專利名稱：一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置。
背景技術(shù)：
反應(yīng)室盤是半導(dǎo)體制造生產(chǎn)設(shè)備中關(guān)鍵核心零件之一，其工作環(huán)境處于無塵高度真空條件下，對于漏真空的控制有著極高的要求。由于反應(yīng)室盤工作的環(huán)境是處在無塵真空條件下的，對其連接外部的工作面上的密封要求是嚴格的，絕對不能有一絲漏真空。正因為如此，所以反應(yīng)室盤在清洗完后，需要進行漏真空測試。因此，一種專用于反應(yīng)室盤漏真空測試的測漏裝置是本領(lǐng)域技術(shù)人員致力于研究的方向之一。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷而提供一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，采用該氦氣測漏裝置可方便地進行反應(yīng)室盤漏真空的測試。本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的本實用新型的一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，包括一平板本體， 該平板本體頂面的中心區(qū)域向下凹陷形成異形凹槽，所述異形凹槽底面上設(shè)有一通孔，且該通孔底部向下延伸形成一接口，所述平板本體頂面上且圍繞于所述異形凹槽的外周處設(shè)有內(nèi)嵌密封圈的溝槽。上述的一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，其中，所述異形凹槽的橫截面為鎖孔形。上述的一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，其中，所述平板本體的頂面和異形凹槽的底面均為鏡面處理表面。上述的一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，其中，所述氦氣測漏裝置由不銹鋼制成。本實用新型具有以下優(yōu)點1.采用本實用新型氦氣測漏裝置進行反應(yīng)室盤漏真空測試，操作簡單容易，僅需要將反應(yīng)室盤“放”到本實用新型氦氣測漏裝置上即可，反應(yīng)室盤與測漏裝置間的接合方式清楚且簡單，可有效避免作業(yè)人員因為步驟繁多所造成的錯誤機率；2.本實用新型氦氣測漏裝置保養(yǎng)維護容易，由于測漏裝置采用不銹鋼進行制作， 堅固且耐用，保養(yǎng)僅需要定期清潔外觀，以保持測漏裝置干凈即可。

圖1是本實用新型的立體圖；圖2是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；[0016]圖3是圖2的仰視圖；圖4是本實用新型工作狀態(tài)的示意圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明。請參閱圖1至圖3，圖中示出了本實用新型用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，包括一平板本體1，平板本體1頂面的中心區(qū)域向下凹陷形成異形凹槽2，異形凹槽2 的橫截面為鎖孔形，異形凹槽2底面上設(shè)有一通孔3，該通孔3底部向下延伸形成接口 31， 平板本體1頂面上還設(shè)有內(nèi)嵌密封圈的溝槽4。如圖2所示，溝槽4圍繞異凹槽2的外周輪廓而設(shè)，且位于異形凹槽2右下部分溝槽4向外延伸形成一直角邊41。平板本體1的頂面和異形凹槽2的底面均經(jīng)過鏡面處理，本實用新型氦氣測漏裝置由不銹鋼制成。如圖4所示，將反應(yīng)室盤4放置于本實用新型氦氣測漏裝置平板本體1的上方，管道一端連接在平板本體1下端的接口 31上，一端分別與真空泵和氦氣測漏機相連。啟動真空泵，將異形凹槽2內(nèi)部抽至真空。真空值達到中度真空范圍(133. 322Pa-0. 133Pa)，其中， 真空值能夠達到13. 33Pa以下為理想數(shù)值。啟動氦氣測漏機。在反應(yīng)室盤4外噴入氦氣， 觀察氦氣測漏儀反應(yīng)。如果發(fā)現(xiàn)到漏真空，氦氣測漏儀會發(fā)出警告聲響，并變動真空靈敏值表示漏真空狀況。以上實施例僅供說明本實用新型之用，而非對本實用新型的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實用新型的精神和范圍的情況下，還可以作出各種變換或變型，因此所有等同的技術(shù)方案也應(yīng)該屬于本實用新型的范疇，應(yīng)由各權(quán)利要求所限定。
權(quán)利要求1.一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，其特征在于，所述氦氣測漏裝置包括一平板本體，該平板本體頂面的中心區(qū)域向下凹陷形成異形凹槽，所述異形凹槽底面上設(shè)有一通孔，且該通孔底部向下延伸形成一接口，所述平板本體頂面上且圍繞于所述異形凹槽的外周處設(shè)有內(nèi)嵌密封圈的溝槽。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，其特征在于， 所述異形凹槽的橫截面為鎖孔形。
3.如權(quán)利要求1或2所述的一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，其特征在于，所述平板本體的頂面和異形凹槽的底面均為鏡面處理表面。
4.如權(quán)利要求1或2所述的一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，其特征在于，所述氦氣測漏裝置由不銹鋼制成。
專利摘要本實用新型涉及一種用于反應(yīng)室盤漏真空測試的氦氣測漏裝置，包括一平板本體，該平板本體頂面的中心區(qū)域向下凹陷形成異形凹槽，所述異形凹槽底面上設(shè)有一通孔，且該通孔底部向下延伸形成一接口，所述平板本體頂面上且圍繞于所述異形凹槽的外周處設(shè)有內(nèi)嵌密封圈的溝槽。采用本實用新型氦氣測漏裝置進行反應(yīng)室盤漏真空測試，操作簡單容易，僅需要將反應(yīng)室盤“放”到本實用新型氦氣測漏裝置上即可，反應(yīng)室盤與測漏裝置間的接合方式清楚且簡單，可有效避免作業(yè)人員因為步驟繁多所造成的錯誤；本實用新型氦氣測漏裝置保養(yǎng)維護容易，由于測漏裝置采用不銹鋼進行制作，堅固且耐用，保養(yǎng)僅需要定期清潔外觀，以保持測漏裝置干凈即可。
文檔編號G01M3/20GK202267577SQ20112042590
公開日2012年6月6日 申請日期2011年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月1日
發(fā)明者陳博剛 申請人:上海科秉電子科技有限公司, 科治新技股份有限公司