專利名稱:衛(wèi)星整星表面熱控材料原位測試探頭調(diào)整平臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種高精度機械位置控制設(shè)備,具體說來,涉及一種用于衛(wèi)星整星表
面熱控材料原位測試探頭的快速調(diào)整平臺。
背景技術(shù):
為掌握衛(wèi)星在生產(chǎn)過程中以及出廠前表面熱控材料性能的變化情況,從而更好的 確定和判斷衛(wèi)星的性能狀況,目前我國生產(chǎn)的部分衛(wèi)星已經(jīng)開始使用表面原位測量技術(shù)對 熱控性能進行監(jiān)督和控制。這一測試主要靠衛(wèi)星整星表面原位測試工裝來完成,其中的測 試探頭部分由便攜式測試儀配合高精度開關(guān)組成。在測量中,測量的準確性主要靠測試儀 小孔和被測表面的平行度以及距離來保證。為了保證上述兩個因素,目前是通過控制測試 探頭四周的四個高精度開關(guān)的位置來做到的。傳統(tǒng)的做法是,將測試探頭安裝在測試工裝 上,對照測試表面模擬板先確定測試探頭與被測表面的距離和平行程度,然后再反復調(diào)整 四個高精度開關(guān),直至所有的高精度開關(guān)都在同一適當?shù)钠矫嫔稀S捎谥苯釉谀M表面附 近調(diào)整開關(guān)位置,不易控制精度,且使四個開關(guān)觸腳處于同一平面十分不易做到,所以往往 導致四個高精度開關(guān)調(diào)整效率和效果都不夠理想。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種調(diào)整平臺,可以高精度、高效率地完成測試探頭位置以 及其四個高精度開關(guān)的調(diào)整,從而大大縮短衛(wèi)星整星表面熱控材料光學性能原位測量的準 備周期,為按時高效、高質(zhì)量的完成每次測量任務提供了有力的支持。
本發(fā)明的可由以下技術(shù)方案完成 —種用于衛(wèi)星整星表面熱控材料原位測試探頭的調(diào)整平臺,調(diào)整平臺的基板呈長 方形,其每個角上均設(shè)置有一個用于調(diào)整高度的調(diào)整螺母,基板的一對相對側(cè)的調(diào)整螺母 之間的基板面上設(shè)置溝槽,在每個溝槽內(nèi)設(shè)置有兩個滑塊,分別位于溝槽的兩端,并通過調(diào) 整螺桿與鄰近的調(diào)整螺母連接,四個滑塊支撐開關(guān)調(diào)整平板,在沒有設(shè)置溝槽的基板的另 一對相對側(cè)上,設(shè)置有探頭支架,探頭支架的兩端從基板的所述另一對相對側(cè)上垂直向上 突出一定高度,然后水平折向基板中部連成整體,呈門形扣在基板上,將開關(guān)調(diào)整平板容納 在探頭支架和基板形成的空間中,探頭支架不接觸到開關(guān)調(diào)整平板,測試探頭放置于探頭 支架的水平部分上。 其中,測試探頭由光學測試儀、高精度測試開關(guān)支架和高精度開關(guān)共同組成,光學 測試儀下方水平地安裝有與測試儀外部形狀匹配的環(huán)形的高精度測試開關(guān)支架,開關(guān)支架 的下表面垂直的設(shè)置有多個高精度開關(guān),開關(guān)均布于開關(guān)支架上。
其中,探頭支架的水平部分不接觸開關(guān)支架和多個高精度開關(guān)。
其中,高精度開關(guān)為四個。 其中,滑塊為缺角的立方體形狀,缺失的體積也是立方體。
本發(fā)明的有益效果在于
3
a.探頭從測試工裝上取下,單獨調(diào)整,避免了在線調(diào)整時難度大和易觸碰被測表 面的危險; b.高精度開關(guān)的觸腳接觸開關(guān)調(diào)整平板,可以精確確定高精度開關(guān)的安裝位置;
c.開關(guān)調(diào)整平臺的四角斜坡開槽保證與滑塊斜面平穩(wěn)貼合,并能限制平板橫向移 動,高度調(diào)整使用滑塊與螺紋螺母機構(gòu),較小的滑塊斜面斜率和螺紋螺母調(diào)整都保證了調(diào) 整平板高度的可精確控制性。
圖l為調(diào)整平臺示意圖。 其中,1為光學測試儀,2為高精度測試開關(guān)支架,3為高精度開關(guān),4為探頭支架,5 為開關(guān)調(diào)整平板,6為滑塊,7為調(diào)整螺母。
具體實施例方式
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明作詳細說明。 光學測試儀1下方水平地安裝有與測試儀1外部形狀匹配的環(huán)形的高精度測試開 關(guān)支架2,開關(guān)支架2的下表面垂直地設(shè)置有多個高精度開關(guān)3,開關(guān)3均布于開關(guān)支架2 上。光學測試儀1、高精度測試開關(guān)支架2和高精度開關(guān)3共同組成測試探頭。通常取四個 開關(guān)3進行測試。 調(diào)整平臺的基板呈長方形,其每個角上均設(shè)置有一個用于調(diào)整高度的調(diào)整螺母7, 基板的一對相對側(cè)的調(diào)整螺母7之間的基板面上設(shè)置溝槽,在每個溝槽內(nèi)設(shè)置有兩個滑塊 6,分別位于溝槽的兩端,并通過調(diào)整螺桿8與鄰近的調(diào)整螺母7連接。四個滑塊6支撐開 關(guān)調(diào)整平板5?;瑝K6為缺角的立方體形狀,缺失的體積也是立方體,這種形狀能限制開關(guān) 調(diào)整平板5的橫向移動。旋轉(zhuǎn)四個角上的調(diào)整螺母7,可以使對應的四個滑塊6在溝槽內(nèi)滑 動,從而使開關(guān)調(diào)整平板5隨之上下移動。在沒有設(shè)置溝槽的基板的另一對相對側(cè)上,設(shè)置 有探頭支架4,探頭支架4的兩端從基板的所述另一對相對側(cè)上垂直向上突出一定高度,然 后水平折向基板中部連成整體,呈門形扣在基板上,將開關(guān)調(diào)整平板5容納在探頭支架4和 基板形成的空間中,但是不接觸到開關(guān)調(diào)整平板5。 將測試探頭放置于探頭支架4之上,使測試儀的探測小孔朝下,此時開關(guān)3與開關(guān)
支架2處于放松狀態(tài)。然后旋轉(zhuǎn)四個角上的調(diào)整螺母7,在上下移動過程中,檢測測試儀的
小孔與開關(guān)調(diào)整平板5之間的相對位置,直至開關(guān)調(diào)整平板5達到合適位置便停止調(diào)整。接
著,再使各個高精度開關(guān)3的觸腳均處于剛好貼合開關(guān)調(diào)整平板5的位置,隨即固定開關(guān)3,
從而完成測試探頭的調(diào)整。最后取下測試探頭,安裝于衛(wèi)星測試工裝之上。 盡管上文對本發(fā)明的具體實施方式
給予了詳細描述和說明,但是應該指明的是,
我們可以依據(jù)本發(fā)明的構(gòu)想對上述實施方式進行各種等效改變和修改,其所產(chǎn)生的功能作
用仍未超出說明書及附圖所涵蓋的精神時,均應在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
一種用于衛(wèi)星整星表面熱控材料原位測試探頭的調(diào)整平臺,其特征在于,調(diào)整平臺的基板呈長方形,其每個角上均設(shè)置有一個用于調(diào)整高度的調(diào)整螺母(7),基板的一相對側(cè)的調(diào)整螺母(7)之間的基板面上設(shè)置溝槽用于定位兩個滑塊(6),分別位于溝槽的兩端,并通過調(diào)整螺桿(8)與鄰近的調(diào)整螺母(7)連接,四個滑塊(6)支撐開關(guān)調(diào)整平板(5),在沒有設(shè)置溝槽的基板的另一對相對側(cè)上,設(shè)置有探頭支架(4),探頭支架(4)的兩端從基板的所述另一對相對側(cè)上垂直向上突出一定高度,然后水平折向基板中部連成整體,呈冂形扣在基板上,將開關(guān)調(diào)整平板(5)容納在探頭支架(4)和基板形成的空間中,探頭支架(4)不接觸到開關(guān)調(diào)整平板(5),測試探頭放置于探頭支架(4)的水平部分上。
2. 如權(quán)利要求l所述的調(diào)整平臺,其特征在于,測試探頭由光學測試儀(1)、高精度測 試開關(guān)支架(2)和高精度開關(guān)(3)共同組成,光學測試儀(1)下方水平地安裝有與光學測 試儀(1)外部形狀匹配的環(huán)形的高精度測試開關(guān)支架(2),高精度測試開關(guān)支架(2)的下表 面垂直的設(shè)置有多個高精度開關(guān)(3),高精度開關(guān)(3)均布于高精度測試開關(guān)支架(2)上。
3. 如權(quán)利要求2所述的調(diào)整平臺,其特征在于,探頭支架(4)的水平部分不接觸開關(guān)支 架(2)和多個高精度開關(guān)(3)。
4. 如權(quán)利要求2或3所述的調(diào)整平臺,其特征在于,高精度開關(guān)(3)為四個。
5. 如權(quán)利要求l所述的調(diào)整平臺,其特征在于,滑塊(6)為缺角的立方體形狀,缺失的 體積也是立方體。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于衛(wèi)星整星表面熱控材料原位測試探頭的調(diào)整平臺,調(diào)整平臺通過調(diào)整螺母(7)、調(diào)整螺桿(8)和滑塊(6)的高度調(diào)整機構(gòu),可以實現(xiàn)開關(guān)調(diào)整平板(5)距測試探頭距離的精確控制。利用該調(diào)整平臺可以高精度、高效率地完成對高精度開關(guān)和測試探頭位置的調(diào)整,從而大大縮短衛(wèi)星整星表面熱控材料光學性能原位測量的準備周期,為按時高效、高質(zhì)量的完成每次測量任務提供了有力的支持。
文檔編號G01N33/00GK101769912SQ20081018807
公開日2010年7月7日 申請日期2008年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月29日
發(fā)明者丁義剛, 馮偉泉, 劉宇明, 姜利祥, 沈自才, 趙雪, 鄭慧奇 申請人:北京衛(wèi)星環(huán)境工程研究所