專利名稱：跌落測(cè)試系統(tǒng)及測(cè)試方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于 一 種跌落測(cè)試系統(tǒng)，尤其涉及 一 種適用于相機(jī)鏡頭 才莫組的if失落測(cè)試系統(tǒng)及測(cè)試方法。
背景技術(shù)：
隨著科技的不斷發(fā)展，攜帶式電子裝置如移動(dòng)電話，應(yīng)用日益 廣泛，同時(shí)也日漸趨向于輕巧、美觀和多功能化，其中照相功能是 近年流行的移動(dòng)電話的附加功能。應(yīng)用于移動(dòng)電話的數(shù)碼相機(jī)模組 不僅要滿足輕薄短小的要求，其還須具有較高的性能與品質(zhì)，所以 在數(shù)碼相機(jī)鏡頭模組組裝完畢后，都要對(duì)其進(jìn)行跌落測(cè)試，其主要 目的是為了測(cè)試鏡頭模組上的元件，特別是濾光片，是否會(huì)因受掉 落撞擊的影響而脫離鏡筒。目前的跌落測(cè)試系統(tǒng)是由人工將待測(cè)試件固定于 一 實(shí)心塑膠長(zhǎng)方體上，由1.5米的高度自由落下，來(lái)對(duì)長(zhǎng)方體三個(gè)方向的平面 進(jìn)行若干次測(cè)試來(lái)達(dá)到對(duì)待測(cè)試件測(cè)試的目的。在人工測(cè)試時(shí)，每次自由落下會(huì)有高度的誤差，且若測(cè)試數(shù)量 大的時(shí)候，測(cè)試速度與測(cè)試效率都會(huì)受到很大的影響。發(fā)明內(nèi)容有鑒于此，有必要提供一種能提高測(cè)試速度與效率的跌落測(cè)試 系統(tǒng)及測(cè)試方法。一種跌落測(cè)試系統(tǒng)，包括一個(gè)定位控制器、 一個(gè)用于對(duì)待測(cè)試 件進(jìn)行取像和測(cè)量該待測(cè)試件位置的取像定位裝置、 一個(gè)用于取放 待測(cè)試件的取放裝置以及 一 個(gè)根據(jù)所述取像定位裝置的測(cè)量取像結(jié) 果來(lái)控制該取放裝置的控制裝置。所述控制裝置分別與所述取像定 位裝置、取放裝置及定位控制器電氣相連。所述定位控制器在所述 控制裝置的作用下控制取放裝置作業(yè)。該取放裝置在控制裝置及定 位控制器的控制下，取放待測(cè)試件來(lái)對(duì)其進(jìn)行跌落測(cè)試.一種跌落測(cè)試方法，包括下列步驟
提供上述的3失落測(cè)試系統(tǒng)；提供一待測(cè)試件，且置于定位控制器的基座上；由取像定位裝置把待測(cè)試件位置的圖像及數(shù)據(jù)傳送給控制裝置；由控制裝置對(duì)取像定位裝置取得的待測(cè)試件的圖像及數(shù)據(jù)進(jìn)行 分析，得到所要獲取的待測(cè)試面及該取放裝置獲取待測(cè)試件所需的 移動(dòng)量；取放裝置在定位控制器與控制裝置的共同控制下，利用取放裝 置獲取所述待測(cè)試件，同時(shí)將獲得待測(cè)試件的信號(hào)數(shù)據(jù)反饋給控制 裝置；定位控制器在控制裝置的控制下，提升取放裝置到所要求的測(cè) 試高度；取放機(jī)構(gòu)在控制裝置的控制下，讓待測(cè)試件自由落下。 該跌落測(cè)試系統(tǒng)及測(cè)試方法在取像定位裝置、取放裝置及控制 裝置的共同作用下自動(dòng)取放待測(cè)試件，而且每次待測(cè)試件被提高的 高度可控制為一樣，所以在大幅提高了測(cè)試速度的同時(shí)，還可以提 高被測(cè)試件的測(cè)試效果。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例的跌落測(cè)試系統(tǒng)的立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明實(shí)施例的待測(cè)試件的立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是圖1所示的跌落測(cè)試系統(tǒng)的測(cè)試方法流程圖；圖4是所述跌落測(cè)試系統(tǒng)獲取待測(cè)試件時(shí)所需定位點(diǎn)的示意圖；圖5是所述跌落測(cè)試系統(tǒng)變換測(cè)試面的跌落狀態(tài)圖；圖6是所述跌落測(cè)試系統(tǒng)獲取待測(cè)試件的上表面的狀態(tài)圖；圖7是所述跌落測(cè)試系統(tǒng)獲取待測(cè)試件側(cè)面的狀態(tài)圖。
具體實(shí)施方式
為了對(duì)本發(fā)明作更進(jìn)一步的說(shuō)明，舉一較佳實(shí)施例并配合附圖 i羊細(xì)描述如下。請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明實(shí)施例的跌落測(cè)試系統(tǒng)10包括一個(gè)定位控 制器11、 一個(gè)用于測(cè)量待測(cè)試件20位置和對(duì)該待測(cè)試件20進(jìn)行取^象的取^象定位裝置12、 一個(gè)用于取》文待測(cè)試件20的取放裝置13以 及一個(gè)根據(jù)所述取像定位裝置12的測(cè)量取像結(jié)果來(lái)控制該取放裝 置13的控制裝置14，所述控制裝置14分別與所述取像定位裝置12、 定位控制器11及取放裝置13電氣相連。所述定位控制器11可以為一三軸控制器，包括一個(gè)基座111 和一個(gè)與基座111相連的定位控制臂112，優(yōu)選地，所述定位控制 臂112垂直相連于基座111。所述取像定位裝置12為電荷耦合攝影機(jī)，與所述定位控制器 11的定位控制臂112相連。所述取》丈裝置13用于獲取J寺測(cè)試件20以進(jìn)行3失落測(cè)試，該取 放裝置13包括一個(gè)第一滑筒131、 一個(gè)機(jī)械手臂132、 一個(gè)第二滑 筒133、 一個(gè)連接于第二滑筒133的轉(zhuǎn)軸134以及一個(gè)連接于轉(zhuǎn)軸 134的取放機(jī)構(gòu)137。該第一滑筒131套設(shè)于所述基座11的定位控制臂112上。該第 一滑筒131可繞該定位控制臂112旋轉(zhuǎn)還可以沿該定位控制臂112 上下滑動(dòng)。該機(jī)械手臂132與所述第一滑筒131相連，且可隨該第一滑筒 131活動(dòng)。該第二滑筒133套設(shè)于所述機(jī)械手臂132上，且該第二滑筒133 可沿該機(jī)械手臂132滑動(dòng)。該轉(zhuǎn)軸134為一絞鏈?zhǔn)睫D(zhuǎn)軸，包括一個(gè)第 一連桿135與 一個(gè)與 該第一連4干135以絞4連方式相連的第二連沖干136。該第二連桿136 可以繞第一連桿135在二維平面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，即第一連桿135與第二連 桿136軸線所構(gòu)成的平面內(nèi)。該取放機(jī)構(gòu)137與所述第二連桿136相連，用于獲取待測(cè)試件 20，該取放機(jī)構(gòu)137可以為電磁鐵、吸嘴及夾爪。本實(shí)施例中所述 耳又放才幾構(gòu)137為電磁鐵。所述控制裝置14可以為一微處理裝置，該控制裝置14可識(shí)別 處理有關(guān)數(shù)據(jù)，并輸出結(jié)果。本實(shí)施例中，所述控制裝置14為一臺(tái) 中央處理器，其內(nèi)安裝有可識(shí)別并處理相關(guān)數(shù)據(jù)的程序，該控制裝置14與所述基座11的定位控制臂112、所述取像定 位裝置12及所述取放裝置13相連，且可根據(jù)取像定位裝置12的輸
出結(jié)果控制所述取j文裝置13作業(yè)，即取放待測(cè)試件20,同時(shí)，取 放裝置13也反饋給控制裝置14該取放裝置13的取放狀態(tài)的信息。請(qǐng)參閱圖2,所述待測(cè)試件20包括 一 個(gè)待測(cè)試元件21與 一 個(gè) 用于容置該待測(cè)試元件21的金屬容器22 。該待測(cè)試元件21可以為 一已組裝完畢的鏡頭模組。該金屬容器22可以被電磁鐵137所獲取。請(qǐng)參閱圖3,以本發(fā)明實(shí)施例為例，對(duì)所述待測(cè)試件20進(jìn)行跌 落測(cè)試，測(cè)試步驟包括步驟一提供上述的跌落測(cè)試系統(tǒng)10，包括一個(gè)定位控制器11、 一個(gè)取像定位裝置12、 一個(gè)取放裝置13以及一個(gè)控制裝置14;步驟二」提供上述的待測(cè)試件20，包括一個(gè)待測(cè)試元件21與 一個(gè)金屬容器22，且該待測(cè)試件20置于基座111上；步驟三由取像定位裝置12測(cè)得待測(cè)試件20位置的數(shù)據(jù)及圖 像并將所得的數(shù)據(jù)及圖像傳送給控制裝置14;步驟四由控制裝置14對(duì)取像定位裝置12取得的待測(cè)試件20 的圖像及數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，分別得到取放裝置13所要獲取的待測(cè)試表 面及取放裝置13獲取待測(cè)試件20所需的移動(dòng)量，并將該待測(cè)面及 所需移動(dòng)量傳送給控制裝置14;步驟五機(jī)械手臂132在定位控制器11的定位控制臂112與控 制裝置14的共同控制下，利用取放機(jī)構(gòu)137獲取所述待測(cè)試件20, 同時(shí)將獲得待測(cè)試件20的獲取信號(hào)反饋給控制裝置14;步驟六定位控制器11的定位控制臂112在控制裝置14的控 制下，提升機(jī)械手臂132到所要求的測(cè)試高度；步驟七取放機(jī)構(gòu)137在控制裝置14與機(jī)械手臂132的控制下， 讓待測(cè)試件20自由落下。本實(shí)施例為給電磁鐵斷電讓待測(cè)試件20 落下。如此即完成了 一次該待測(cè)試件2 0的跌落測(cè)試，如要對(duì)該待測(cè)試 件進(jìn)行多次重復(fù)的測(cè)試，重復(fù)上述步驟三到步驟七即可。本實(shí)施例中待測(cè)試件20自由落下的高度可以為1.5米。所述取放裝置13獲取待測(cè)試件20時(shí)所需的移動(dòng)量與所要獲取 的待測(cè)試表面都是由取像定位裝置12與控制裝置14配合測(cè)試得到， 并由控制裝置14控制取放裝置獲取待測(cè)試件20。請(qǐng)參閱圖l和圖4，對(duì)所述取放裝置13獲取待測(cè)試件20時(shí)所需的移動(dòng)量的確定包括以下步驟，首先，在定位控制器11的基座 111上且在所述取像定位裝置12取像范圍內(nèi)任意畫四個(gè)不重復(fù)的定位點(diǎn)113，在該定位點(diǎn)113所形成的范圍內(nèi)定義原點(diǎn)，然后測(cè)量各 定位點(diǎn)113到原點(diǎn)的實(shí)際距離，便得到一個(gè)存儲(chǔ)在控制裝置14內(nèi)的 二維定位網(wǎng)絡(luò)。當(dāng)待測(cè)試件20跌落在所述取像定位裝置12的取像 范圍內(nèi)時(shí)，經(jīng)取像定位裝置12對(duì)其取像，利用該二維定位網(wǎng)絡(luò)，對(duì) 待測(cè)試件20的位置數(shù)據(jù)經(jīng)過(guò)控制裝置14的分析計(jì)算，便得到取放 裝置12移動(dòng)至待測(cè)試件20跌落位置所需的距離，即取放裝置13 所需的移動(dòng)量。對(duì)所述取放裝置13獲取待測(cè)試件20時(shí)所要獲取的待測(cè)試表面 的確定包括下列步驟，首先，由所述取像定位裝置12對(duì)置于基座 111上且在所述取像定位裝置12取像范圍內(nèi)的待測(cè)試元件20取像， 即獲得待測(cè)試件20的影像，然后將取得的影像傳送給控制裝置14, 經(jīng)該控制裝置14內(nèi)置的控制程序?qū)⒋郎y(cè)試件20的三個(gè)不同方向的 面設(shè)置為三種不同的灰階顏色，使該待測(cè)試件20在取像定位裝置 12取得的影像中所顯示的灰階明顯不同，最后利用此灰階分別來(lái)判 斷測(cè)試哪 一 個(gè)面朝上，再利用長(zhǎng)短邊的不同來(lái)判斷另外兩個(gè)方向的 面，從而控制裝置14確定出取放裝置12所要獲取的待測(cè)試表面。請(qǐng)參閱圖5，在取放裝置12獲得待測(cè)試件20以后，當(dāng)需要轉(zhuǎn) 換測(cè)試面時(shí)，可通過(guò)該取放裝置12的轉(zhuǎn)軸134的第二連桿136的轉(zhuǎn) 動(dòng)，轉(zhuǎn)換待測(cè)試表面。同時(shí)，請(qǐng)參閱圖6及圖7,取放機(jī)構(gòu)137可 以通過(guò)獲取待測(cè)試件20的相對(duì)于基座111的上表面及各個(gè)側(cè)面來(lái)獲 取待測(cè)試件20來(lái)達(dá)到轉(zhuǎn)換待測(cè)試表面的目的。本實(shí)施例中，對(duì)待測(cè) 試件20的三個(gè)面的每個(gè)面進(jìn)4于三次^失落測(cè)試。該跌落測(cè)試系統(tǒng)10因有定位控制器11、取像定位裝置12、取 放裝置13及控制裝置14的配合作業(yè)，可自動(dòng)對(duì)待測(cè)試件20的三個(gè) 面進(jìn)行無(wú)數(shù)次的跌落測(cè)試，節(jié)省了人力，同時(shí)又提高了測(cè)試速度與 效率。另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，只要 其不偏離本發(fā)明的技術(shù)效杲，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍 之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種跌落測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于 包括一個(gè)定位控制器、一個(gè)用于對(duì)該待測(cè)試件進(jìn)行取像和測(cè)量待測(cè)試件位置的取像定位裝置、一個(gè)用于取放待測(cè)試件的取放裝置以及一個(gè)根據(jù)所述取像定位裝置的測(cè)量取像結(jié)果來(lái)控制該取放裝置的控制裝置，所述控制裝置分別與所述取像定位裝置、取放裝置及定位控制器電氣相連，所述定位控制器在該控制裝置的作用下控制所述取放裝置作業(yè)，該取放裝置在所述控制裝置及定位控制器的控制下，取放待測(cè)試件來(lái)對(duì)其進(jìn)行跌落測(cè)試。
2. 如權(quán)利要求l所述的跌落測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于所述定位 控制器包括 一 基座和 一 個(gè)與該基座相連的定位控制臂，該定位控制 臂用于控制所述取放裝置繞該定位控制臂旋轉(zhuǎn)或上下滑動(dòng)。
3. 如權(quán)利要求l所述的跌落測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于所述取像 定位裝置為電荷耦合攝影機(jī)。
4 .如權(quán)利要求1所述的跌落測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于所述取放 裝置包括一個(gè)與所述定位控制器相連的機(jī)械手臂、 一個(gè)滑動(dòng)套設(shè)于 該機(jī)械手臂的滑筒、 一個(gè)與該滑筒相連的轉(zhuǎn)軸以及一個(gè)與轉(zhuǎn)軸相連 的取放機(jī)構(gòu)，所述取放機(jī)構(gòu)用于獲取待測(cè)試件。
5. 如權(quán)利要求4所述的取放裝置，其特征在于所述取放機(jī)構(gòu) 為一電磁鐵、吸嘴或夾爪，該取放機(jī)構(gòu)還可通過(guò)與滑筒相連的轉(zhuǎn)軸 可以在二維平面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)。
6. —種跌落測(cè)試方法，包括下列步驟提供 一 如權(quán)利要求1至5任 一 項(xiàng)所述的跌落測(cè)試系統(tǒng)； 提供一待測(cè)試件，且置于定位控制器上；由取像定位裝置測(cè)量待測(cè)試件位置的數(shù)據(jù)及圖像并將該數(shù)據(jù)及 圖像傳送給控制裝置；由控制裝置對(duì)取像定位裝置取得的待測(cè)試件的數(shù)據(jù)及圖像進(jìn)行 分析，得到取放裝置所要獲取的待測(cè)試面及取放裝置獲取待測(cè)試件 所需的移動(dòng)量；取放裝置在定位控制器與控制裝置的共同控制下，獲取所述待 測(cè)試件，同時(shí)將獲得待測(cè)試件的信號(hào)數(shù)據(jù)反饋給控制裝置定位控制器在控制裝置的控制下，提升取放裝置到所要求的測(cè)試高度；取放裝置在控制裝置的控制下，讓待測(cè)試件自由落下。
7. 如權(quán)利要求6所述的跌落測(cè)試方法，其特征在于所述待測(cè) 試件跌落測(cè)試所需要的高度為1.5米。
8. 如權(quán)利要求6所述的跌落測(cè)試方法，其特征在于所述待測(cè) 試件包括 一 個(gè)待測(cè)試元件與 一 個(gè)用于容置該待測(cè)試件的金屬容器。
9. 如權(quán)利要求6所述的跌落測(cè)試方法，其特征在于，所述取放 裝置獲取待測(cè)試件時(shí)所需的移動(dòng)量的確定包括下列步驟在定位控制器上且在所述取像定位裝置取像范圍內(nèi)任意畫四個(gè) 不重復(fù)的定位點(diǎn)；在該四個(gè)定位點(diǎn)所形成的范圍內(nèi)定義原點(diǎn)；測(cè)量各定位點(diǎn)到原點(diǎn)的實(shí)際距離，得到一個(gè)存儲(chǔ)在控制裝置內(nèi) 的二維定位網(wǎng)絡(luò)；利用該二維定位網(wǎng)絡(luò)，經(jīng)過(guò)控制裝置的分析計(jì)算，得到取放裝 置移動(dòng)至待測(cè)試件跌落位置所需的距離，即取放裝置所需的移動(dòng)量。
10. 如權(quán)利要求6所述的跌落測(cè)試方法，其特征在于，所述測(cè) 試表面的確定包括下列步驟由所述取像定位裝置對(duì)置于定位控制器上且在所述取像定位裝 置取像范圍內(nèi)的待測(cè)試件取像；將取得的影像傳送給控制裝置，經(jīng)該控制裝置將待測(cè)試件的三 個(gè)不同方向的表面設(shè)置為三種不同的灰階顏色，使該待測(cè)試件在取 像定位裝置取得的影像中所顯示的灰階不同；利用此灰階分別來(lái)判斷確定朝上的待測(cè)試件的表面，再利用長(zhǎng) 短邊的不同來(lái)判斷另外兩個(gè)方向的表面，從而該控制裝置確定所要 獲取的待測(cè)試表面。
全文摘要
一種跌落測(cè)試系統(tǒng)，包括一個(gè)定位控制器、一個(gè)用于對(duì)待測(cè)試件進(jìn)行取像和測(cè)量該待測(cè)試件位置的取像定位裝置、一個(gè)用于取放待測(cè)試件的取放裝置以及一個(gè)根據(jù)所述取像定位裝置的測(cè)量取像結(jié)果來(lái)控制該取放裝置的控制裝置。所述控制裝置分別與所述取像定位裝置、取放裝置及定位控制器電氣相連。所述定位控制器在所述控制裝置的作用下控制所述取放裝置作業(yè)。該取放裝置在控制裝置及定位控制器的控制下，取放待測(cè)試件來(lái)對(duì)其進(jìn)行跌落測(cè)試。該跌落測(cè)試系統(tǒng)可以自動(dòng)取放待測(cè)試件，提高了測(cè)試速度與測(cè)試效率。
文檔編號(hào)G01N19/00GK101149330SQ20061006273
公開日2008年3月26日 申請(qǐng)日期2006年9月22日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月22日
發(fā)明者凌維成 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司