專利名稱：基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種微納測試領(lǐng)域。特別是涉及一種可實(shí)現(xiàn)對包括微力，位移，尺寸，形貌特征等參數(shù)在內(nèi)的微結(jié)構(gòu)幾何量的測量和表征的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置。
背景技術(shù)：
近些年微納加工技術(shù)的迅速發(fā)展，器件特征尺寸和與之關(guān)聯(lián)的公差不斷減小，而其形狀結(jié)構(gòu)復(fù)雜程度卻不斷增加，這就對加工過程中幾何量的檢測手段提出更高的要求。在半導(dǎo)體工業(yè)中，要求的器件檢測精度已經(jīng)達(dá)到亞微米或者納米水平，檢測對象的范圍也擴(kuò)大到具有特殊或者復(fù)雜結(jié)構(gòu)的微器件。這就對具有100nm以下不確定度的測量方法和手段提出了迫切的要求。
目前的檢測手段主要有光學(xué)測量技術(shù)、掃描探針顯微技術(shù)和坐標(biāo)測量技術(shù)三種，光學(xué)測量手段如計算機(jī)視覺技術(shù)、顯微干涉技術(shù)、聚焦式測量技術(shù)等，由于存在衍射極限，系統(tǒng)的橫向分辨率由物鏡的數(shù)值孔徑?jīng)Q定，所以一般在微米量級。這也就決定了它們不能分辨微米以下更細(xì)微的形貌特征。同時，光學(xué)方法不能測量某些特定的三維形貌，如物體邊緣的孔徑，物體表面的方向性和相關(guān)尺寸等信息，所以并不能實(shí)現(xiàn)真正的三維測量。以原子力顯微鏡和掃描隧道顯微鏡為代表的掃描探針技術(shù)利用微觀效應(yīng)，檢測控制針尖和樣品表面的微電流和微力的大小，對樣品表明進(jìn)行掃描，獲得樣品的形貌特征和表面特性，具有納米級的分辨力，但很容易受到測量環(huán)境的干擾，并因此對測量結(jié)果產(chǎn)生較大的影響，同時掃描探針顯微技術(shù)的測量范圍只有幾十個微米，很大地限制了微結(jié)構(gòu)測量的樣品范圍，此外，對于較大深寬比的微結(jié)構(gòu)等特殊結(jié)構(gòu)也無法進(jìn)行測量。坐標(biāo)測量技術(shù)就是以傳統(tǒng)的坐標(biāo)測量機(jī)為測量平臺，結(jié)合觸發(fā)式或者模擬式測頭對被測工件進(jìn)行檢測，但傳統(tǒng)的坐標(biāo)測量技術(shù)的檢測精度只能達(dá)到微米或者幾百納米，已經(jīng)不能滿足微納加工技術(shù)迅速發(fā)展的測量的要求。
因此，具有大范圍、高精度，開發(fā)研究用于測量三維尺寸、位置和其他形貌特征的坐標(biāo)測量方法和相應(yīng)的裝置，成為微器件和微結(jié)構(gòu)測試領(lǐng)域的主要研究工作。這類研究主要包括兩部分的內(nèi)容，一是對于具有大范圍、高精度的坐標(biāo)定位儀器的開發(fā)；二是對高精度、微尺寸傳感器的研究和開發(fā)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是，提供一種可實(shí)現(xiàn)對包括微力，位移，尺寸，形貌特征等參數(shù)在內(nèi)的微結(jié)構(gòu)幾何量的測量和表征的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置。
本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是一種基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，包括有作為定位測量平臺的納米測量機(jī)，還設(shè)置有能夠?qū)ξ⑵骷臀⒔Y(jié)構(gòu)的幾何量進(jìn)行測量的基于壓阻檢測的微觸覺測頭系統(tǒng)，所述的微觸覺測頭系統(tǒng)是通過設(shè)置在納米測量機(jī)上部的固定支架被固定在納米測量機(jī)的上部。
所述的作為定位測量平臺的納米測量機(jī)包括有電控部分；用于放置被測物體的玻璃載物臺；排列符合阿貝測量原理的X方向干涉儀、Y方向干涉儀、Z方向干涉儀，以及支撐X方向干涉儀、Y方向干涉儀、Z方向干涉儀的零膨脹支架；分別設(shè)置在納米測量機(jī)計量學(xué)框架上的并與電控部分相連的兩個角度傳感器。
所述的微觸覺測頭系統(tǒng)為三維微接觸式測頭系統(tǒng)，包括有由框架、中心連接體、一端與框架相連另一端與中心連接體相連的梁組成的懸掛結(jié)構(gòu)，以及由連接座、形成在連接座上端的測桿和形成在測桿端部的測端組成的測頭構(gòu)成，其測頭的連接座固定設(shè)置在懸掛結(jié)構(gòu)的中心連接體上。
所述的中心連接體包括有中心連接塊和固定在中心連接塊上的定位連接塊，定位連接塊的中心部形成有與測頭的連接座直徑相同的內(nèi)螺紋孔，在測頭的連接座下端部形成與內(nèi)螺紋孔相匹配的外螺紋，測頭的連接座與定位連接塊通過內(nèi)螺紋孔和外螺紋連接。
所述的中心連接體的中心部設(shè)置有定位環(huán)，定位環(huán)的內(nèi)徑與測頭的連接座的外徑相同，測頭的連接座鑲嵌在定位環(huán)內(nèi)。
所述的懸掛結(jié)構(gòu)選用四梁結(jié)構(gòu)、八梁結(jié)構(gòu)、三角形結(jié)構(gòu)、邊緣梁結(jié)構(gòu)、對角梁結(jié)構(gòu)、中心對角梁結(jié)構(gòu)中的一種。
所述的測頭系統(tǒng)中測端的軸向位移檢測采用電容和壓阻相結(jié)合的方式，具體結(jié)構(gòu)是在懸掛結(jié)構(gòu)未安裝測頭的那一面上連接有電容背板，電容背板通過導(dǎo)線與電控部分的信號輸入端相連接。
所述的測頭系統(tǒng)還可以采用三維檢測的壓阻排布和電橋檢測方式，具體結(jié)構(gòu)是在懸掛結(jié)構(gòu)的4個梁上分別設(shè)置有電阻，使每個測量方向采用4個電阻差動檢測，同時根據(jù)壓阻排布設(shè)置有惠斯通全橋電路，惠斯通全橋電路的輸入端接電源，輸出端與電控部分的信號輸入端相連接。
本發(fā)明的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，克服了以原子力顯微鏡和掃描隧道顯微鏡為代表的掃描探針顯微技術(shù)在測量范圍上的局限性，拓展了光學(xué)測量等其他測量手段的測量對象的范圍，實(shí)現(xiàn)對包括微力、位移、尺寸、形貌特征等參數(shù)在內(nèi)的微結(jié)構(gòu)幾何量的測量和表征。解決了在微加工制造和微結(jié)構(gòu)測試領(lǐng)域?qū)缀瘟繙y量的方法和裝置的迫切需求。同時，本發(fā)明在傳統(tǒng)坐標(biāo)測量技術(shù)的基礎(chǔ)上提高了測量的精度，將測量范圍延展到微觀領(lǐng)域。


圖1是本發(fā)明的微結(jié)構(gòu)幾何量測量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明的微觸覺測頭系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本發(fā)明微觸覺測頭系統(tǒng)分解結(jié)構(gòu)示意圖圖4是本發(fā)明在懸掛結(jié)構(gòu)表面設(shè)置定位環(huán)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5a、圖5b、圖5c、圖5d、圖5e、圖5f是本發(fā)明微觸覺測頭系統(tǒng)六種懸掛結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是本發(fā)明電容與壓阻檢測結(jié)合的結(jié)構(gòu)示意圖；圖7是本發(fā)明懸掛結(jié)構(gòu)上電阻分布的結(jié)構(gòu)示意圖；圖8a、圖8b、圖8c是圖7中三軸壓阻檢測惠斯通全橋電路原理圖；圖9是本發(fā)明的微結(jié)構(gòu)空間坐標(biāo)測量示意圖；圖10是本發(fā)明的微結(jié)構(gòu)形貌特征掃描測量示意圖。
其中1X方向干涉儀 2Y方向干涉儀3Z方向干涉儀 4零膨脹支架5微觸覺測頭系統(tǒng)6接觸點(diǎn)7固定支架 8玻璃載物臺9中心連接體10梁11框架 12測端13測桿 14連接座15測頭 16內(nèi)螺紋孔17外螺紋 18定位環(huán)19懸掛結(jié)構(gòu) 20電容背板21被測物 22移動平臺23電阻具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例對本發(fā)明的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置做出詳細(xì)說明。
本發(fā)明的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，包括有作為定位測量平臺的納米測量機(jī)，還設(shè)置有能夠?qū)ξ⑵骷臀⒔Y(jié)構(gòu)的幾何量進(jìn)行測量的基于壓阻檢測的微觸覺測頭系統(tǒng)5，所述的微觸覺測頭系統(tǒng)5是通過設(shè)置在納米測量機(jī)上部的固定支架7被固定在納米測量機(jī)的上部。
如圖1所示，所述的作為定位測量平臺的納米測量機(jī)為高精度、大范圍的納米測量機(jī)，包括有電控部分；用于放置被測物體的玻璃載物臺8；發(fā)出的光分別從X、Y、Z三個方向聚集在微觸覺測頭系統(tǒng)5與被測物體的接觸點(diǎn)6上的排列符合阿貝測量原理的X方向干涉儀1、Y方向干涉儀2、Z方向干涉儀3，以及支撐X方向干涉儀1、Y方向干涉儀2、Z方向干涉儀3的零膨脹支架4；分別設(shè)置在納米測量機(jī)計量學(xué)框架上的并與電控部分相連的兩個角度傳感器。從而實(shí)現(xiàn)計量性的定位和測量。
如圖2所示，所述的微觸覺測頭系統(tǒng)5為三維微接觸式測頭系統(tǒng)，包括有由框架11、中心連接體9、一端與框架11相連另一端與中心連接體9相連的梁10組成的懸掛結(jié)構(gòu)19，以及由連接座14、形成在連接座14上端的測桿13和形成在測桿13端部的測端12組成的測頭15構(gòu)成，其測頭15的連接座14固定設(shè)置在懸掛結(jié)構(gòu)19的中心連接體9上。
其中，測桿和測端作為位移傳遞單元，懸掛結(jié)構(gòu)中的梁作為敏感檢測單元。測端的位移傳遞到懸掛結(jié)構(gòu)的中心連接體，引起懸掛結(jié)構(gòu)中的敏感元件梁/膜的應(yīng)力發(fā)生變化，并通過后面所要敘述的分布在敏感元件上的壓阻檢測出應(yīng)力的變化。
如圖3所示，所述的中心連接體9包括有中心連接塊9a和固定在中心連接塊9a上的定位連接塊9b，定位連接塊9b的中心部形成有與測頭15的連接座14直徑相同的內(nèi)螺紋孔16，在測頭15的連接座14下端部形成與內(nèi)螺紋孔16相匹配的外螺紋17。其中，內(nèi)螺紋孔16是采用微加工技術(shù)，在定位連接塊9b的中心部開孔，然后利用超精密加工技術(shù)加工螺紋套。測頭15的連接座14與定位連接塊9b通過內(nèi)螺紋孔16和外螺紋17連接。實(shí)現(xiàn)了測桿13的自定位和在中心連接體9表面的對中，提高了定位的垂直度和測桿13的定位精度。
如圖4所示，所述的中心連接體9的中心部設(shè)置有定位環(huán)18，定位環(huán)18是利用微加工方法在中心連接體9的表面刻成的環(huán)。定位環(huán)18的內(nèi)徑與測頭15的連接座14的外徑相同，測頭15的連接座14鑲嵌在定位環(huán)18內(nèi)。提高了測桿與懸掛結(jié)構(gòu)粘和時的定位準(zhǔn)確性。即，提高了測桿的定位精度。
如圖5a～圖5f所示，所述的懸掛結(jié)構(gòu)19可以選用四梁結(jié)構(gòu)、八梁結(jié)構(gòu)、三角形結(jié)構(gòu)、邊緣梁結(jié)構(gòu)、對角梁結(jié)構(gòu)、中心對角結(jié)構(gòu)。
其中四梁和八梁結(jié)構(gòu)基本類似，應(yīng)力分布線性度好，測試信號之間的耦合較小，但八梁結(jié)構(gòu)的剛度更?。蝗切螒覓旖Y(jié)構(gòu)采用了折梁設(shè)計，折梁可以通過調(diào)整粗桿的參數(shù)使三軸剛度相等，同時具有最高的安全系數(shù)和較均勻的應(yīng)力分布，但是由于測試信號之間的耦合嚴(yán)重，不太適合多維測量；邊緣梁結(jié)構(gòu)測試信號之間的相互干擾最小，檢測靈敏度和應(yīng)力分布與四梁結(jié)構(gòu)類似；對角梁在外框架尺寸固定的情況下可以獲得較長的梁，但是由于加工造成的角度的影響，壓阻不能排布在應(yīng)力變化最大的區(qū)域，從而降低了檢測靈敏度；而中心對角梁的梁長最短，安全系數(shù)最低，不適合大量程測量。由此，需要根據(jù)不同的測試需求，選用適合的懸掛結(jié)構(gòu)。
如圖6所示，所述的測頭系統(tǒng)5中測端的軸向位移檢測采用電容和壓阻相結(jié)合的方式，減了少軸間信號耦合。具體結(jié)構(gòu)是在懸掛結(jié)構(gòu)19的中心連接體9未安裝測頭15的那一面上連接有電容背板20，構(gòu)成電容檢測結(jié)構(gòu)，電容背板20通過導(dǎo)線與電控部分的信號輸入端相連接。當(dāng)測端受到軸向負(fù)載的時候，中心連接體有相應(yīng)的位移，電容發(fā)生變化，實(shí)現(xiàn)對測端沿著測桿的軸向運(yùn)動的檢測，通過與壓阻檢測的軸向測量結(jié)果的對比，減少了測量過程中的軸間耦合問題。有效地解決了平面位移和軸向位移信號的耦合問題。
如圖7、圖8a、圖8b、圖8c所示，所述的測頭系統(tǒng)5還可以采用三維檢測的壓阻排布和電橋檢測方式，具體結(jié)構(gòu)是在懸掛結(jié)構(gòu)19的4個梁10上分別設(shè)置有電阻，共設(shè)置有12個壓阻，使每個測量方向采用4個電阻差動檢測，獲得了較高的測量靈敏度，并減小不同方向測試信號之間的干擾。同時根據(jù)壓阻排布設(shè)置有惠斯通全橋電路，惠斯通全橋電路的輸入端接電源S，輸出端A與電控部分的信號輸入端相連接。這種排布結(jié)構(gòu)在測頭受到某一個方負(fù)載的時候，另外兩個軸的檢測電阻不發(fā)生變化，而該方向檢測電阻的變化成兩兩相反的趨勢，通過惠斯通全橋電路輸出差動信號，實(shí)現(xiàn)了壓阻的差動檢測，獲得了較高的測量靈敏度，并減小不同方向測試信號之間的干擾，以及溫度氣壓等環(huán)境變化的干擾。
如圖9所示，本發(fā)明的坐標(biāo)測量的一個實(shí)施例，通過納米測量機(jī)的電磁驅(qū)動器和壓電陶瓷驅(qū)動器，以最小1nm的步距令載物臺沿著三個方向微動，載物臺上固定的被測樣品接觸到測端的時候，中心連接體發(fā)生平動和轉(zhuǎn)動，使梁發(fā)生彎曲，梁上的壓阻發(fā)生變化，惠斯通電橋的輸出電壓也發(fā)生相應(yīng)的變化，變化的幅度和施加的位移約束成正比。利用納米測量機(jī)三個方向激光干涉儀讀出的載物臺位移變化，建立其測端偏移/電壓輸出的關(guān)系，實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)的幾何量測量功能。
如圖10所示，本發(fā)明的微結(jié)構(gòu)形貌掃描測量一個實(shí)施例，與微結(jié)構(gòu)坐標(biāo)測量不同的是，當(dāng)測頭和被測樣品接觸的時候，測頭只檢測Z軸的負(fù)載變化，通過測定好的測端偏移/電壓輸出關(guān)系，設(shè)定一個測端和樣品接觸到一定程度下測頭輸出電壓的閾值，并將這個值放大到10V后反饋給納米測量機(jī)，使納米測量機(jī)控制載物臺運(yùn)動，使測頭和被測物的接觸程度保持不變。在此基礎(chǔ)上，控制納米測量機(jī)運(yùn)動，對被測物進(jìn)行掃描并記錄每個掃描點(diǎn)的坐標(biāo)，然后用軟件重現(xiàn)出被測物體的表明形貌，實(shí)現(xiàn)對被測物的形貌表征。
本發(fā)明中所使用的納米測量機(jī)是現(xiàn)有的公知的納米測量機(jī)。
本發(fā)明為了敘述準(zhǔn)確、方便，懸掛系統(tǒng)均以四梁結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行詳細(xì)描述，但四梁結(jié)構(gòu)、三角形結(jié)構(gòu)、邊緣梁結(jié)構(gòu)、對角梁結(jié)構(gòu)、中心對角結(jié)構(gòu)、八梁結(jié)構(gòu)等懸掛結(jié)構(gòu)同樣適用與構(gòu)建類似的壓阻式微接觸測頭以及微結(jié)構(gòu)三維幾何量測試系統(tǒng)，均在發(fā)明范圍之內(nèi)。本發(fā)明對公開和揭示的所有組合和方法可通過借鑒本文公開內(nèi)容產(chǎn)生，盡管本發(fā)明的組合和方法已通過詳細(xì)實(shí)施過程進(jìn)行了描述，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員明顯能在不脫離本發(fā)明內(nèi)容、精神和范圍內(nèi)對本申請所述的方法和裝置進(jìn)行拼接或改動，或增減某些部件，更具體地說，所有相類似的替換和改動對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是顯而易見的，他們都被視為包括在本發(fā)明精神、范圍和內(nèi)容之中。
權(quán)利要求
1.一種基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，其特征在于，包括有作為定位測量平臺的納米測量機(jī)，還設(shè)置有能夠?qū)ξ⑵骷臀⒔Y(jié)構(gòu)的幾何量進(jìn)行測量的基于壓阻檢測的微觸覺測頭系統(tǒng)(5)，所述的微觸覺測頭系統(tǒng)(5)是通過設(shè)置在納米測量機(jī)上部的固定支架(7)被固定在納米測量機(jī)的上部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，其特征在于，所述的作為定位測量平臺的納米測量機(jī)為高精度、大范圍的納米測量機(jī)，包括有電控部分；用于放置被測物體的玻璃載物臺(8)；發(fā)出的光分別從X、Y、Z三個方向聚集在微觸覺測頭系統(tǒng)(5)與被測物體的接觸點(diǎn)(6)上的排列符合阿貝測量原理的X方向干涉儀(1)、Y方向干涉儀(2)、Z方向干涉儀(3)，以及支撐X方向干涉儀(1)、Y方向干涉儀(2)、Z方向干涉儀(3)的零膨脹支架(4)；分別設(shè)置在納米測量機(jī)計量學(xué)框架上的并與電控部分相連的兩個角度傳感器。從而實(shí)現(xiàn)計量性的定位和測量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，其特征在于，所述的微觸覺測頭系統(tǒng)(5)為三維微接觸式測頭系統(tǒng)，包括有由框架(11)、中心連接體(9)、一端與框架(11)相連另一端與中心連接體(9)相連的梁(10)組成的懸掛結(jié)構(gòu)(19)，以及由連接座(14)、形成在連接座(14)上端的測桿(13)和形成在測桿(13)端部的測端(12)組成的測頭(15)構(gòu)成，其測頭(15)的連接座(14)固定設(shè)置在懸掛結(jié)構(gòu)(19)的中心連接體(9)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，其特征在于，所述的中心連接體(9)包括有中心連接塊(9a)和固定在中心連接塊(9a)上的定位連接塊(9b)，定位連接塊(9b)的中心部形成有與測頭(15)的連接座(14)直徑相同的內(nèi)螺紋孔(16)，在測頭(15)的連接座(14)下端部形成與內(nèi)螺紋孔(16)相匹配的外螺紋(17)，測頭(15)的連接座(14)與定位連接塊(9b)通過內(nèi)螺紋孔(16)和外螺紋(17)連接。實(shí)現(xiàn)了測桿13的自定位和在中心連接體9表面的對中，提高了定位的垂直度和測桿13的穩(wěn)定程度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，其特征在于，所述的中心連接體(9)的中心部設(shè)置有定位環(huán)(18)，定位環(huán)(18)的內(nèi)徑與測頭(15)的連接座(14)的外徑相同，測頭(15)的連接座(14)鑲嵌在定位環(huán)(18)內(nèi)。提高了測桿的定位精度。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，其特征在于，所述的懸掛結(jié)構(gòu)(19)選用四梁結(jié)構(gòu)、八梁結(jié)構(gòu)、三角形結(jié)構(gòu)、邊緣梁結(jié)構(gòu)、對角梁結(jié)構(gòu)、中心對角梁結(jié)構(gòu)中的一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，其特征在于，所述的測頭系統(tǒng)(5)中測端的軸向位移檢測采用電容和壓阻相結(jié)合的方式，具體結(jié)構(gòu)是在懸掛結(jié)構(gòu)(19)未安裝測頭(15)的那一面上連接有電容背板(20)，電容背板(20)通過導(dǎo)線與電控部分的信號輸入端相連接。有效地解決了平面位移和軸向位移信號的耦合問題。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，其特征在于，所述的測頭系統(tǒng)(5)還可以采用三維檢測的壓阻排布和電橋檢測方式，具體結(jié)構(gòu)是在懸掛結(jié)構(gòu)(19)的4個梁(10)上分別設(shè)置有電阻，共設(shè)置有12個壓阻，使每個測量方向采用4個電阻差動檢測，獲得了較高的測量靈敏度，并減小不同方向測試信號之間的干擾。同時根據(jù)壓阻排布設(shè)置有惠斯通全橋電路，惠斯通全橋電路的輸入端接電源，輸出端與電控部分的信號輸入端相連接，輸出差動信號并減少溫度氣壓等環(huán)境變化的干擾。
全文摘要
本發(fā)明公開一種基于納米測量機(jī)和微觸覺測頭的微幾何量測量裝置，包括有作為定位測量平臺的納米測量機(jī)，還設(shè)置有能夠?qū)ξ⑵骷臀⒔Y(jié)構(gòu)的幾何量進(jìn)行測量的基于壓阻檢測的微觸覺測頭系統(tǒng)，所述的微觸覺測頭系統(tǒng)是通過設(shè)置在納米測量機(jī)上部的固定支架被固定在納米測量機(jī)的上部。本發(fā)明克服了以原子力顯微鏡和掃描隧道顯微鏡為代表的掃描探針顯微技術(shù)在測量范圍上的局限性，拓展了光學(xué)測量等其他測量手段的測量對象的范圍，實(shí)現(xiàn)對包括微力、位移、尺寸、形貌特征等參數(shù)在內(nèi)的微結(jié)構(gòu)幾何量的測量和表征。解決了在微加工制造和微結(jié)構(gòu)測試領(lǐng)域?qū)缀瘟繙y量的方法和裝置的迫切需求。本發(fā)明提高了測量的精度，將測量范圍延展到微觀領(lǐng)域。
文檔編號G01B7/02GK1975322SQ20061012981
公開日2007年6月6日 申請日期2006年12月4日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月4日
發(fā)明者栗大超, 李源, 趙大博, 傅星, 胡小唐 申請人:天津大學(xué)