面提到的氣壓調(diào)節(jié)器是第一氣壓調(diào)節(jié)器,該系統(tǒng)進一 步包括位于容器內(nèi)部空間中的第二氣壓調(diào)節(jié)器,與第一氣壓調(diào)節(jié)器串連。
      [0042] 在這種雙調(diào)節(jié)器排列的特定實施例中,第一氣壓調(diào)節(jié)器在排放端與第一粒子過濾 器連接,第二氣壓調(diào)節(jié)器在它的入口端與第二粒子過濾器連接。
      [0043] 這種雙調(diào)節(jié)器布置的另一個特定實施例包括第一粒子過濾器,第一氣壓調(diào)節(jié)器, 第二氣壓調(diào)節(jié)器和第二粒子過濾器,在容器內(nèi)部彼此同軸對齊。
      [0044] 本發(fā)明的其他方面、特征和實施例從接下來的說明和所附的權(quán)利要求中將會完全 明了。
      【附圖說明】
      [0045] 圖1是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的氣體存儲和分配系統(tǒng)的示意性截面正視圖。
      [0046] 圖2是圖1所示的氣體存儲和分配系統(tǒng)的閥頭組件的透視圖。
      [0047] 圖3是用于圖1所示的氣體存儲和分配系統(tǒng)的過濾器單元的正視圖。
      [0048] 圖4是圖1所示的氣體存儲和分配系統(tǒng)的調(diào)節(jié)器的部分剖開的視圖。
      [0049] 圖5是圖1所示的氣體存儲和分配系統(tǒng)的氣體存儲和分配容器上邊部分的截面正 視圖。
      [0050] 圖6是根據(jù)本發(fā)明另一個實施例的氣體存儲和分配系統(tǒng)的示意性截面正視圖。
      【具體實施方式】
      [0051] 以下美國專利申請的內(nèi)容在此引用作為參考:1999年4月28日由LupingWang 和GlennM.Tom提交的名稱為"流體存儲和氣體分配系統(tǒng)"的美國專利申請09/300, 994和 1998年4月28日由LupingWang和GlennM.Tom提交的名稱為"流體存儲和氣體分配系 統(tǒng)"的美國專利申請09/067, 393。
      [0052] 本發(fā)明涉及一種氣體存
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